平板显示器用钼合金溅射靶材的制备方法及靶材技术

本发明专利技术属于新材料领域，具体涉及一种平板显示器用钼合金溅射靶材的制备方法，包括：制备鉬铌毛坯合金靶材；铣削表面；热等静压；以及磨削表面，可以增加靶材密度和延展性，保证靶材成分的均匀性、减少靶材缺陷（如气孔、微裂纹等），提高靶材质量。

Preparation and Target Material of Molybdenum Alloy Sputtering Target for Flat Panel Display

The invention belongs to the field of new materials, and specifically relates to a preparation method of molybdenum alloy sputtering target material for flat panel display, including: preparation of Molybdenum-Niobium alloy target material; milling surface; hot isostatic pressing; and grinding surface, which can increase the density and ductility of target material, ensure the uniformity of target material composition, reduce target defects (such as pore, microcrack, etc.) and improve the quality of target material.

【技术实现步骤摘要】
平板显示器用钼合金溅射靶材的制备方法及靶材
本专利技术涉及新材料领域，具体涉及一种平板显示器用钼合金溅射靶材的制备方法及靶材。
技术介绍
随着平面显示器和触摸屏的不断发展，目前市场对大尺寸的平面显示和触摸屏需求越来越旺盛，因此对靶材的质量要求和尺寸要求越来越高。传统的钼铌靶材是将把钼铌粉末在高能球磨机中球磨混合至达到合金化的程度，使粉末基本呈钼相的性质，然后经过氢气烧结、轧制、热处理、机加工等工艺获得，并应用于平板显示器件镀膜材料。但在烧结过程会出现气孔，降低靶材密度，导致靶材密度不均匀，并且在后续工序挤压或轧制过程中由于气孔而产生微裂纹。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种平板显示器用钼合金溅射靶材的制备方法及靶材。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种钼合金溅射靶材的制备方法，包括：制备鉬铌毛坯合金靶材；铣削表面；热等静压；以及磨削表面。进一步，所述制备鉬铌毛坯合金靶材的方法包括：制备鉬铌粉；将鉬铌粉进行真空热压；以及冷却取出。进一步，所述鉬铌粉按重量份组成包括：鉬粉：70-90份；铌粉：10-30份。进一步，所述鉬粉的粒度为200-350目；所述铌粉的粒度为250-400本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钼合金溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括：制备鉬铌毛坯合金靶材；铣削表面；热等静压；以及磨削表面。

【技术特征摘要】
1.一种钼合金溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括：制备鉬铌毛坯合金靶材；铣削表面；热等静压；以及磨削表面。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备鉬铌毛坯合金靶材的方法包括：制备鉬铌粉；将鉬铌粉进行真空热压；以及冷却取出。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述鉬铌粉按重量份组成包括：鉬粉：70-90份；铌粉：10-30份。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述鉬粉的粒度为200-350目；所述铌粉的粒度为250-400目。5.根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，所述铌粉适于替换为钽粉...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔伟华，
申请(专利权)人：江苏迪丞光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32