光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法技术

本发明专利技术提供了光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法。该光刻胶树脂溶液包括溶剂和光刻胶树脂，光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。将抗氧剂或阻聚剂作为稳定剂应用至光刻胶树脂溶液中，起到了稳定作用，使得光刻胶溶液的保存稳定性得以改善。同时，该稳定剂的存在不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响，因此不需要在应用时将其分离出来，即不会对光刻胶树脂的应用带来不必要的麻烦。

【技术实现步骤摘要】
光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法
本专利技术涉及光刻材料领域，具体而言，涉及一种光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法。
技术介绍
光刻胶树脂是制备光刻胶的重要原料。光刻胶广泛应用于液晶显示、平板显示等行业，其质量的好坏直接决定显示器显示效果的优劣。而光刻胶树脂的稳定性等特性直接决定光刻胶的应用效果。目前市售的光刻胶树脂，其稀释液的稳定性不是特别好，因此，如何提高光刻胶树脂的存储稳定性，从而提高光刻胶的稳定性显得十分重要。对于试验所用的树脂，其结构表示如下式a：式中：R1，R2，R3，R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子或苯基等基团；R5表示H原子或甲基；A表示-CO-(羰基)、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基、9，9-咔唑基等基团中的一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1，Y2独立表示H原子、-OC-(COOH)m(m＝1,2,3)饱和羧酸基团，n为1～20中的任意一个整数。我们根据已有文献制备的BM光刻胶树脂，结构与上述结构式类似，主要存在于红、绿、蓝各色光刻胶之间，可以有效避免串色，显著改善图像对比度，使画面色彩看起来更鲜艳；具有精确的分辨率、良好的光透性、良好的机械性能。对LCD显示器的性能同样起着至关重要的作用。相关树脂的合成方法简述为：以双酚类衍生物(含有两个缩水甘油醚基团的环氧化合物)与(甲基)丙烯酸反应，生成具有羟基的化合物，再以饱和二羧酸或者四羧酸及其酸酐中的至少一种反应，得到环氧丙烯酸酯和酸的加成产物，即为上式所示结构。此处双酚类衍生物是具有式b结构特点的环氧化合物：上式中R1，R2，R3，R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子或苯基等基团；R5表示H原子或甲基；A表示-CO-(羰基)、-CH2-、-SO2-、-C(CH)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基等基团中的一种，优选的取代基团为9,9-芴基。L表示0-10中的任意一个的整数，优选为0、1或2。另外苯酚酚醛型环氧化合物、甲酚酚醛型环氧化合物等含有两个缩水甘油醚基团的化合物，也可以应用于树脂组合物的合成。双酚类环氧化合物式c与(甲基)丙烯酸(结构式：CH2＝CR5-COOH)，按照1/2的mol比反应，合成下述一般式式d所示的双酚型环氧丙烯酸酯。产物式d在合适溶剂中(优选丙二醇单甲醚乙酸酯)与上文提到的酸性成分加热反应，制备出式a所示的相关树脂。式中R1、R2、R3、R4、R5和A与式a中表述一致。由于树脂组合物中存在较多的活性基团(羟基、羧基、双键等)，其存放稳定性受温度等条件影响较大，一般情况下，树脂溶液需要冷藏保存-10℃～5℃。而配成丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)稀释溶液(2％的PGMEA溶液)时，存放过程溶液很容易变浑浊，影响后期配制成光刻胶的储存和应用。目前，自有树脂的应用效果较好，但其稀释液的存放稳定性也不理想。因此，设法提高树脂稀释液的存放稳定性，对提高光刻胶的存储稳定性和应用效果具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法，以解决现有技术中光刻胶树脂存储稳定性差的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。进一步地，上述稳定剂的用量为溶剂和光刻胶树脂总质量的0.001～0.10％。进一步地，上述稳定剂的用量为溶剂和光刻胶树脂总质量的0.01～0.03％。进一步地，上述光刻胶树脂具有以下结构式：其中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子和苯基中的任意一种；R5表示H原子或甲基；A表示羰基、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基中的任意一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1和Y2各自独立表示H原子和-OC-(COOH)m饱和羧酸基团中的任意一种，其中m为1、2或3，n为1～20中的任意一个整数。