一种硅片传输装置及硅片传输系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片传输装置及硅片传输系统，涉及太阳能加工设备技术领域。该硅片传输装置包括运输台、吸气组件及限位结构，运输台用于将第一硅片和第二硅片先后运至指定位置；吸气组件位于指定位置的上方并能够对先到达指定位置的第一硅片，以使第一硅片与运输台之间形成容纳第二硅片的容纳空间；限位结构对应指定位置。该硅片传输装置中，先到达指定位置的第一硅片在吸气组件的施力作用下与运输台脱离，第二硅片通过运输台运输至容纳空间内，使得第二硅片位于第一硅片的底部，从而实现硅片在运输过程中的堆叠；且限位结构能够限制第一硅片和第二硅片的位置，避免第一硅片或第二硅片偏离，有利于硅片的运输与堆叠。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片传输装置及硅片传输系统
本技术涉及太阳能电池加工设备
，尤其涉及一种硅片传输装置及硅片传输系统。
技术介绍
在硅片的加工生产中，为了满足不同的应用需求，时常需要将硅片进行各种化学处理，随着自动化生产的普及，硅片一般会通过流水线运送至各个加工工位，而为了提高生产效率，有些加工工段需要将一个硅片放入另一个硅片底部进行堆叠，以便后续加工、运输或收纳。现有技术中，硅片的堆叠一般通过人力实现，不仅费时费力、堆叠效率低、不利于产业化、成本高，而且很容易因操作不当导致硅片污染或破损。因此，亟需一种新型的硅片传输装置来解决上述问题。
技术实现思路
本技术的一个目的在于提出一种硅片传输装置，能够是硅片在传输过程中堆叠，便于硅片的后续加工、运输及收纳。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种硅片传输装置，包括：运输台，用于将第一硅片和第二硅片先后运至指定位置；吸气组件，所述吸气组件位于所述指定位置的上方并能够以间歇的方式对先到达所述指定位置的所述第一硅片，以使所述第一硅片与所述运输台之间形成容纳所述第二硅片的容纳空间；及限位结构，所述限位结构对应所述指定位置。其中，所述吸气组件包括：吸盘、第一固定架和抽真空装置，所述第一固定架设置在所述硅片传输装置的机架上，所述抽真空装置设置在固定架上，所述抽真空装置连接所述吸盘，所述吸盘朝向所述运输台设置。其中，所述吸盘能够相对所述机架上下和/或沿所述硅片的运输方向滑动。其中，所述硅片传输装置还包括收纳机构，所述收纳机构对应所述指定位置，所述收纳机构的内部设置有所述限位结构。其中，所述限位结构包括上下对应设置的上限位件、下限位件以及设置在所述上限位件与所述下限位件之间的侧面挡板。其中，所述上限位件和所述下限位件之间的距离至少为所述第一硅片和所述第二硅片的厚度之和。其中，所述运输台包括一条运输轨道，所述指定位置位于所述运输轨道的运输终端；或所述运输台包括两条呈直角的运输轨道，所述指定位置位于两条所述运输轨道延伸方向的交汇处。其中，当所述运输台包括一条运输轨道时，所述运输轨道的运输终端还包括伸缩台；当所述运输台包括两条呈直角的运输轨道时，两条所述运输轨道中至少一条运输轨道的运输终端包括伸缩台。本技术的另一个目的在于提出一种硅片传输系统，能够是硅片在传输过程中堆叠，便于硅片的储存和加工。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种硅片传输系统，包括控制系统，还包括如上所述的硅片传输装置，所述控制系统分别与所述运输台和所述吸气组件连接。其中，所述控制系统包括PLC控制系统和感应装置，所述感应装置对应所述指定位置，用于检测所述第一硅片的位置，所述PLC控制系统分别与所述感应装置、所述运输台和所述吸气组件连接。有益效果：本技术提供了一种硅片传输装置及硅片传输系统。该硅片传输装置中，先到达指定位置的第一硅片在吸气组件的施力作用下与运输台脱离形成容纳第二硅片的容纳空间，第二硅片通过运输台运输至容纳空间内，使得第二硅片位于第一硅片的底部，从而实现硅片在运输过程中的堆叠，方便硅片的后续加工、运输及收纳；且指定位置处设置有限位结构，能够限制传送至指定位置的第一硅片和第二硅片的位置，避免第一硅片或第二硅片偏离，有利于硅片的运输与堆叠。附图说明图1是本技术实施例1提供的花篮与硅片的结构示意图；图2是本技术实施例1提供的硅片运输系统中吸气组件向第一硅片施力时的结构示意图；图3是本技术实施例1提供的硅片运输系统中第一硅片与第二硅片堆叠时的结构示意图；图4是本技术实施例1提供的硅片运输系统的部分结构示意图；图5是本技术实施例1提供的运输台的结构示意图；图6是本技术实施例1提供的吸气组件的结构示意图；图7是本技术实施例1提供的吸盘的结构示意图；图8是本技术实施例2提供的硅片运输系统的部分结构示意图；其中：1、运输台；11、传输架；12、第一皮带组件；121、第一皮带；122、第一皮带轮；21、伸缩台；22、第二皮带组件；221、第二皮带；222、第二皮带轮；4、吸气组件；41、吸盘；411、吸附孔；421、第一支架；4211、长条孔；422、第二支架；6、花篮；61、侧板；62、侧部支撑杆；621、卡齿；63、底部支撑杆；7、硅片。