光刻胶组合物、彩膜基板和显示装置制造方法及图纸

本申请提供一种光刻胶组合物，彩膜基板和显示装置。光刻胶组合物包括：树脂、单体、光引发剂、醇醚类溶剂、量子点分散体；所述量子点分散体包括聚合物和分散在所述聚合物中的量子点；所述聚合物至少包括化学式1表示的第一重复单元。本申请通过使用包括化学式1所示的第一重复单元的聚合物去分散量子点、制备量子点分散体，显著增加了量子点在光刻胶组合物中的溶解性和分散稳定性。

【技术实现步骤摘要】
光刻胶组合物、彩膜基板和显示装置
本申请属于纳米材料应用
，尤其涉及一种光刻胶组合物、彩膜基板和显示装置。
技术介绍
彩膜基板是液晶显示器实现彩色显示的关键部件。为提高显示器件的显示效果，现有技术中开始采用量子点作为彩膜基板的彩色层。为了制备量子点彩色层，量子点一般被分散在含有醇醚类溶剂的光刻胶中，但是量子点在醇醚类溶剂中的分散性差，不利于制备高品质的彩色层。
技术实现思路
本申请提供一种光刻胶组合物，以解决现有量子点在含有醇醚类溶剂的光刻胶组合物中的分散性差的问题。根据本申请的一个方面，提供一种光刻胶组合物，包括：树脂、单体、光引发剂、醇醚类溶剂、量子点分散体；量子点分散体包括聚合物和分散在聚合物中的量子点；聚合物至少包括如下化学式1表示的第一重复单元，化学式1其中，R1为氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基；*表示与相邻原子连接的部分。本申请中，量子点包括但不限于如下元素构成，CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS、CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、MgZnS、HgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、SnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、Si、Ge、SiC、SiGe。本申请中，量子点的平均粒径在1至20nm。本申请中，通过采用含有化学式1表示的第一重复单元的聚合物作为包裹量子点的包裹物质时，由于聚合物具有两亲性，聚合物的疏水端会与疏水性的量子点结合，而亲水端与溶剂的相容性更好，从而可以较好的包覆量子点，显著增加量子点在光刻胶组合物中的溶解性以及分散稳定性。在一个实施例中，聚合物选自如下化合物1-1，化合物1-1化合物1-1中，R1为氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基；R2、R3分别独立的选自氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基、氨基、乙基、丙基、异丙基或者异丁基；n为10～1000的整数。专利技术人发现，在本申请中，在化合物1-1中，由于基团R2和基团R3的链长较短，在n值确定的情况下，选择不同的基团R2和基团R3时，对化合物1-1在分散和溶解量子点方面的性能影响较小，量子点在光刻胶组合物的溶解性和分散稳定性基本保持不变。在一个实施例中，在化合物1-1中，R1为氢原子。在一个实施例中，聚合物进一步包括第二重复单元，聚合物为第一重复单元和第二重复单元构成的共聚物；第二重复单元包括由化学式2-1表示的重复单元、由化学式2-2表示的重复单元、由化学式2-3表示的重复单元、由化学式2-4表示的重复单元，或者其组合，化学式2-1其中，*表示与相邻原子连接的部分；化学式2-2其中，*表示与相邻原子连接的部分；化学式2-3其中，R4、R5分别独立的选自氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基；R6选自氢原子、C1～C30烷基、C3～C30环烷基、C3～C30杂环烷基、C3～C30环烯基、C3～C30杂环烯基、C6～C30芳基、C6～C30杂芳基、C6～C30芳氧基、C6～C30芳硫基、或者被下列至少之一取代的C1～C30烷基、C3～C30环烷基、C3～C30杂环烷基、C3～C30环烯基、C3～C30杂环烯基、C6～C30芳基、C6～C30杂芳基、C6～C30芳氧基、C6～C30芳硫基、卤原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼基、腙基、羧基或其盐、磺酸基团或其盐；*表示与相邻原子连接的部分；化学式2-4其中，R4、R5分别独立的选自氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基；R6选自氢原子、C1～C30烷基、C3～C30环烷基、C3～C30杂环烷基、C3～C30环烯基、C3～C30杂环烯基、C6～C30芳基、C6～C30杂芳基、C6～C30芳氧基、C6～C30芳硫基、或者被下列至少之一取代的C1～C30烷基、C3～C30环烷基、C3～C30杂环烷基、C3～C30环烯基、C3～C30杂环烯基、C6～C30芳基、C6～C30杂芳基、C6～C30芳氧基、C6～C30芳硫基、卤原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼基、腙基、羧基或其盐、磺酸基团或其盐；*表示与相邻原子连接的部分。在一个实施例中，聚合物选自如下化合物中的至少一种：化合物2-1、化合物2-2、化合物2-3、化合物2-4中，R2、R3分别独立的选自氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基、氨基、乙基、丙基、异丙基或者异丁基；x和y均独立的选自10～1000的整数。专利技术人发现，在本申请中，在化合物2-1、化合物2-2、化合物2-3以及化合物2-4中，由于基团R2和基团R3的链长较短，在x值和y值确定的情况下，选择不同的基团R2和基团R3时，对化合物2-1、化合物2-2、化合物2-3以及化合物2-4在分散和溶解量子点方面的性能影响较小，量子点在光刻胶组合物的溶解性和分散稳定性基本保持不变。在一个实施例中，量子点的表面配体为有机酸、有机胺、有机膦或者硫醇。例如，表面配体包括但不限于，乙硫醇、丙硫醇、丁硫醇、戊硫醇、己硫醇、辛硫醇、十二烷硫醇、十六烷硫醇、十八烷硫醇、苄硫醇、甲胺、乙胺、丙胺、丁胺、戊胺、己胺、辛胺、十二烷胺、十六烷基胺、十八烷基胺、二甲胺、二乙胺、二丙胺、甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、十二烷酸、十六烷酸、十八烷酸、油酸、苯甲酸、甲基膦、乙基膦、丙基膦、丁基膦、戊基膦、甲基膦氧化物、乙基膦氧化物、丙基膦氧化物、丁基膦氧化物、二苯基膦化合物或者三苯基膦化合物。本申请中，量子点的表面配体的作用之一为增加量子点表面的疏水性，以及减小量子点在醇醚类溶剂中的相互聚集。由于量子点的表面配体均为疏水配体，因此，量子点在醇醚类溶剂中的溶解能力较差，例如低于1mg/ml。在一个实施例中，量子点在醇醚类溶剂中的溶解性小于1mg/ml。本申请中，在表征量子点在醇醚类溶剂中的溶解性时，醇醚类溶剂中不含有其它的组分。专利技术人发现，通过使用本申请中化学式1表示的聚合物后，量子点在醇醚类溶剂中的溶解性显著增加。这样，使得量子点在光刻胶组合物中的溶解性和分散稳定性均显著增加，保证量子点的分散均匀性，从而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶组合物，包括：树脂、单体、光引发剂、醇醚类溶剂、量子点分散体；所述量子点分散体包括聚合物和分散在所述聚合物中的量子点；所述聚合物至少包括如下化学式1表示的第一重复单元，化学式1