进一步地，上述稳定剂选自对苯醌、甲基氢醌、对羟基苯甲醚、2-叔丁基对苯二酚、2,5-二叔丁基对苯二酚中的一种或几种的混合物。进一步地，上述光刻胶树脂与溶剂的重量比为45：55～55：45。进一步地，上述光刻胶树脂溶液包括稀释剂。进一步地，上述光刻胶树脂溶液中的固含量为1～5％，优选稀释剂为丙二醇甲醚乙酸酯。根据本专利技术的另一方面，提供了一种上述任一种的光刻胶树脂溶液的制备方法，该制备方法包括：在20～30℃下，向溶剂和光刻胶树脂的混合液中添加稳定剂和可选的稀释剂，并以100～300转/min的转速搅拌1～5h，得到光刻胶树脂溶液。根据本专利技术的另一方面，提供了一种上述任一种的光刻胶树脂溶液的保存方法，该光刻胶树脂溶液在-10～5℃下保存。应用本专利技术的技术方案，在对如何提高光刻胶树脂溶液稳定性进行研究时，偶然间发现抗氧剂和阻聚剂也会对光刻胶树脂的自团聚产生抑制作用，因此将其应用至光刻胶树脂溶液中，起到了稳定作用，使得光刻胶溶液的保存稳定性得以改善。同时，该稳定剂的存在不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响，因此不需要在应用时将其分离出来，即不会对光刻胶树脂的应用带来不必要的麻烦。附图说明构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了根据本专利技术的实施例1、7至10以及对比例2的稀释液用于光刻胶后进行显影后的线条外观的测试结果图；图2示出了根据本专利技术的实施例1、7至10以及对比例2的稀释液用于光刻胶后进行显影后的关键尺寸(CD)的测试结果图；以及图3示出了根据本专利技术的实施例1、7至10以及对比例2的稀释液用于光刻胶后进行显影后的解析度的测试结果图。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。如本申请
技术介绍
所分析的，现有技术中的光刻胶树脂溶液的存放稳定性不好，尤其是光刻胶树脂稀释液的存放稳定性不好，容易发生自团聚现象而变得浑浊。为了解决上述问题，本申请提供了一种光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法。在本申请一种典型的实施方式中，提供了一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。通常情况下抗氧剂和阻聚剂用于方式光刻胶树脂和自由基单体、引发剂等聚合过程中的抗氧化以及终止聚合反应，它们通常的作用对象为自由基。本申请在对如何提高光刻胶树脂溶液稳定性进行研究时，偶然间发现抗氧剂和阻聚剂也会对光刻胶树脂的自团聚产生抑制作用，因此将其应用至光刻胶树脂溶液中，起到了稳定作用，使得光刻胶溶液的保存稳定性得以改善。同时，该稳定剂的存在不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响，因此不需要在应用时将其分离出来，即不会对光刻胶树脂的应用带来不必要的麻烦。在本申请一种优选的实施例中，上述光刻胶树脂溶液中稳定剂的重量含量为0.001～0.10％。通过将稳定剂的含量控制在上述范围内，能够实现理想的稳定效果，且不会造成稳定剂不必要的浪费。进一步优选上述光刻胶树脂溶液中稳定剂的重量含量本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，所述稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，所述稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。2.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂的用量为所述溶剂和所述光刻胶树脂总质量的0.001～0.10％。3.根据权利要求2所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂的用量为所述溶剂和所述光刻胶树脂总质量的0.01～0.03％。4.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂具有以下结构式：其中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子和苯基中的任意一种；R5表示H原子或甲基；A表示羰基、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基中的任意一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1和Y2各自独立表示H原子和-OC-(COOH)m饱和羧酸基团中的任意一种，其中m为1、2或3，n为1～20中的任意一个整数。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：钱晓春，胡春青，葛庆余，
申请(专利权)人：常州强力电子新材料股份有限公司，常州强力先端电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32