The invention provides a method for reducing graphene oxide by photomicrowave. The method comprises the following steps: putting graphene oxide in an inert atmosphere; heating graphene oxide rapidly to over 500 degrees C by microwave and light wave irradiation to decompose its functional groups and reduce its layers to obtain reduced graphene oxide; in which, microwave can pass through graphene oxide in a traveling wave manner, and the frequency of the microwave is 300 MHz to 300 GHz, and the light wave is described. The frequency is 3 x 10
【技术实现步骤摘要】
一种光微波还原氧化石墨烯的方法
本专利技术涉及氧化石墨烯的还原领域，特别地，涉及一种光微波还原氧化石墨烯的方法。
技术介绍
氧化石墨烯是石墨经化学氧化后的产物，表面具有大量羟基、羧基、环氧基等官能团，具有较高的比表面积，在分析检测领域、改性聚合物材料、生物医药领域、光电相关领域、光催化中都有广泛的应用。因氧化石墨烯的特性，目前市面上大多采用化学试剂还原(如硼氢化钠、碘化氢、抗坏血酸等化学还原剂)、高温热还原、等离子体方法等。现有的氧化石墨烯还原方法在生产过程中具有以下问题：一是采用化学试剂还原，需要用到大量的化学试剂，带来的副产物增加，后续清洗难度加大，环保风险增加，导致成本增加；二是采用高温热还原，氧化石墨烯还原温度较高，不同的还原温度得到的产品质量均匀性无法保证，同时也会带来产品灰分增加，设备腐蚀严重等问题；三是采用其他还原方法(如等离子体)，生产技术难点、成本会成倍增加，无法得到工业化大规模应用。
技术实现思路
针对现有技术中存在的不足，本专利技术的目的在于解决上述现有技术中存在的一个或多个问题。例如，本专利技术的目的之一在于提供一种光微波还原氧化石墨烯的方法，...
【技术保护点】
1.一种光微波还原氧化石墨烯的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将氧化石墨烯置于惰性气氛中；通过微波和光波辐照使氧化石墨烯迅速升温至500℃以上，以分解其所带官能团并减少其层数，得到还原氧化石墨烯，其中，微波能够以行波的方式透过氧化石墨烯。
【技术特征摘要】
1.一种光微波还原氧化石墨烯的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将氧化石墨烯置于惰性气氛中；通过微波和光波辐照使氧化石墨烯迅速升温至500℃以上，以分解其所带官能团并减少其层数，得到还原氧化石墨烯，其中，微波能够以行波的方式透过氧化石墨烯。2.根据权利要求1所述的光微波还原氧化石墨烯的方法，其特征在于，所述将氧化石墨烯置于惰性气氛中的步骤包括：通过气体将氧化石墨烯送入内部充满氮气或惰性气体的管状容器中，其中，所述管状容器的两端具有开口，所述气体能够从管状容器的一个开口流入，所述气体包括氮气或惰性气体。3.根据权利要求2所述的光微波还原氧化石墨烯的方法，其特征在于，所述气体在所述管状容器内的流速在10cm3/s以下，单位体积的所述气体能够送入氧化石墨烯的量为1g/cm3以下。4.根据权利要求1所述的光微波还原氧化石墨烯的方法，其特征在于，所述微波的频率为300MHz～300GHz，所述光波的频率...
【专利技术属性】
技术研发人员：李星，刘长虹，蔡雨婷，漆长席，蒋虎南，
申请(专利权)人：四川聚创石墨烯科技有限公司，大英聚能科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。