一种极近距离MIMO天线的超材料去耦方法技术

本发明专利技术涉及一种极近距离MIMO天线的超材料去耦方法，属于无线通信技术领域。本方法所述极近距离是指MIMO天线内部单元间距小于0.1λ，通过利用具有单负特性的超材料，设计制作超材料覆层结构，在MIMO天线的正上方垂直放置多层超材料覆层，降低MIMO天线之间的耦合，实现高隔离的极近距离MIMO天线，展宽天线隔离带宽。

【技术实现步骤摘要】
一种极近距离MIMO天线的超材料去耦方法
本专利技术涉及一种极近距离MIMO天线的超材料去耦方法，属于无线通信

技术介绍
随着无线通信的飞速发展，未来的移动通信容量将呈指数倍增长，实现移动通信高速率大容量的传输是一项难题，而MIMO(Multiple-InputMultiple-Output，多输入多输出系统)技术能够有效的解决这一难题，故MIMO技术受到了科研人员的广泛关注。MIMO技术指的是在输入端和输出端同时使用多个天线来接收和发射信号，能够在不增加工作带宽的情况下，提高信道容量。但是在MIMO天线中，单元间的耦合是一个十分严重的问题，特别是在目前系统平台日益追求小型化的情况下，需要在有限的空间内安排多个天线，故需要让天线之间彼此靠的更近来减小空间，但天线靠的越近，耦合水平越高。单元间的耦合会导致天线失配，降低天线的辐射效率。在MIMO天线中，现存的去耦合方法包括中和线技术、无源去耦合网络及EBG(电磁带隙)技术等，但天线之间的距离绝大部分都比较远，大于0.1λ，且天线的工作带宽通常都较窄。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中的问题，为满足MIMO通信中小型化、高隔离本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种极近距离MIMO天线的超材料去耦方法，其特征在于：具体包含如下步骤：步骤一，设计超材料覆层结构；超材料覆层包含多个相同且中心对称的金属超材料单元，周期排列形成m×n，m>＝3,n>＝3的阵列；相邻超材料单元之间无缝紧贴，超材料单元阵列的面积能覆盖MIMO天线的所有天线单元面积，利用超材料单元负磁导率接近0的频段范围进行MIMO天线的去耦合；步骤二，在PCB板上制作超材料覆层；按照步骤一所述的超材料覆层结构，在PCB板上覆铜制作超材料覆层；步骤三，在MIMO天线的正上方垂直放置多层超材料覆层；每层超材料覆层的结构相同，面积能完全覆盖MIMO天线；距离MIMO天线最近的一层超材料覆层与MI...

【技术特征摘要】
1.一种极近距离MIMO天线的超材料去耦方法，其特征在于：具体包含如下步骤：步骤一，设计超材料覆层结构；超材料覆层包含多个相同且中心对称的金属超材料单元，周期排列形成m×n，m>＝3,n>＝3的阵列；相邻超材料单元之间无缝紧贴，超材料单元阵列的面积能覆盖MIMO天线的所有天线单元面积，利用超材料单元负磁导率接近0的频段范围进行MIMO天线的去耦合；步骤二，在PCB板上制作超材料覆层；按照步骤一所述的超材料覆层结构，在PCB板上覆铜制作超材料覆层；步骤三，在MIMO天线的正上方垂直放置多层超材料覆层；每层超材料覆层的结构相同，面积能完全覆盖MIMO天线；距离MIMO天线最近的一层超材料覆层与MIMO天线的间距小于0.1λ，λ为MIMO天线中心工作波长；相邻...

【专利技术属性】
技术研发人员：司黎明，江海鑫，吕昕，
申请(专利权)人：北京理工大学，
类型：发明
国别省市：北京,11