一种OLED显示面板及其制备方法技术

技术编号:19782200 阅读:18 留言:0更新日期:2018-12-15 12:30
本发明专利技术提供了一种OLED显示面板,包括基板、依次层叠设置在所述基板上的TFT阵列层和OLED层、以及覆盖所述OLED层的薄膜封装层和设置于所述薄膜封装层外周边缘的无机阻挡层,在所述TFT阵列层上的非显示区内,围绕所述OLED层四周边缘设有至少两圈凹槽,所述至少两圈凹槽与所述薄膜封装层对应设置,所述薄膜封装层完全覆盖所述OLED层并填充满与所述薄膜封装层对应的所述凹槽。本发明专利技术所述的OLED显示面板具有致密及稳定的封装结构,可以有效阻隔水汽和氧气渗透进入OLED器件中,大大提高OLED显示面板的发光使用寿命。本发明专利技术还提供了一种OLED显示面板的制备方法。

【技术实现步骤摘要】
一种OLED显示面板及其制备方法
本专利技术涉及显示面板
,尤其涉及一种OLED显示面板及其制备方法。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)显示面板凭借其自发光,视角广,寿命长,节能环保等特点,成为目前最具发展前景的显示技术之一;同时,与传统TFT-LCD(Thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay,薄膜晶体管液晶显示器)相比,OLED最大的优势在于其可做成柔性产品,实现可弯折/可卷曲。然而OLED显示面板中的OLED器件对空气中的水汽和氧气很敏感,易与水汽或氧气发生反应,影响其发光性能及使用寿命。因此,OLED器件需要进行严格的封装处理。现有技术中常采用薄膜封装(ThinFilmEncapsulation,TFE)的方法,虽然该封装方法可以实现较为轻与薄的薄膜封装结构,可以一定程度的阻隔水汽(H2O)和氧气(O2)。但是,TFE方法中对封装薄膜材料本身的性质有很高的要求,并且H2O和O2可能通过薄膜封装结构与面板层结构之间的间隙进入OLED器件中,特别是当OLED显示面板进行弯折时,由于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括基板、依次层叠设置在所述基板上的TFT阵列层和OLED层、以及覆盖所述OLED层的薄膜封装层和设置于所述薄膜封装层外周边缘的无机阻挡层,在所述TFT阵列层上的非显示区内,围绕所述OLED层四周边缘设有至少两圈凹槽,所述至少两圈凹槽与所述薄膜封装层对应设置,所述薄膜封装层完全覆盖所述OLED层并填充满与所述薄膜封装层对应的所述凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括基板、依次层叠设置在所述基板上的TFT阵列层和OLED层、以及覆盖所述OLED层的薄膜封装层和设置于所述薄膜封装层外周边缘的无机阻挡层,在所述TFT阵列层上的非显示区内,围绕所述OLED层四周边缘设有至少两圈凹槽,所述至少两圈凹槽与所述薄膜封装层对应设置,所述薄膜封装层完全覆盖所述OLED层并填充满与所述薄膜封装层对应的所述凹槽。2.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述TFT阵列层包括至少一无机材料功能层和置于所述无机材料功能层上的有机材料功能层;所述薄膜封装层包括至少一无机层,所述无机层对应设有至少一圈所述凹槽,所述无机层对应的所述至少一圈凹槽贯穿所述有机材料功能层,所述无机层对应的所述至少一圈凹槽的底部位于所述无机材料功能层表面或内部。3.如权利要求2所述的OLED显示面板,其特征在于,在所述TFT阵列层上的非显示区内,围绕所述OLED层四周边缘还设置有与所述无机阻挡层对应的至少一圈凹槽,所述无机阻挡层对应的凹槽贯穿所述有机材料功能层,所述无机阻挡层对应的凹槽的底部位于所述无机材料功能层表面或内部。4.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述无机阻挡层的材质包括二氧化硅、氮化硅和氧化铝中的一种或多种。5.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述薄膜封装层包...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵宸
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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