【技术实现步骤摘要】
用于系统级封装的TSV转接板
本技术属半导体集成电路
,特别涉及一种用于系统级封装的TSV转接板。
技术介绍
目前为止集成电路的特征尺寸已经低至7nm,在单个芯片上集成的晶体管数量已经到达百亿级别,伴随百亿级别的晶体管数量的要求,片上资源和互连线长度问题成为现今集成电路领域发展的瓶颈,3D集成电路被认为是未来集成电路的发展方向,它在原有电路的基础上,在Z轴上层叠,以求在最小的面积上集成更多的功能,这种方法克服了原有集成度的限制,利用新兴技术硅通孔(Through-SiliconVia,简称TSV),大幅度的提高了集成电路的性能,降低线上延迟,减小芯片功耗。在半导体行业里面,随着集成电路集成度的提高以及器件特征尺寸的减小,集成电路中静电放电(Electro-StaticDischarge,简称ESD)引起的潜在性损坏已经变得越来越明显。据有关报道,集成电路领域的故障中有近35%的故障是由ESD所引发的,因此芯片内部都设计有ESD保护结构来提高器件的可靠性。转接板通常是指芯片与封装基板之间的互连和引脚再分布的功能层。转接板可以将密集的I/O引线进行再分布,实现多 ...
【技术保护点】
1.一种用于系统级封装的TSV转接板,其特征在于,包括:Si衬底(10);设置于所述Si衬底(10)内的第一TSV区(101)、第一隔离区(102)、第一横向二极管(103)、第二隔离区(104)、第二横向二极管(105)、第三隔离区(106)以及第二TSV区(107);其中,所述第一横向二极管(103)设置于所述第一隔离区(102)和所述第二隔离区(104)形成的横向封闭区域内,所述第二横向二极管(105)设置于所述第二隔离区(104)和所述第三隔离区(106)形成的横向封闭区域内;所述第一TSV区(101)和所述第二TSV区(107)设置于所述第一隔离区(102)、所述 ...
【技术特征摘要】
1.一种用于系统级封装的TSV转接板,其特征在于,包括:Si衬底(10);设置于所述Si衬底(10)内的第一TSV区(101)、第一隔离区(102)、第一横向二极管(103)、第二隔离区(104)、第二横向二极管(105)、第三隔离区(106)以及第二TSV区(107);其中,所述第一横向二极管(103)设置于所述第一隔离区(102)和所述第二隔离区(104)形成的横向封闭区域内,所述第二横向二极管(105)设置于所述第二隔离区(104)和所述第三隔离区(106)形成的横向封闭区域内;所述第一TSV区(101)和所述第二TSV区(107)设置于所述第一隔离区(102)、所述第一横向二极管(103)、所述第二隔离区(104)、所述第二横向二极管(105)和所述第三隔离区(106)形成区域的外侧;铜互连线(108),对所述第一TSV区(101)的第一端面、所述第一横向二极管(103)、所述第二横向二极管(105)以及所述第二TSV区(107)的第一端面进行串行连接;其中,所述第一TSV区(101)、所述第一隔离区(102)、所述第二隔离区(104)、所述第三隔离区(106)以及所述第二T...
【专利技术属性】
技术研发人员:张捷,
申请(专利权)人:西安科锐盛创新科技有限公司,
类型:新型
国别省市:陕西,61
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。