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶组合物，包括：树脂、单体、光引发剂、醇醚类溶剂、量子点分散体；所述量子点分散体包括聚合物和分散在所述聚合物中的量子点；所述聚合物至少包括如下化学式1表示的第一重复单元，化学式1其中，R1为氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基；*表示与相邻原子连接的部分。2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述聚合物选自如下化合物1-1，化合物1-1其中，R1为氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基；R2、R3分别独立的选自氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基、氨基、乙基、丙基、异丙基或者异丁基；n为10～1000的整数。3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述聚合物进一步包括第二重复单元，所述聚合物为第一重复单元和第二重复单元构成的共聚物；所述第二重复单元包括由化学式2-1表示的重复单元、由化学式2-2表示的重复单元、由化学式2-3表示的重复单元、由化学式2-4表示的重复单元，或者其组合，化学式2-1其中，*表示与相邻原子连接的部分；化学式2-2其中，*表示与相邻原子连接的部分；化学式2-3其中，R4、R5分别独立的选自氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基，R6选自氢原子、C1～C30烷基、C3～C30环烷基、C3～C30杂环烷基、C3～C30环烯基、C3～C30杂环烯基、C6～C30芳基、C6～C30杂芳基、C6～C30芳氧基、C6～C30芳硫基、或者被下列至少之一取代的C1～C30烷基、C3～C30环烷基、C3～C30杂环烷基、C3～C30环烯基、C3～C30杂环烯基、C6～C30芳基、C6～C30杂芳基、C6～C30芳氧基、C6～C30芳硫基、卤原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼基、腙基、羧基或其盐、磺酸基团或其盐，*表示与相邻原子连接的部分；化学式2-4其中，R4、R5分别独立的选自氢原子、甲基、甲氧基、羟甲基、羧基或者氨基，R6选自氢原子、C1～C30烷基、C3～C30环...

【专利技术属性】
技术研发人员：王允军，李鑫，
申请(专利权)人：苏州星烁纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32