碳纳米管片的改性方法、经过改性的碳纳米管片、粘合片的制造方法、以及粘合片技术

技术编号:20019725 阅读:24 留言:0更新日期:2019-01-06 01:25
本发明专利技术提供一种碳纳米管片的改性方法,该方法包括:在结构体上载置一片或多片碳纳米管片的工序,以及在常温下将所述结构体上的碳纳米管片暴露于液体物质的蒸气或粒子的工序,其中,所述碳纳米管片具有多个碳纳米管优先沿片的面内一个方向排列而成的结构,所述结构体具有载置所述碳纳米管片的载置部,所述载置部具有不与所述碳纳米管片接触的非接触部及与所述碳纳米管片接触的接触部,将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向平行且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L1,并将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向相交且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L2时,在L1大于L2的情况下,至少L2为大于0mm且小于10mm,在L1小于L2的情况下,至少L1为大于0mm且小于10mm,在L1等于L2的情况下,L1及L2为大于0mm且小于10mm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】碳纳米管片的改性方法、经过改性的碳纳米管片、粘合片的制造方法、以及粘合片
本专利技术涉及碳纳米管片的改性方法、经过改性的碳纳米管片、粘合片的制造方法、以及粘合片。
技术介绍
目前,已知使用了碳纳米管的片。这样的碳纳米管片具有导电性、散热性及面内各向异性等其它材料所没有的特征。例如,专利文献1中公开了包含碳纳米管的纳米纤维片。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特表2008-523254号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而,为了根据用途对碳纳米管片进行改性,例如,有时实施将碳纳米管片暴露于液体蒸气等的处理。但是,在单独(独立)的状态下进行了这样的处理的情况下,存在碳纳米管片在俯视时与纤维轴(碳纳米管的排列方向)正交的方向(宽度)上发生收缩的问题。本专利技术的目的在于提供一种在暴露于液体蒸气等的处理时防止碳纳米管片的宽度收缩的改性方法。另外,本专利技术的另一目的在于提供通过该改性方法得到的经过改性的碳纳米管片。另外,本专利技术的另一目的在于提供使用了通过该改性方法得到的经过改性的碳纳米管片的粘合片的制造方法。另外,本专利技术的另一目的在于提供使用了通过该改性方法得到的经过改性的碳纳米管片的粘合片。解决课题的方法根据本专利技术的一个方式,可以提供一种碳纳米管片的改性方法,该方法包括:在结构体上载置一片或多片碳纳米管片的工序,以及在常温下将所述结构体上的碳纳米管片暴露于液体物质的蒸气或粒子的工序,其中,所述碳纳米管片具有多个碳纳米管优先沿片的面内一个方向排列而成的结构,所述结构体具有载置所述碳纳米管片的载置部,所述载置部具有不与所述碳纳米管片接触的非接触部及与所述碳纳米管片接触的接触部,将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向平行且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L1,并将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向相交且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L2时,在L1大于L2的情况下,至少L2为大于0mm且小于10mm,在L1小于L2的情况下,至少L1为大于0mm且小于10mm,在L1等于L2的情况下,L1及L2为大于0mm且小于10mm。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,优选独立地存在多个所述非接触部及所述接触部中的至少一者。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,优选所述非接触部及所述接触部均为连续的。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,优选所述结构体的所述非接触部具有微细孔。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,优选所述结构体具有隆起结构作为所述接触部。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,优选所述结构体的所述最长距离L1为大于0mm且小于10mm。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,优选所述结构体具有连续的多个接触部和连续的多个非接触部,所述连续的多个接触部和所述连续的多个非接触部形成条纹状结构,所述条纹状结构以如下方式设置:在所述俯视时,与所述碳纳米管的排列方向相交,且在相邻的连续接触部的相对的各端部,一个端部的任意一点至另一端部的最接近的点的距离始终小于10mm。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,可以实施如下工序:在所述结构体上层叠多片所述碳纳米管片,然后,在常温下将所述结构体上的多片所述碳纳米管片暴露于液体物质的蒸气或粒子。在本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法中,优选经过改性的碳纳米管片的透光率为70%以上。另外,根据本专利技术的另一个方式,可以提供一种经过改性的碳纳米管片,其是通过本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法得到的,所述经过改性的碳纳米管片的透光率为70%以上。另外,根据本专利技术的另一个方式,可以提供一种粘合片的制造方法,该方法包括将碳纳米管片层叠于含有粘合剂的粘合剂层的工序,其中,作为所述碳纳米管片,使用通过本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法得到的经过改性的碳纳米管片,将所述经过改性的碳纳米管片的与粘合剂层侧一面相反的面粘贴于被粘附物而测得的所述粘合片的粘合力为8N/25mm以上。