蚀刻液及利用该蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种蚀刻液及利用该蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺，所述的低雾度防眩光玻璃蚀刻液包含有重量比20～30％的全氟己烷、1‑3%的表面活性剂，5‑10%的氟化盐，10～15％的无机酸和45～70％的纯水。将清洗后的玻璃放入上述蚀刻液中，保持玻璃蚀刻液的温度为60℃，20‑50分钟后可直接得到低雾度的防眩光玻璃。相比较于三步法防眩光玻璃加工方法，一步法微氟蚀刻技术节省原材料，缩短工艺步骤，大大降低成本，蚀刻形成的防眩光玻璃广泛应用于手机屏幕，电脑屏幕，液晶电视等。

【技术实现步骤摘要】
蚀刻液及利用该蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺
本专利技术涉及一种蚀刻液及利用该蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺，属于玻璃表面防眩光蚀刻加工

技术介绍
AG防眩光玻璃生产原理乃是在原玻璃表面上进行特殊的加工，而这加工的方式有分成物理和化学两种方法，玻璃加工可为单面或是双面，加工后的玻璃特点是使原玻璃反光表面变较微弱反射表面（玻璃表面产生细微凹凸不平）。与原玻璃相比较具有较低的反射比，在光反射率会明显下降进而让显示器表现出更加清晰透明的视觉效果，在AG防眩光玻璃加工业中，传统的氢氟酸蚀刻法对玻璃的表面进行处理，不仅存在环保问题，而且存在安全问题。本专利技术针对这一问题，使用微氟蚀刻技术来替代氢氟酸蚀刻技术，实现防眩光表面蚀刻加工，相比于氢氟酸蚀刻三步法实现防眩光表面，微氟蚀刻技术实现了一步法达到低雾度的防眩光表面，相比较于三步法，一步法微氟蚀刻技术节省原材料，缩短工艺步骤，大大降低成本，蚀刻形成的防眩光玻璃广泛应用于手机屏幕，电脑屏幕，液晶电视等。
技术实现思路
本专利技术的目的在于：针对现有技术的缺陷和不足，提供一种蚀刻液及利用该蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺，能够一部法直接形成低雾度的防眩光玻璃表面，同时所形成的低雾度防眩光玻璃表面均匀，闪点低，透过率高，又具有良好的表面耐磨损性能。一种蚀刻液，按以下重量百分含量计的成分：20～30％的全氟己烷、1-3%的表面活性剂，5-10%的氟化盐，10～15％的无机酸和45～70％的纯水。所述无机酸为盐酸、硫酸、磷酸或者硝酸的一种或多种混合；所述表面活性剂为月桂醇聚氧乙烯醚、辛醇聚氧乙烯醚和脂肪酸甲酯聚氧乙烯醚一种或多种混合。一种利用蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺，包括如下步骤，使用抗酸膜或抗酸可剥胶保护玻璃无需蚀刻的部位，将玻璃蚀刻液注入蚀刻槽中，然后将待蚀刻的玻璃清洗后投入蚀刻槽中蚀刻；蚀刻过程中，保持玻璃蚀刻液的温度为60℃，蚀刻槽内温差控制在2％以内，20-50分钟后，可直接得到低雾度的防眩光玻璃。通过上述技术方案，本专利技术的有益效果为：采用本专利技术的蚀刻液及加工工艺，能够一步法直接形成低雾度防眩光玻璃，相比较于喷涂形成的低雾度防眩光玻璃，本方法形成的低雾度防眩光玻璃耐磨损性能好，可以长期使用而不脱落；其蚀刻液价格较低，蚀刻过程较容易控制，生产良率高，产品质量稳定，和三步法比较，生产过程中大大减少了废液的产生，环保性好，可以代替有高污染的三步法刻蚀生产工艺。具体实施方式实施例1一种蚀刻液，包括：将下列组分均匀混合，重量比24％的全氟己烷、1%的表面活性剂辛醇聚氧乙烯醚，5%的氟化钾，13％的硫酸和57％的纯水。一种利用蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺，包括：使用抗酸膜或抗酸可剥胶保护玻璃无需蚀刻的部位，将玻璃蚀刻液注入蚀刻槽中，然后将待蚀刻的玻璃清洗后投入蚀刻槽中蚀刻。蚀刻过程中，保持玻璃蚀刻液的温度为60℃，蚀刻槽内温差控制在2％以内，30分钟后，将玻璃取出清洗干净，可直接得到低雾度的防眩光玻璃。耐摩擦测试经过直径为20.0mm0000#钢丝绒加500克压力来回摩擦2000次不脱落，频率40次/分钟。其光学特性为透射雾度3.5%，光泽度（入射角度为60度时）为108，图像鲜映度（DOI）为96，其显微镜图像显示，玻璃表面产生起伏不平的表面，其特征大小为6微米，表面算术平均值粗糙度（Ra）为0.05微米。实施例2一种蚀刻液，包括：将下列组分均匀混合，重量比20％的全氟己烷、2%的表面活性剂月桂醇聚氧乙烯醚，8%的氟化铵，14％的盐酸和58％的纯水。一种利用蚀刻液实现低雾度防眩光玻璃的加工工艺，包括：使用抗酸膜或抗酸可剥胶保护玻璃无需蚀刻的部位，将玻璃蚀刻液注入蚀刻槽中，然后将待蚀刻的玻璃清洗后投入蚀刻槽中蚀刻。蚀刻过程中，保持玻璃蚀刻液的温度为60℃，蚀刻槽内温差控制在2％以内，25分钟后，将玻璃取出清洗干净，可直接得到低雾度的防眩光玻璃。耐摩擦测试经过直径为20.0mm0000#钢丝绒加500克压力来回摩擦2000次不脱落，频率40次/分钟。其光学特性为透射雾度2.8%，光泽度（入射角度为60度时）为113，图像鲜映度（DOI）为97，其显微镜图像显示，玻璃表面产生起伏不平的表面，其特征大小为4微米，表面算术平均值粗糙度（Ra）为0.04微米。最后应说明的是：以上所述仅为本专利技术的优选实施例而已，并不用于限制本专利技术，尽管参照前述实施例对本专利技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蚀刻液， 其特征在于：按以下重量百分含量计的成分，20～30％的全氟己烷、1‑3%的表面活性剂，5‑10%的氟化盐，10～15％的无机酸和45～70％的纯水。

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻液，其特征在于：按以下重量百分含量计的成分，20～30％的全氟己烷、1-3%的表面活性剂，5-10%的氟化盐，10～15％的无机酸和45～70％的纯水。2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于：所述无机酸为盐酸、硫酸、磷酸或者硝酸的一种或多种混合。3.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于：所述表面活性剂为月桂醇聚氧乙烯醚、辛醇聚氧乙烯醚和脂肪酸甲酯聚氧乙烯醚一种或多种混合。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：贡浩飞，潘华平，
申请(专利权)人：江苏金琥珀光学科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32