粉体的包覆方法与溅射设备技术

技术编号:19771237 阅读:28 留言:0更新日期:2018-12-15 07:50
本发明专利技术提供了一种粉体的包覆方法及其用途与溅射设备,涉及粉体制备领域,该粉体的包覆方法是将粉体悬浮于溅射工艺设备中的溅射腔内,通过溅射工艺在所述粉体表面制备包覆层。利用该方法能够缓解现有的包覆方法在粉体颗粒形成的包覆层均匀性差,无法在粉体表面形成360°的包覆层的技术问题,达到提高包覆层均匀性的效果。

【技术实现步骤摘要】
粉体的包覆方法与溅射设备
本专利技术涉及粉体制备领域,尤其是涉及一种粉体的包覆方法与溅射设备。
技术介绍
随着科技的进步和材料产业的发展,粉体的表面镀膜改性技术已逐渐应用于行业的方方面面,如电池催化剂、粉体光催化剂等。磁控溅射工艺是一种新型的物理气相沉积方法,镀层介质在真空系统中通过溅射的工艺沉积于粉体表面,形成包覆层,中间过程无废液或废气产生,是一种安全环保的生产工艺。但由于粉体自身的比表面积和表面能比较大,且曲率半径小,粉体之间容易发生团聚等现象,若通过简单的分散方式,无法实现粉体镀膜的均匀性,因而在粉体表面均匀镀膜处理的实现具有一定的难度。CN201610963465专利申请中,用电动机带动振动槽的方式使粉体材料振动,电机完全放置在溅射腔内,粉体材料进料装置采用真空法兰,该装置需要在溅射腔开孔处外接电源线,同时电机通电等会影响溅射腔内电磁场分布,进而导致粉体包覆层出现较大差异。另外,通过振动并不能使粉体有效翻转,因此,利用该方法在镀膜包覆时,在粉体表面形成的包覆层均匀性较差,无法在粉体表面形成360°的包覆层。有鉴于此,特提出本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的第一目的在于提供本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粉体的包覆方法,其特征在于,将粉体悬浮于溅射工艺设备中的溅射腔内,利用溅射工艺在所述粉体表面制备包覆层。

【技术特征摘要】
1.一种粉体的包覆方法,其特征在于,将粉体悬浮于溅射工艺设备中的溅射腔内,利用溅射工艺在所述粉体表面制备包覆层。2.根据权利要求1所述的包覆方法,其特征在于,在所述溅射腔内设置承载件,所述承载件的承载面设有通气孔,将所述粉体放置于所述承载件表面然后通入气体使所述粉体悬浮于所述溅射腔内。3.根据权利要求1或2所述的包覆方法,其特征在于,所述包覆层为化合物纳米膜或固体单质纳米膜。4.根据权利要求1或2所述的粉体的包覆方法,其特征在于,所述溅射方法包括直流溅射、射频溅射、磁控溅射和微波溅射。5.根据权利要求1或2所述的包覆方法,其特征在于,所述粉体为用于电池的粉体;优选地,所述电池为全固态电池;进一步优选地,所述粉体为:正极材料、负极材料或固态电解质。6.根据权利要求2所述的包覆方法,其特征在于,所述粉体为片状金属铝粉体颗粒,所述包覆层为Fe2O3纳米层;所述承载件为筛网,其中,包覆步骤包括:以氧化铁为靶材,将所述片状金属铝粉体颗粒置于所述溅射腔内的筛网上,抽真空后通入惰性气体使所述片状金属铝粉体颗粒悬浮于所述溅射腔内并进行溅射,其中,惰性气体的...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈渊周美丽
申请(专利权)人:桑德集团有限公司桑顿新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:西藏,54

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