掩膜版及其制作方法以及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了掩膜版及其制作方法以及显示装置。其中，掩膜版的制作方法包括：在基板的一个表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部，以便得到第一模板；利用第一模板制作得到金属模板，所述金属模板的一个表面上具有第二凸起部，所述第二凸起部的形状与所述第一凸起部的形状一致或者与所述第一凹陷部相匹配；利用所述金属模板制作得到有机层，所述有机层中含有通孔，所述通孔与所述第二凸起部相匹配；在所述有机层的一个表面上形成第一金属层。发明专利技术人发现，上述制作掩膜版的方法工艺简单、容易操作和控制，无需使用双面曝光工艺，制作成本较低。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版及其制作方法以及显示装置
本专利技术涉及显示
，具体的，涉及掩膜版及其制作方法以及显示装置。
技术介绍
高精度金属掩膜版(FMM)是制造OLED器件的重要掩膜版，其是控制像素精密度的关键因素。目前通常采用湿法刻蚀工艺制作FMM，但是利用该方法获得的掩膜版的分辨率极限为600ppi。并且随着3D、虚拟现实(VR)的兴起，对OLED提出更高的分辨率要求(＞800ppi)，现有FMM的制作工艺限制了高分辨率OLED器件的制作，因此寻找新的掩膜版具有重要意义。因而，目前的掩膜版仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种制作工艺简单、容易操作或者成本较低的制作掩膜版的方法，利用该方法制作得到的掩膜版精度较高、分辨率较高、应力较低或者易于张网。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种制作掩膜版的方法。根据本专利技术的实施例，该方法包括：在基板的一个表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部，以便得到第一模板；利用第一模板制作得到金属模板，所述金属模板的一个表面上具有第二凸起部，所述第二凸起部的形状与所述第一凸起部的形状一致或者与所述第一凹陷部相匹配；利用所述金属模板制作得到有机层，所述有机层中含有通孔，所述通孔与所述第二凸起部相匹配；在所述有机层的一个表面上形成第一金属层。专利技术人发现，上述制作掩膜版的方法工艺简单、容易操作和控制，无需使用双面曝光工艺，有效避免了湿法刻蚀工艺的各向异性，制作成本较低，易于在有机层中获得精度较高、尺寸较小的通孔，进而使得最终制作得到的掩膜版精度较高，分辨率较高，应力较低，张网效果较佳，不易变形，有利于制作高精度、高分辨率的OLED器件。根据本专利技术的实施例，所述第一模板的一个表面上具有所述第一凹陷部，且所述利用第一模板制作得到金属模板包括：在所述第一模板具有所述第一凹陷部的表面上形成第二金属层；去除所述第一模板，得到所述金属模板。根据本专利技术的实施例，所述第一模板的一个表面上具有所述第一凸起部，且所述利用第一模板制作得到金属模板包括：在所述第一模板具有所述第一凸起部的表面上形成聚合物层，然后去除所述第一模板，得到过渡膜层，所述过渡膜层的一个表面上具有第二凹陷部，所述第二凹陷部与所述第一凸起部相匹配；在所述过渡膜层具有所述第二凹陷部的表面上形成第二金属层；去除所述过渡膜层，得到所述金属模板。根据本专利技术的实施例，所述第一模板的一个表面上具有所述第一凸起部，且所述利用第一模板制作得到金属模板包括：在所述第一模板具有所述第一凸起部的表面上形成第二金属层；去除所述第一模板，得到所述金属模板。根据本专利技术的实施例，所述第一凹陷部或所述第一凸起部是通过干法刻蚀或者镭雕的方式形成的；所述有机层是通过注塑或者浇注的方式形成的；所述第一金属层是通过蒸镀、溅射的方式形成的。根据本专利技术的实施例，所述金属模板的厚度为5-20mm。根据本专利技术的实施例，所述第一金属层的厚度为1-20微米。根据本专利技术的实施例，形成所述第一金属层的材料包括镍和铁镍合金中的至少之一。根据本专利技术的实施例，所述有机层的厚度为5-50微米。根据本专利技术的实施例，所述通孔的直径为2-30微米。根据本专利技术的实施例，所述通孔的侧壁与所述通孔的中心轴之间的距离从下至上逐渐减小。根据本专利技术的实施例，所述通孔的侧壁与所述有机层的下表面所处平面之间的锐角夹角小于85°。根据本专利技术的实施例，形成所述有机层的材料包括聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少之一。根据本专利技术的实施例，形成所述基板的材料包括半导体。在本专利技术的另一方面，本专利技术提供了一种掩膜版。根据本专利技术的实施例，该掩膜版是通过前面所述的方法制作的。专利技术人发现，该掩膜版结构简单、易于实现，精度、分辨率较高，分辨率可高达800ppi，兼具透明和磁性特点，对位较精确，易于张网，有利于制作分辨率较高的OLED器件，适于大规模生产，市场竞争力较强。在本专利技术的另一方面，本专利技术提供了一种显示装置。根据本专利技术的实施例，所述显示装置中的OLED器件是利用前面所述的掩膜版制作得到的。专利技术人发现，该显示装置结构简单、易于实现，且OLED器件具备较高的分辨率，得到的显示装置成本较低，市场竞争力较强。附图说明图1是现有技术中利用光刻胶对金属基板进行刻蚀以获得通孔的结构示意图。