另外,根据本专利技术的另一个方式,可以提供一种粘合片,所述粘合片具有碳纳米管片和含有粘合剂的粘合剂层,其中,所述碳纳米管片是通过本专利技术的一个方式的碳纳米管片的改性方法得到的经过改性的碳纳米管片,将所述经过改性的碳纳米管片的与粘合剂层侧一面相反的面粘贴于被粘附物而测得的所述粘合片的粘合力为8N/25mm以上。根据本专利技术,可以提供一种在暴露于液体蒸气等的处理时防止碳纳米管片的宽度收缩的改性方法。另外,根据本专利技术,可以提供通过该改性方法得到的经过改性的碳纳米管片。另外,根据本专利技术,可以提供使用了通过该改性方法得到的经过改性的碳纳米管片的粘合片的制造方法。另外,根据本专利技术,可以提供使用了通过该改性方法得到的经过改性的碳纳米管片的粘合片。附图说明图1是示出第一实施方式的结构体的一例的示意图。图2是示出第一实施方式的结构体的另一例的示意图。图3是图2中的III-III剖面图。图4是实施了第一实施方式的改性方法的碳纳米管片的显微镜照片。图5是第一实施方式的粘合片的剖面示意图。图6是示出第二实施方式的结构体的一例的示意图。图7是图6中的VII-VII剖面图。具体实施方式〔第一实施方式〕[改性方法]以下,对本实施方式的碳纳米管片的改性方法(以下,有时也称为“本改性方法”)进行说明。本改性方法包括:在结构体上载置一片或多片碳纳米管片的工序(以下,为了方便有时也称为“载置工序”)、以及在常温下将所述结构体上的碳纳米管片暴露于液体物质的蒸气或粒子的工序(以下,为了方便有时也称为“暴露工序”)。以下,首先对本实施方式的碳纳米管片进行说明,然后对本改性方法的各工序进行说明。(碳纳米管片)本实施方式的碳纳米管片具有多个碳纳米管优先沿着片的面内一个方向排列的结构。在本说明书中,“碳纳米管沿着片的面内一个方向排列的结构”是指碳纳米管沿着片的面内一个方向排列的状态,可以列举例如,碳纳米管的长轴排列成与片的面内一个方向平行的状态。另外,在本说明书中,“优先排列的状态”是指该排列的状态为主流的意思。例如,在如上所述碳纳米管的长轴排列成与片的面内一个方向平行的状态的情况下,该排列状态为主流时,一部分碳纳米管可以处于碳纳米管的长轴排列成与片的面内一个方向平行的状态。碳纳米管片可以通过例如以下方式得到:以片的状态从碳纳米管森林(以使多个碳纳米管沿相对于基板的主面垂直的方向取向的方式在基板上生长而成的生长体,有时也称为“阵列”)中拉出因分子间力而聚集成的碳纳米管,并从基板上取下。(载置工序)在载置工序中,在结构体上载置碳纳米管片。此时,可以载置未层叠的单一的碳纳米管片,也可以载置多个碳纳米管片预先层叠而成的片。本改性方法涉及的结构体具有载置碳纳米管片的载置部。结构体的载置部具有与碳纳米管片不接触的非接触部及与碳纳米管片接触的接触部。将非接触部与接触部的边界、和在俯视载置部时与碳纳米管的排列方向平行且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L1,并将非接触部与上述接触部的边界、和在俯视载置部时与碳纳米管的排列方向相交且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L2时,在L1大于L2的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种碳纳米管片的改性方法,该方法包括:在结构体上载置一片或多片碳纳米管片的工序、以及在常温下将所述结构体上的碳纳米管片暴露于液体物质的蒸气或粒子的工序,其中,所述碳纳米管片具有多个碳纳米管优先沿片的面内一个方向排列而成的结构,所述结构体具有载置所述碳纳米管片的载置部,所述载置部具有不与所述碳纳米管片接触的非接触部及与所述碳纳米管片接触的接触部,将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向平行且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L1,并将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向相交且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L2时,在L1大于L2的情况下,至少L2为大于0mm且小于10mm,在L1小于L2的情况下,至少L1为大于0mm且小于10mm,在L1等于L2的情况下,L1及L2为大于0mm且小于10mm。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.02 US 62/330,6701.一种碳纳米管片的改性方法,该方法包括:在结构体上载置一片或多片碳纳米管片的工序、以及在常温下将所述结构体上的碳纳米管片暴露于液体物质的蒸气或粒子的工序,其中,所述碳纳米管片具有多个碳纳米管优先沿片的面内一个方向排列而成的结构,所述结构体具有载置所述碳纳米管片的载置部,所述载置部具有不与所述碳纳米管片接触的非接触部及与所述碳纳米管片接触的接触部,将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向平行且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L1,并将所述非接触部与所述接触部的边界、和在俯视载置部时与所述碳纳米管的排列方向相交且跨越非接触部的直线在非接触部中的交点之间的最长距离设为L2时,在L1大于L2的情况下,至少L2为大于0mm且小于10mm,在L1小于L2的情况下,至少L1为大于0mm且小于10mm,在L1等于L2的情况下,L1及L2为大于0mm且小于10mm。2.根据权利要求1所述的碳纳米管片的改性方法,其中,独立地存在多个所述非接触部及所述接触部中的至少一者。3.根据权利要求1或2所述的碳纳米管片的改性方法,其中,所述非接触部及所述接触部均为连续的。4.根据权利要求1~3中任一项所述的碳纳米管片的改性方法,其中,所述结构体的所述非接触部具有微细孔。5.根据权利要求1~4中任一项所述的碳纳米管片的改性方法,其中,所述结构体具有隆起结构作为所述接触部。6.根据权利要求1~5中任一项所述的碳纳米管片的改性方法,其中,所述结构体的所述最长距离L1为...

【专利技术属性】
技术研发人员:植田贵洋伊藤雅春井上闲山
申请(专利权)人:琳得科株式会社琳得科美国股份有限公司
类型:发明
国别省市:日本,JP

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