一种耐高温黄变的碱可溶性OC负性光刻胶制造技术

本发明专利技术提供了一种在高温不发生黄变的碱可溶性OC负性光刻胶，该光刻胶包括20‑30%的含笼型倍半硅氧烷的碱溶性树脂共聚物、5‑15%的含不饱和双键的活性单体、0.1‑3%的光引发剂、60‑70%的有机溶剂和0.5‑1.5%的助剂；其中含笼型倍半硅氧烷的碱溶性树脂共聚物是由多官能度笼型倍半硅氧烷与不饱和化合物通过自由基聚合形成的共聚物，且多官能度笼型倍半硅氧烷为反应单体总重量的1%‑5%；含不饱和双键的活性单体为双官能团的甲基丙烯酸酯、三官能团的甲基丙烯酸酯、多官能团的甲基丙烯酸酯中的一种或多种。本发明专利技术的OC负性光刻胶，拥有优异的耐高温黄变性能、高附着力、高硬度和高电阻，特别适合在液晶显示面板、触控面板生产工艺中，对桥接层图案或对面板表面的线路进行保护。

【技术实现步骤摘要】
一种耐高温黄变的碱可溶性OC负性光刻胶
本专利技术属于平板显示领域，尤其涉及一种液晶显示面板、触控面板生产用的碱可溶性OC负性光刻胶，更具体是涉及一种在高温不发生黄变的碱可溶性OC负性光刻胶。
技术介绍
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。光刻胶具有光化学敏感性，其利用光化学反应，经曝光、显影等过程将所需要的微细图形从模板(mask)转移至待加工的衬底上，然后进行刻蚀、扩散、离子注入等工艺加工。按成像机理不同，光刻胶可分为负性光刻胶和正性光刻胶，负性光刻胶是在一定波长光照射下，光照部分的光刻胶发生交联反应，溶解度变小，使曝光与未曝光部分的溶解差异性变大，用适当显影剂即可把未曝光的可溶部分除去，最终在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像。OC负性光刻胶是一种在液晶显示面板、触控面板生产工艺中，对桥接层图案或对面板表面的线路进行保护的绝缘层UV光固化胶。液晶显示面板、触控面板表面需要通过真空溅镀透明导电层ITO(铟锡氧化物)后经过黄光光刻工艺来制作出需要的线路，为了得到高透明、高导电的透明导电层，在真空溅镀时的温度越来越高，目前普遍在2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种耐高温黄变的碱可溶性OC负性光刻胶，是由包括重量百分比为20~30%的含笼型倍半硅氧烷的碱溶性树脂共聚物、5~15%的含不饱和双键的活性单体、0.1~3%的光引发剂、60~70%的有机溶剂和0.5~1.5%的助剂混合而成；其中含笼型倍半硅氧烷的碱溶性树脂共聚物是由多官能度笼型倍半硅氧烷与不饱和化合物通过自由基聚合形成的共聚物；所述多官能度笼型倍半硅氧烷是符合化学通式I的至少一种化合物：

【技术特征摘要】
1.一种耐高温黄变的碱可溶性OC负性光刻胶，是由包括重量百分比为20~30%的含笼型倍半硅氧烷的碱溶性树脂共聚物、5~15%的含不饱和双键的活性单体、0.1~3%的光引发剂、60~70%的有机溶剂和0.5~1.5%的助剂混合而成；其中含笼型倍半硅氧烷的碱溶性树脂共聚物是由多官能度笼型倍半硅氧烷与不饱和化合物通过自由基聚合形成的共聚物；所述多官能度笼型倍半硅氧烷是符合化学通式I的至少一种化合物：（I）式中至少一个取代基R含有不饱和烯基，剩下的取代基R为H、烷基、烯基、芳基、亚芳基、丙烯酸酯基或甲基丙烯酸酯基，式Ⅰ化合物为反应单体总重量的1%~5%；所述不饱和化合物单体为丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸酯、芳香族乙烯基化合物、羧酸乙烯酯、不饱和环烷烃、不饱和羧酸化合物中的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋振，陈荣，杨志锋，许振良，杨虎，郑安丽，张慕伸，
申请(专利权)人：西陇科学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44