图2是本专利技术一个实施例中制作掩膜版的方法流程示意图。图3是本专利技术一个实施例中第一模板的结构示意图。图4是本专利技术另一个实施例中第一模板的结构示意图。图5是本专利技术一个实施例中金属模板的结构示意图。图6是本专利技术一个实施例中制作金属模板的方法流程示意图。图7是本专利技术另一个实施例中制作金属模板的方法流程示意图。图8a是本专利技术一个实施例中有机层的平面结构示意图。图8b是图8a中沿EE’方向的剖面图。图9a是本专利技术一个实施例中掩膜版的平面结构示意图。图9b是图9a中沿CC’方向的剖面图。图10-图11是本专利技术一个实施例中在有机层的一个表面上形成第一金属层的流程示意图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。本专利技术是基于专利技术人的以下认识和发现而完成的：目前，制作高精度金属掩膜版的方法为湿法刻蚀工艺，具体可参照图1，首先在金属基板10的相对的两个表面上涂覆光刻胶，经过双面曝光工艺在金属基板10的表面上形成图案化的光刻胶层20，再利用湿法刻蚀方法刻蚀掉未被光刻胶层20覆盖的金属基板以便在金属基板10中获得通孔11，将光刻胶层20去除之后得到高精度金属掩膜版。但是，该方法中湿法刻蚀具有各向异性，分辨率极限为600ppi，分辨率受到限制。针对上述技术问题，专利技术人进行了深入的研究，研究后发现，可以先制作出具有尺寸较小、精度较高的凸起部的金属模板，利用该金属模板制作出有机层，使得有机层中的通孔与凸起部相匹配，再在有机层的一个表面上形成金属层，即可获得分辨率较高、易于张网、不易变形的掩膜版，该掩膜版的分辨率可高达800ppi。有鉴于此，在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种制作掩膜版的方法。根据本专利技术的实施例，参照图2，该方法包括：S100：在基板100的一个表面上形成第一凸起部110(具体结构可参照图3)或者第一凹陷部120(具体结构可参照图4)，以便得到第一模板。根据本专利技术的实施例，为了获得结构比较精细的第一凸起部或者第一凹陷部，形成基板的材料包括半导体，由此，材料来源广泛，易于加工成型，可以在基板的表面制作得到比较精细的微结构。在本专利技术的一些实施例中，为了更加便于加工，形成基板的材料包括硅。由此，更易于在基板表面制作得到比较精细的微结构，更利于在基板表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部。根据本专利技术的实施例，所述第一凹陷部或所述第一凸起部是通过干法刻蚀或者镭雕的方式形成的。由此，操作简单、方便，易于操作，获得的第一凸起部或者第一凹陷部的尺寸较小、尺寸精度较高。在本专利技术的一些实施例中，当形成第一凹陷部或第一凸起部的方法为干法刻蚀时，通过调节干法刻蚀的刻蚀剂、钝化剂、气体流量等参数，即可获得尺寸精本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制作掩膜版的方法，其特征在于，包括：在基板的一个表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部，以便得到第一模板；利用第一模板制作得到金属模板，所述金属模板的一个表面上具有第二凸起部，所述第二凸起部的形状与所述第一凸起部的形状一致或者与所述第一凹陷部相匹配；利用所述金属模板制作得到有机层，所述有机层中含有通孔，所述通孔与所述第二凸起部相匹配；在所述有机层的一个表面上形成第一金属层。

【技术特征摘要】
1.一种制作掩膜版的方法，其特征在于，包括：在基板的一个表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部，以便得到第一模板；利用第一模板制作得到金属模板，所述金属模板的一个表面上具有第二凸起部，所述第二凸起部的形状与所述第一凸起部的形状一致或者与所述第一凹陷部相匹配；利用所述金属模板制作得到有机层，所述有机层中含有通孔，所述通孔与所述第二凸起部相匹配；在所述有机层的一个表面上形成第一金属层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一模板的一个表面上具有所述第一凹陷部，且所述利用第一模板制作得到金属模板包括：在所述第一模板具有所述第一凹陷部的表面上形成第二金属层；去除所述第一模板，得到所述金属模板。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一模板的一个表面上具有所述第一凸起部，且所述利用第一模板制作得到金属模板包括：在所述第一模板具有所述第一凸起部的表面上形成聚合物层，然后去除所述第一模板，得到过渡膜层，所述过渡膜层的一个表面上具有第二凹陷部，所述第二凹陷部与所述第一凸起部相匹配；在所述过渡膜层具有所述第二凹陷部的表面上形成第二金属层；去除所述过渡膜层，得到所述金属模板。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一模板的一个表面上具有所述第一凸起部，且所述利用第一模板制作得到金属模板包括：在所述第一模板具有所述第一凸起部的表面上形成第二金属层；去除所述第一模板，得到所述金属模...

【专利技术属性】
技术研发人员：王慧娟，曲连杰，董学，徐婉娴，尤杨，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11