显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本发明专利技术的显示基板，包括位于基底上的隔离柱，隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，第一隔离层位于第二隔离层背离基底的一侧；第二隔离层和第一隔离层分别具有靠近基底的底面和远离基底的顶面；其中，第一隔离层的顶面在基底的正投影覆盖第一隔离层的底面在基底的正投影，第二隔离层的顶面在基底的正投影覆盖第二隔离层的底面在基底的正投影，第二隔离层的底面在基底的正投影覆盖第一隔离层的顶面在基底的正投影，且第二隔离层的底面的面积大于第一隔离层的顶面的面积。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置
本专利技术属于显示
，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
如图1所示，无源矩阵OLED显示基板中，为了实现无源矩阵OLED的高分辨率和彩色化，更好地解决阴极模板分辨率低和器件成品率低等问题，提出了倒梯形阴极隔离柱的设计，从而在OLED器件制备过程中，利用隔离柱实现阴极层的自然断裂，形成多个阴极图案，从而提高产品良率。其中，为了更好地发挥倒梯形隔离柱的隔断作用，需要隔离柱的顶面与底面的有较大差距，由于现有材料形成的倒梯形隔离柱的倒角角度有限，只能通过隔离柱高度的设计增强其隔断作用，而这样会限制显示基板的轻薄化。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种能够降低显示基板厚度，提升隔离效果的显示基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，包括位于基底上的隔离柱，所述隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，所述第一隔离层位于所述第二隔离层背离所述基底的一侧；所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基底的底面和远离所述基底的顶面；其中，所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括位于基底上的隔离柱，其特征在于，所述隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，所述第一隔离层位于所述第二隔离层背离所述基底的一侧；所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基底的底面和远离所述基底的顶面；其中，所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影，且所述第二隔离层的底面的面积大于所述第一隔离层的顶面的面积。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括位于基底上的隔离柱，其特征在于，所述隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，所述第一隔离层位于所述第二隔离层背离所述基底的一侧；所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基底的底面和远离所述基底的顶面；其中，所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影，且所述第二隔离层的底面的面积大于所述第一隔离层的顶面的面积。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料相同。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料均包括有机光刻胶。4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料不同。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层的材料为第一负性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二负性光刻胶；所述第一负性光刻胶的光敏感度大于所述第二负性光刻胶的光敏感度；或者，所述第一隔离层的材料为第一正性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二正性光刻胶；所述第一正性光刻胶的光敏感度小于所述第二正性光刻胶的光敏感度。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为OLED显示基板。7.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：通过构图工艺在基底上依次形成第一隔离层和第二隔离层的图形；其中，所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘华清，魏雄周，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11