纳米颗粒制造制造技术

制造至少一种纳米颗粒的方法，包括提供一个或多个基材并在所述一个或多个基材上沉积物质。物质的至少一部分经加热或退火，因此所述至少一部分在所述一个或多个基材上成珠，这是由于所述物质的内聚力大于基材和物质之间的黏合力。在一些方法中，进行图案生成过程以限定所述至少一部分。还可以选择用于所述物质的物质材料和用于所述一个或多个基材的基材材料的组合，使得所述至少一部分成珠为预定形状。所述物质还可以沉积在具有亚单层厚度或具有间隙的一个或多个基材上以进一步减小纳米颗粒尺寸。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】纳米颗粒制造相关申请的交叉引用本申请要求2016年2月22日提交的名称为“纳米颗粒制造”的美国非临时专利申请号15/050,270的优先权，其公开内容通过引用纳入本文。
本公开涉及纳米制造。更具体地，本公开涉及纳米颗粒的制造。
技术介绍
纳米颗粒通常用于纳米工程中以用于各种应用，例如用作其他分子的附着点，或与电磁辐射相互作用。纳米颗粒通常定义为尺寸在0.1和100纳米(nm)之间的颗粒。根据应用，纳米颗粒可由各种材料组成。常用的纳米颗粒材料包括金属和半导体颗粒，例如量子点。这种颗粒通常具有某种球形或结晶形状。在诸如DNA测序的传感器之类的装置中需要使用小于约20nm的纳米颗粒。然而，这种尺寸范围的纳米颗粒不能通过目前的直接纳米制造方法制造。例如，用于控制沉积面积的阴影掩模仅在微米尺度上是实用的，而不是在纳米尺度上。即使是本领域的装置制造技术，例如极紫外(UV)光刻，或具有相移掩模的光刻，以及多重图案化，也仅产生低至约20nm但不小于约20nm的纳米颗粒。另外，通过诸如通过在溶液中沉淀晶体的方法形成的小于20nm的纳米颗粒可以最终形成各种不同的形状。这些纳米颗粒可能与形成装置时放置在表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制造至少一种纳米颗粒的方法，包括：提供基材；将初始形状的物质直接沉积在基材上；和加热所述物质持续足够的时间，使所述物质在基材上成珠并从物质的初始形状形成至少一种纳米颗粒。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.22 US 15/050,2701.一种制造至少一种纳米颗粒的方法，包括：提供基材；将初始形状的物质直接沉积在基材上；和加热所述物质持续足够的时间，使所述物质在基材上成珠并从物质的初始形状形成至少一种纳米颗粒。2.如权利要求1所述的方法，其中沉积所述物质包括进行图案生成过程以在所述物质的初始形状中限定尺寸维度，并且其中加热所述物质减小了形成所述至少一种纳米颗粒中的尺寸维度。3.如权利要求1所述的方法，其中将所述物质加热足够的时间，使所述物质从所述初始形状成珠为具有近似球形形状的至少一种纳米颗粒。4.如权利要求1所述的方法，还包括选择用于所述物质的物质材料和用于所述基材的基材材料的组合，使得所述物质内原子之间内聚力大于所述物质与所述基材之间的黏合力。5.如权利要求1所述的方法，还包括选择物质材料、基材材料和温度的组合，以在预定的角度范围内获得所述纳米颗粒和所述基材之间的接触角。6.如权利要求1所述的方法，其中所述初始形状包括不规则形状，所述不规则形状具有所述物质中的亚单层厚度、气泡、空隙和间隙区域中的至少一个。7.如权利要求1所述的方法，其中温度在约300℃至约500℃之间。8.如权利要求1所述的方法，其中足够的时间包括约15分钟至约2小时。9.如权利要求1所述的方法，其中所述物质选自金、银、铜、铝和钯。10.如权利要求1所述的方法，其中基材选自铬、铂、钯、钛、硅和掺杂硅。11.如权利要求1所述的方法，其中加热所述物质包括在环境介质中加热物质和基材，其中环境介质选自减压、接近绝对真空、正压、惰性气体、空气、油、聚合物、金属和半导体材料。12.一种制造多个纳米颗粒的方法，包括：提供一个或多个基材；通过进行图案生成过程在所述一个或多个基材中的每一个上沉积物质，以在所述一个或多个基材上限定所述物质的多个部分，其中所述多个部分的每个部分具有尺寸维度；和加热所述物质的多个部分，使得多个部分的每个部分在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·L·梅里曼，P·W·莫拉，C·崔，
申请(专利权)人：罗斯韦尔生物技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US