阳光热反射膜结构制造技术

一种阳光热反射膜结构，从内至外包括金属基片、第一轰击活化层、粘接底层、第一粘结层系、介电层系、透明导电粘结层、功能反射层、主反射层、第二粘结层系、第二轰击活化层及透明防护层。如此结构稳固、可靠性高、具有较高光反射率。

【技术实现步骤摘要】
阳光热反射膜结构
本专利技术涉及光热
，特别是一种阳光热反射膜结构。
技术介绍
现有的阳光热能反射膜基材均采用玻璃，容易破碎，质量大且不便于运输，安装在室外时容易被冰雹等损伤。若直接采用金属材料则光反射率达不到要求。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种结构稳固、可靠性高、具有较高光反射率的阳光热反射膜结构，以解决上述问题。一种阳光热反射膜结构，从内至外包括金属基片(10)、第一轰击活化层(20)、粘接底层(30)、第一粘结层系(40)、介电层系(50)、透明导电粘结层(60)、功能反射层(70)、主反射层(80)、第二粘结层系(90)、第二轰击活化层(110)及透明防护层(120)，所述金属基片(10)为带状镜面卷材，厚度为0.3-0.4mm；所述粘接底层(30)的厚度为10nm；所述第一粘结层系(40)的厚度小于1nm；所述介电层系(50)的厚度为40nm；所述导电粘结层(60)的厚度为1nm；所述功能反射层(70)的厚度为40nm；所述主反射层(80)的厚度大于或等于100nm，所述第二粘结层系(90)的厚度小于1nm；所述透明防护层(120)的厚度大于或等于200n本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阳光热反射膜结构，其特征在于：从内至外包括金属基片(10)、第一轰击活化层(20)、粘接底层(30)、第一粘结层系(40)、介电层系(50)、透明导电粘结层(60)、功能反射层(70)、主反射层(80)、第二粘结层系(90)、第二轰击活化层(110)及透明防护层(120)，所述金属基片(10)为带状镜面卷材，厚度为0.3‑0.4mm；所述粘接底层(30)的厚度为10nm；所述第一粘结层系(40)的厚度小于1nm；所述介电层系(50)的厚度为40nm；所述导电粘结层(60)的厚度为1nm；所述功能反射层(70)的厚度为40nm；所述主反射层(80)的厚度大于或等于100nm，所述第二粘结...

【技术特征摘要】
1.一种阳光热反射膜结构，其特征在于：从内至外包括金属基片(10)、第一轰击活化层(20)、粘接底层(30)、第一粘结层系(40)、介电层系(50)、透明导电粘结层(60)、功能反射层(70)、主反射层(80)、第二粘结层系(90)、第二轰击活化层(110)及透明防护层(120)，所述金属基片(10)为带状镜面卷材，厚度为0.3-0.4mm；所述粘接底层(30)的厚度为10nm；所述第一粘结层系(40)的厚度小于1nm；所述介电层系(50)的厚度为40nm；所述导电粘结层(60)的厚度为1nm；所述功能反射层(70)的厚度为40nm；所述主反射层(80)的厚度大于或等于100nm，所述第二粘结层系(90)的厚度小于1nm；所述透明防护层(120)的厚度大于或等于200nm。2.如权利要求1所述的阳光热反射膜结构，其特征在于：所述主反射层(80)的厚度为110-150nm。3.如权利要求1所述的阳光热反射膜结构，其特征在于：所述透明防护层(120)的厚度为210-250nm。4.如权利要求1所述的阳光热反射膜结构，其特征在于：所述第一轰击活化层(20)在真空离子物理气相沉积设备中由空心阴极放电组件对...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕凯，陈大民，
申请(专利权)人：嘉兴岱源真空科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33