具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。实施例1本实施例提供了一种硅片传输系统，该硅片传输系统可以应用于太阳能电池制备的过程中，例如制绒工艺内，用于运输硅片，并可以将运输过程中的硅片堆叠，以方便硅片的储存或加工。硅片传输系统包括硅片传输装置及控制组件。硅片传输装置包括机架、运输台和外力机构。外力机构和运输台均可以安装于机架上。运输台可以用于承载硅片，并将第一硅片和第二硅片先后运至指定位置处，以便进行堆叠。外力机构与指定位置对应，以便能够对先到达指定位置的第一硅片施加外力，以使第一硅片与运输台之间形成容纳第二硅片的容纳空间。具体地，先到达指定位置的硅片为第一硅片，后到达指定位置的硅片为第二硅片。由于外力机构向第一硅片施力，因此，外力机构可以采用间歇的方式向第一硅片施力，将第一硅片的部分或全部与运输台脱离后，第二硅片在运输台的作用下运输至第一硅片与运输台形成的容纳空间内，之后外力机构停止施力，第一硅片落下，且至少部分与第二硅片重叠。本实施例中，外力机构可以包括吸气组件4。吸气组件4可以位于达到指定位置的的上方，从而向到达指定位置的第一硅片施加向上的吸附力，将第一硅片的部分或整体向上抬起。在第一硅片抬起的过程中，为避免第一硅片偏离指定位置，硅片传输装置还可以包括限位结构，限位结构对应指定位置设置，以便限制传送至指定位置的第一硅片和第二硅片的位置，避免第一硅片或第二硅片偏离，有利于硅片的运输与堆叠。具体地，限位结构可以包括下限位件以及与下限位件上表面垂直的侧面挡板。下限位件位于第一硅片的下方，第二硅片运输至容纳空间内后，下限位件与第二硅片的底面抵接，从下方限制硅片的位置；侧面挡板可以与第一硅片和第二硅片的至少两个侧面抵接(可以是相互平行的两个侧面、也可以是相互垂直的两个侧面、或者硅片三个侧面)，可以限制硅片的位置，实现第一硅片和第二硅片叠放并不偏离运输方向。可选的，限位结构也可以包括上下对应设置的上限位件、下限位件以及设置在上限位件和下限位件之间的侧面挡板。上限位件、下限位件及侧面挡板可以围设形成容纳硅片的空间。上限位件能够抵接在第一硅片的顶面，限制第一硅片向上移动距离，通过上限位件、下限位件及侧面挡板，可以限制硅片的位置，实现第一硅片和第二硅片叠放并不偏离运输方向。为方便第二硅片进入容纳空间，以便位于第一硅片的下方，上限位件和下限位件之间的距离不小于第一硅片和第二硅片的厚度和。本实施例中，硅片传输系统还可以包括收纳机构，收纳机构可以对应指定位置设置，以便将硅片运输至收纳机构内储存。可选地，第一硅片和第二硅片可以在运输过程中叠放，叠放后运输至收纳机构内，也可以是先运输至收纳机构内，使得第一硅片和第二硅片在收纳机构内重叠。当第一硅片和硅片在收纳机构内重叠时，收纳机构包括上述的限位结构。本实施例中，运输台包括一条运输轨道本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片传输装置，其特征在于，包括：运输台(1)，用于将第一硅片和第二硅片先后运至指定位置；吸气组件(4)，所述吸气组件(4)位于所述指定位置的上方并能够对先到达所述指定位置的所述第一硅片施加外力，以使所述第一硅片与所述运输台(1)之间形成容纳所述第二硅片的容纳空间；及限位结构，所述限位结构对应所述指定位置。

【技术特征摘要】
1.一种硅片传输装置，其特征在于，包括：运输台(1)，用于将第一硅片和第二硅片先后运至指定位置；吸气组件(4)，所述吸气组件(4)位于所述指定位置的上方并能够对先到达所述指定位置的所述第一硅片施加外力，以使所述第一硅片与所述运输台(1)之间形成容纳所述第二硅片的容纳空间；及限位结构，所述限位结构对应所述指定位置。2.如权利要求1所述的硅片传输装置，其特征在于，所述吸气组件(4)以间歇性施力方式对所述第一硅片施力。3.如权利要求1所述的硅片传输装置，其特征在于，所述吸气组件(4)包括：吸盘(41)、第一固定架和抽真空装置，所述第一固定架设置在所述硅片传输装置的机架上，所述抽真空装置设置在固定架上，所述抽真空装置连接所述吸盘(41)，所述吸盘(41)朝向所述运输台(1)设置。4.如权利要求1所述的硅片传输装置，其特征在于，所述硅片传输装置还包括收纳机构，所述收纳机构对应所述指定位置，所述收纳机构的内部设置有所述限位结构。5.如权利要求1-4中任一项所述的硅片传输装置，其特征在于，所述限位结构包括上下对应设置的上限位件、下限位件以及设置在所述上限位件与所述下限位件之间的侧面挡板...

【专利技术属性】
技术研发人员：易书令，马晓林，姜大俊，
申请(专利权)人：盐城阿特斯阳光能源科技有限公司，阿特斯阳光电力集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32