减反射玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种减反射玻璃及其制备方法。一种减反射玻璃，包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层；玻璃基材为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃；第一高折射率层的材料为Si3N4，厚度为12nm～30nm；第一低折射率层的材料为SiO2，厚度为20nm～40nm；第二高折射率层的材料为Si3N4，厚度为50nm～150nm；第二低折射率层的材料为SiO2，厚度为50nm～100nm；及保护层的材料选自ZrO2、Si3N4和SiC中的至少一种。上述减反射玻璃可见光反射率≤5％，且膜层数量和厚度都有所减少，使得减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述减反射玻璃具有耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，使得减反射玻璃可户外使用。

Antireflection glass and its preparation method

The invention relates to an antireflective glass and a preparation method thereof. An antireflective glass consists of a glass substrate, a first high refractive index layer, a first low refractive index layer, a second high refractive index layer, a second low refractive index layer and a protective layer; a glass substrate is soda-lime glass, borosilicate glass or aluminium-silica glass; a material of the first high refractive index layer is Si3N4 with a thickness of 12-30 nm; and a material of the first low refractive index layer is SiO 2 with a thickness of 20-4 nm. The material of the second high refractive index layer is Si3N4 with a thickness of 50-150 nm; the material of the second low refractive index layer is SiO 2 with a thickness of 50-100 nm; and the material of the protective layer is selected from at least one of ZrO 2, Si3N4 and SiC. The visible light reflectivity of the antireflective glass is less than 5%, and the number and thickness of the film layer are reduced, which makes the thickness of the antireflective glass smaller and meets the needs of miniaturization of the product. At the same time, the antireflective glass has wear resistance, scratch resistance and good acid-alkali corrosion resistance, making the antireflective glass outdoor use.

