面板结构制造技术

技术编号:20162959 阅读:22 留言:0更新日期:2019-01-19 00:15
一种面板结构,具有显示区、第一周边区及第二周边区。第一周边区位于显示区与第二周边区之间。面板结构包括第一基板及与第一基板相对设置的第二基板、第一框胶、辅助间隙物以及第二框胶。第一框胶设置于第一基板与第二基板之间,且位于第一周边区。第一框胶内包括至少一间隙粒子。间隙粒子与第一基板及第二基板接触。辅助间隙物位于第二周边区,且设置于第一基板或第二基板其中的一者上。辅助间隙物与第一基板或第二基板的另一者之间具有间隙。第二框胶设置于第一基板与第二基板之间,且位于第二周边区。第二框胶设置于间隙。

【技术实现步骤摘要】
面板结构
本专利技术涉及一种面板,且特别涉及一种框胶接触辅助间隙物的面板结构。
技术介绍
随着移动装置市场的成熟,显示面板已被广泛地应用在各式各样的移动装置、例如平板电脑、智能手机或智能穿戴装置,且显示面板不仅追求性能表现,更不断朝着轻薄以及美观外型等方向发展。现有的显示面板的制作方式,显示面板容易在工艺中受到外在水气影响电子元件,例如金属氧化物型薄膜晶体管,而造成电子元件的电性异常,进而降低性能。另外,在进行切割及分离工艺时,非矩形面板容易在显示面板的边缘产生应力并造成切割裂痕(chipping),影响显示面板的可靠度并降低显示面板的生产良率,提升生产成本。
技术实现思路
本专利技术提供一种面板结构,适于提升抵抗外部水气入侵的能力,避免电子元件的电性异常,并提升可靠度,还可减少切割裂痕的产生。本专利技术的面板结构具有一显示区、一第一周边区及一第二周边区。第一周边区位于显示区与第二周边区之间。面板结构包括一第一基板及与第一基板相对设置的一第二基板、一第一框胶、一辅助间隙物以及一第二框胶。第一框胶设置于第一基板与第二基板之间,且位于第一周边区。第一框胶内包括至少一间隙粒子。至少一间隙粒子与第一基板及第二基板接触。辅助间隙物设置于第一基板或第二基板其中的一者上,且辅助间隙物与第一基板或第二基板的另一者之间具有一间隙。第二框胶设置于第一基板与第二基板之间,且位于第二周边区。第二框胶设置于间隙。基于上述,在本专利技术的面板结构中,由于面板结构包括第一周边区以及第二周边区,且辅助间隙物位于第二周边区。当第一框胶位于第一周边区中,且第二框胶位于第二周边区中并覆盖辅助间隙物时,第二框胶与辅助间隙物可在面板结构的边缘提供抗水气的能力,避免内部电子元件的电性异常,并提升可靠度。此外,第二框胶与辅助间隙物还可以有效减少因应力产生的裂痕及/或剥落斑点,并终止裂痕延伸进入显示区。另外,于面板结构边缘增加框胶的胶宽,可以进一步增加抗水气的能力。因此,面板结构适于提升抵抗外部水气入侵的能力,并提升可靠度。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合说明书附图作详细说明如下。附图说明图1示出为本专利技术的一实施例的母板的俯视图。图2示出为图1的母板的沿剖面线A-A’的局部剖面示意图。图3示出为本专利技术的一实施例的面板结构的俯视图。图4示出为图3的面板结构沿剖面线B-B’的局部剖面示意图。图5示出为本专利技术的另一实施例的母板的局部剖面示意图。图6A示出为图5的辅助间隙物的俯视图。图6B示出为本专利技术的另一实施例的辅助间隙物的俯视图。图6C示出为本专利技术的另一实施例的辅助间隙物的俯视图。图6D示出为本专利技术的又一实施例的辅助间隙物的俯视图。图7A示出为本专利技术的另一实施例的面板结构的局部剖面示意图。图7B示出为本专利技术的另一实施例的面板结构的局部剖面示意图。图8示出为本专利技术的又一实施例的面板结构的局部剖面示意图。附图标记说明:1、1A:母板10、10A、10B、10C、10D:面板结构11:显示区12:第一周边区13:第二周边区100:第一基板110:第一基底120:缓冲层130:第一绝缘层140:第二绝缘层150:平坦层160:接垫162:导电柱200:第二基板210:第二基底220:遮光层230:电极层300:间隙粒子300A:金属球300B:绝缘物300C:吸水粒子301:核心302:金属外壳310:第一框胶320:第二框胶322:间隙400、400A、400B、400C、400D:辅助间隙物410:第一辅助间隙物420:第二辅助间隙物A-A’、B-B’:剖面线CL:信号线D:漏极G:栅极L:切割线S:源极SE:第一半导体层T1:第一开关元件T2:第二开关元件h1、h2、h3:高度具体实施方式图1示出为本专利技术的一实施例的母板的俯视图。请参考图1,在本实施例中,母板1包括第一基板100及与第一基板100相对设置的第二基板200(示出于图2),且包括有已制备完成但尚未切割的多个面板结构10,未切割的面板结构10具有显示区11、第一周边区12、第二周边区13以及切割线L。具体而言,母板1为未进行切割工艺的第一基板100及第二基板200。在此需注意的是,为方便说明及观察,图1省略绘制部分构件。以下实施例将以部分元件设置于第一基板100上为范例,但本专利技术不以此为限。在其他实施例中,图1所示的元件也可以依设计上的需求而设置在第二基板200上。