【技术实现步骤摘要】
减反射玻璃及其制备方法
本专利技术涉及玻璃加工
，特别是涉及减反射玻璃及其制备方法。
技术介绍
众所周知，光在两种介质的界面上会发生反射现象，在当今以玻璃幕墙为外壳的建筑体上，当太阳光照射到玻璃表面时，其反射光会对环境形成严重的光污染。为了解决这些问题，通常在玻璃的表面镀上一定厚度的单层或多层薄膜，目的是为了减少玻璃表面的反射光，这样的光学膜就是减反膜(Anti-reflectionfilm)。然而目前对于玻璃制品的轻质化有了更多要求，在达到玻璃制品使用需求的基础上也需要减反射玻璃的厚度更小，且对于户外使用的减反膜玻璃，对其耐划伤、耐研磨及耐腐蚀性也有了更高的要求。
技术实现思路
基于此，有必要针对减反射玻璃厚度和耐划伤、耐研磨及耐腐蚀性不足的问题，提供一种减反射玻璃及其制备方法。一种减反射玻璃，所述减反射玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层；所述玻璃基材为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃；所述第一高折射率层的材料为Si3N4，所述第一高折射率层的厚度为12nm～30nm；所述第一低折射率层的材料为SiO2，所述第一低折射率层的厚度为20nm～40nm；所述第二高折射率层的材料为Si3N4，所述第二高折射率层的厚度为50nm～150nm；所述第二低折射率层的材料为SiO2，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm；及所述保护层的材料选自ZrO2、Si3N4和SiC中的至少一种。在其中一个实施方式中，所述玻璃基板的厚度为3mm～19mm。在其中一个实施方式中，所述保护层的厚度为2nm～20nm。在其中一个实施方式中，所述第一高折射率层的厚度为12nm～20nm。在其中一个实施方式中，所述第一低折射率层的厚度为20nm～35nm。在其中一个实施方式中，所述第二高折射率层的厚度为80nm～140nm。在其中一个实施方式中，所述第二低折射率层的厚度为50nm～90nm。一种减反射玻璃的制备方法，包括以下步骤：在玻璃基板上依次沉积第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层；其中，所述玻璃基板为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃；所述第一高折射率层的材料为Si3N4，所述第一高折射率层的厚度为12nm～30nm；所述第一低折射率层的材料为SiO2，所述第一低折射率层的厚度为20nm～40nm；所述第二高折射率层的材料为Si3N4，所述第二高折射率层的厚度为50nm～150nm；所述第二低折射率层的材料为SiO2，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm；及所述保护层的材料选自ZrO2、Si3N4和SiC中的至少一种。在其中一个实施方式中，采用磁控溅射的方式在所述玻璃基板上依次沉积第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层。在其中一个实施方式中，所述磁控溅射的功率为15KW～75KW；所述磁控溅射的动态沉积率为1.2nm·(m/min)/KW～4.5nm·(m/min)/KW；所述磁控溅射的真空度为3*10-3mbar～8*10-3mbar。上述减反射玻璃，由于包括依次层叠于玻璃基板的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层，且对上述膜层的材料及厚度进行限定，使得上述减反射玻璃的可见光反射率≤5％，且上述减反射玻璃膜层数量和厚度都有所减少，使得减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述减反射玻璃具有耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，使得减反射玻璃可户外使用。附图说明图1为一实施方式的减反射玻璃的结构示意图；图2为一实施方式的减反射玻璃的制备方法的工艺流程图。具体实施方式下面将结合具体实施方式及附图对减反射玻璃及其制备方法作进一步的详细说明。请参阅图1，一实施方式的减反射玻璃100包括玻璃基板110、第一高折射率层120、第一低折射率层130、第二高折射率层140、第二低折射率层150及保护层160。在图示的实施方式中，玻璃基板110为经过清洗抛光处理后的玻璃基板。在其中一个实施方式中，玻璃基板110的厚度为3mm～19mm。优选的，玻璃基板的厚度为3mm、4mm、5mm、6mm、8mm、10mm、12mm、15mm或19mm。在其中一个实施方式中，玻璃基板110的最大玻璃尺寸为3300mm*6000mm。在其中一个实施方式中，玻璃基板110为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃。在其中一个实施方式中，玻璃基板110的的折射率为1.47～1.55。在图示的实施方式中，第一高折射率层120层叠于玻璃基板110的表面。第一高折射率层120的材料为Si3N4。在其中一个实施方式中，第一高折射率层120的折射率为2.0～2.35。在其中一个实施方式中，第一高折射率层120的厚度为12nm～30nm。优选的，第一高折射率层120的厚度为12nm～20nm。更优选的，第一高折射率层120的厚度为12nm～18nm。第一高折射率层120主要起到和玻璃基板连接的作用，第一高折射率层120也能调节反射色性能，并阻挡玻璃中碱金属离子的扩散。在图示的实施方式中，第一低折射率层130层叠于第一高折射率层120远离玻璃基板110的表面。第一低折射率层130的材料为SiO2。在其中一个实施方式中，第一低折射率层130的折射率为1.47～1.53。在其中一个实施方式中，第一低折射率层130的厚度为20nm～40nm。优选的，第一低折射率层130的厚度为20nm～35nm。更优选的，第一低折射率层130的厚度为25nm～30nm。第一低折射率层130的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。在图示的实施方式中，第二高折射率层140层叠于第一低折射率层130远离第一高折射率层120的表面。第二高折射率层140的材料为Si3N4。在其中一个实施方式中，第二高折射率层140的折射率为2.0～2.35。在其中一个实施方式中，第二高折射率层140的厚度为50nm～150nm。优选的，第二高折射率层140的厚度为80nm～140nm。更优选的，第二高折射率层140的厚度为100nm～120nm。第二高折射率层140的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。在图示的实施方式中，第二低折射率层150层叠于第二高折射率层140远离第一低折射率层130的表面。第二低折射率层150的材料为SiO2。在其中一个实施方式中，第二低折射率层150的折射率为1.47～1.53。在其中一个实施方式中，第二低折射率层150的厚度为50nm～100nm。优选的，第二低折射率层150的厚度为50nm～90nm。更优选的，第二低折射率层150的厚度为50nm～80nm。第二低折射率层150的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。在图示的实施方式中，保护层160层叠于第二低折射率层150远离第二高折射率层140放入表面。在其中一个实施方式中，保护层160的材料选自ZrO2、Si3N4和SiC中的至少一种。优选的，保护层160的材料选自ZrO2和Si3N4中的至少一种。更优选的，保护层160的材料为Si3N4。在其中一个实施方式中，保护层160的厚度为2nm～20nm。优选的，保护层160的厚度为4nm～15nm。更优选的，保护层1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种减反射玻璃，其特征在于，所述减反射玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层；所述玻璃基材为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃；所述第一高折射率层的材料为Si3N4，所述第一高折射率层的厚度为12nm～30nm；所述第一低折射率层的材料为SiO2，所述第一低折射率层的厚度为20nm～40nm；所述第二高折射率层的材料为Si3N4，所述第二高折射率层的厚度为50nm～150nm；所述第二低折射率层的材料为SiO2，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm；及所述保护层的材料选自ZrO2、Si3N4和SiC中的至少一种。

【技术特征摘要】
1.一种减反射玻璃，其特征在于，所述减反射玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层；所述玻璃基材为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃；所述第一高折射率层的材料为Si3N4，所述第一高折射率层的厚度为12nm～30nm；所述第一低折射率层的材料为SiO2，所述第一低折射率层的厚度为20nm～40nm；所述第二高折射率层的材料为Si3N4，所述第二高折射率层的厚度为50nm～150nm；所述第二低折射率层的材料为SiO2，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm；及所述保护层的材料选自ZrO2、Si3N4和SiC中的至少一种。2.根据权利要求1所述的减反射玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的厚度为3mm～19mm。3.根据权利要求1所述的减反射玻璃，其特征在于，所述保护层的厚度为2nm～20nm。4.根据权利要求1所述的减反射玻璃，其特征在于，所述第一高折射率层的厚度为12nm～20nm。5.根据权利要求1所述的减反射玻璃，其特征在于，所述第一低折射率层的厚度为20nm～35nm。6.根据权利要求1所述的减反射玻璃，其特征在于，所述第二高折射率层的厚度为80nm～140nm。7.根据权利要求1所述的减反射玻璃，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭小安，王琦，
申请(专利权)人：中国南玻集团股份有限公司，深圳南玻应用技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44