如图1所示,第一周边区12位于显示区11与第二周边区13之间。举例而言,第一周边区12部分或全部环绕显示区11设置,且第二周边区13部分或全部环绕第一周边区12设置。在本实施例中,显示区11为非矩形。举例而言,显示区可以为三角形、多角形、圆形、椭圆形及/或包含上述两者以上形状的不规则形,但本专利技术不以此为限。切割线L用来定义面板结构10的区域。换句话说,切割线L所环绕出的区域是用来使面板结构10自母板1分离出来的区域。在图1中,虽然示出一个由切割线L环绕出的面板结构10的区域,但本专利技术不以此为限。在其他实施例中,本专利技术可具有任意数目的面板结构10。在本实施例中,可通过例如是激光切割工艺或刀具切割工艺来对切割线L进行切割从而将面板结构10从母板1中单独地分离出来,但本专利技术不以此为限。图2示出为图1的母板的沿剖面线A-A’的局部剖面示意图。请参考图1及图2,在本实施例中,未从母板1分离的面板结构10包括第一基板100、相对第一基板100设置的第二基板200、第一框胶310设置于第一基板100与第二基板200之间的第一周边区12、辅助间隙物400设置于第一基板100或第二基板200其中的一者上且位于第二周边区13以及第二框胶320设置于第一基板100与第二基板200之间的第二周边区13。请参考图2,在本实施例中,第一基板100例如为阵列基板,包括第一基底110、缓冲层120、第一绝缘层130、第二绝缘层140以及平坦层150。举例而言,第一基底110的材料包括玻璃、石英、有机聚合物、不透光/反射材料,例如:导电材料、晶圆、陶瓷、或适用的材料、或是其他可适用的材料,本专利技术不以此为限。缓冲层120配置在第一基底110上且可为无机材料所构成的无机薄膜,且构成缓冲层120的材料通常可为绝缘材料,例如:氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、或其他绝缘材料,本专利技术不以此为限。第一绝缘层130配置在缓冲层120上。第一绝缘层130例如是栅绝缘层,但本专利技术不以此为限。第二绝缘层140配置在第一绝缘层130上,且第一绝缘层130与第二绝缘层140的材料可以相同,例如是氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、或其他绝缘材料,本专利技术不以此为限。平坦层150配置在第二绝缘层140上,且平坦层150的材料可包括各种适用的有机材料。在本实施例中,还包括第一开关元件T1设置于第一基板100且位于第一周边区12。举例来说,第一开关元件T1可例如是低温多晶硅型薄膜晶体管(LTPS-TFT),包括第一半导体层SE、源极S、漏极D及栅极G。第一半导体层SE配置在缓冲层120上,且第一半导体层SE的材料为多晶硅,但本专利技术不以此为限。在其他实施例中,第一半导体层SE的材料例如为非晶硅、金属氧化物半导体或是其他半导体材料。第一绝缘层130覆盖第一半导体层SE,且栅极G设置于第一绝缘层1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种面板结构,具有一显示区、一第一周边区及一第二周边区,该第一周边区位于该显示区与该第二周边区之间,包括:一第一基板及与该第一基板相对设置的一第二基板;一第一框胶,设置于该第一基板与该第二基板之间,且位于该第一周边区,该第一框胶内包括至少一间隙粒子,该至少一间隙粒子与该第一基板及该第二基板接触;一辅助间隙物位于该第二周边区,设置于该第一基板或该第二基板其中的一者上,且该辅助间隙物与该第一基板或该第二基板的另一者之间具有一间隙;以及一第二框胶,设置于该第一基板与该第二基板之间,且位于该第二周边区,该第二框胶设置于该间隙。

【技术特征摘要】
2018.08.29 TW 1071302031.一种面板结构,具有一显示区、一第一周边区及一第二周边区,该第一周边区位于该显示区与该第二周边区之间,包括:一第一基板及与该第一基板相对设置的一第二基板;一第一框胶,设置于该第一基板与该第二基板之间,且位于该第一周边区,该第一框胶内包括至少一间隙粒子,该至少一间隙粒子与该第一基板及该第二基板接触;一辅助间隙物位于该第二周边区,设置于该第一基板或该第二基板其中的一者上,且该辅助间隙物与该第一基板或该第二基板的另一者之间具有一间隙;以及一第二框胶,设置于该第一基板与该第二基板之间,且位于该第二周边区,该第二框胶设置于该间隙。2.如权利要求1所述的面板结构,其中该第二框胶不含间隙粒子。3.如权利要求1所述的面板结构,其中该第一框胶与该第二框胶接触。4.如权利要求1所述的面板结构,其中该辅助间隙物为连续的图案,且该第二框胶接触该辅助间隙物。5.如权利要求1所述的面板结构,其中该辅助间隙物为不连续的图案,且该第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶家宏黄美莲黄国有
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾,71

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