真空平台固定结构制造技术

一种真空平台固定结构，其可实现对弯曲度大于1.5mm的LTCC产品的稳固吸附，可大大提高打标定位的准确性和定位精度，并且可有效避免产品损坏等问题的出现，其包括真空平台，真空平台上设置有真空吸盘，真空吸盘有真空吸附孔，真空吸附孔通过管道与真空发生器连通，其特征在于:真空吸附孔位于真空吸盘的中心位置，在真空吸附孔的周围，真空吸盘由内而外设置有支撑凸筋，凸筋的顶端端面和真空吸盘的端面平齐；真空吸盘的直径为R，LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥R≥1/2*H，LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。

【技术实现步骤摘要】
真空平台固定结构
本专利技术涉及陶瓷产品生产
，具体为一种真空平台固定结构。
技术介绍
LTCC产品是一种采用LTCC技术生产的陶瓷产品，LTCC产品以其优异的电子、机械、热力特性而被广泛应用于电子元件的集成化、模组化生产中。目前LTCC产品的生产工艺流程为基板及原器件封装、镭射打标、切割、测试、包装出货，其中封装完成后的LTCC产品打标主要采用镭射打标设备实现，镭射站目前常用的镭射打标机的主要结构包括进料盒、上料推杆机构、打印和检测区域、出料推杆机构和收料盒，打印和检测区域设置有真空平台结构，现有技术中的打印和检测区域的真空平台主要采用分布式橡胶吸嘴吸附固定LTCC产品，橡胶吸嘴数量为6个或9个，均匀布置于真空平台上，且橡胶吸嘴为周围平齐中间凹陷的单孔结构，其可吸附弯曲度小于1.5mm的LTCC产品，而对于弯曲度大于1.5mm的LTCC产品则无法稳固吸附，在吸附过程中可能导致LTCC产品产生隐裂,从而影响LTCC产品的质量。
技术实现思路
针对现有技术中存在的真空平台的周围平齐中间凹陷的单孔结构的橡胶吸嘴无法吸附固定弯曲度大于1.5mm的LTCC产品及易造成产品隐裂的问题，本专利技术提供了一种真空平台固定结构，其可实现对弯曲度大于1.5mm的LTCC产品的稳固吸附，确保产品质量。其技术方案是这样的：一种真空平台固定结构，其包括真空平台，所述真空平台上设置有真空吸盘，所述真空吸盘有真空吸附孔，所述真空吸附孔通过管道与真空发生器连通，其特征在于:所述真空吸附孔位于所述真空吸盘的中心位置，在真空吸附孔的周围，所述真空吸盘由内而外设置有支撑凸筋，所述凸筋的顶端端面和所述真空吸盘的端面平齐；所述真空吸盘的直径为R，所述LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥R≥1/2*H，所述LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。其进一步特征在于：所述真空吸盘为橡胶材质；所述真空吸附孔的周围沿径向设置有呈发射状布置的所述凸筋，在所述发射状布置的凸筋的周围为以同心圆方式布置的环状凸筋，所述环状凸筋上设置有第一缺口，相邻两环上的第一缺口交错布置；在所述真空吸盘的侧部设置有固定夹，所述固定夹包括支撑段和压紧段，所述支撑段安装于升降结构，所述压紧段和所述真空吸盘盘面之间的夹角大于90°小于等于180°，所述压紧段间隔布置第二缺口，所述第二缺口与所述LTCC产品上的定位识别点相对应；所述固定夹的压紧段和待压紧的LTCC产品之间用圆弧面接触。将本专利技术的上述结构设置于真空打印平台或真空检测平台，真空吸盘设置有凸筋，凸筋起到支撑作用，凸筋的顶端端面与所述真空吸盘的端面平齐且设置第一缺口，对于所述真空吸盘的直径为R，所述LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥R≥1/2*H，所述LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm，满足这样关系的LTCC产品可以被牢牢吸附的同时又能保证LTCC产品不被吸附变形而造成隐裂，确保了产品质量。而固定夹的设置且固定夹压紧段间隔布置的第二缺口与所述LTCC产品上的定位识别点相对应，有效避免了LTCC产品上的定位识别点被遮挡，确保打印和检测时可实现准确定位，更进一步保证了较高的LTCC产品的质量。附图说明图1为本专利技术的俯视的结构示意图；图2为本专利技术的固定夹的主视的结构示意图；图3为本专利技术的固定夹的右视的结构示意图；图4为本专利技术的真空吸盘俯视的放大结构示意图。具体实施方式如图1至图4所示，一种真空平台固定结构，其包括真空平台1，真空平台1上设置有真空吸盘2，真空吸盘2有真空吸附孔21，真空吸附孔21通过管道与真空发生器（图中未画出）连通，真空吸附孔21位于真空吸盘2的中心位置，真空吸盘2的直径为R，LTCC产品4的最大长度为H，则2/3*H≥R≥1/2*H，LTCC产品4的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm，真空吸盘2为橡胶材质；在真空吸附孔21的周围，真空吸盘2由内而外设置有支撑凸筋3，凸筋3的顶端端面和真空吸盘2的端面平齐；真空吸附孔21的周围沿径向设置有呈发射状布置的凸筋3，在发射状布置的凸筋3的周围为以同心圆方式布置的环状凸筋31，环状凸筋31上设置有第一缺口32，相邻两环上的第一缺口32交错布置；在真空吸盘2的侧部设置有固定夹5，固定夹5包括支撑段51和压紧段52，支撑段51安装于升降结构（图中未画出），压紧段52和真空吸盘2盘面之间的夹角M大于90°小于等于180°，压紧段52间隔布置第二缺口53，第二缺口53与LTCC产品4上的定位识别点41相对应，固定夹5的压紧段51和待压紧的LTCC产品4之间用圆弧面54接触。其具体工作原理如下所述：将本专利技术的上述结构设置于真空打印平台或真空检测平台，将LTCC产品4置于真空平台1上，真空平台1上的真空吸盘2与LTCC产品4的中间部位相对应，真空发生器工作，真空平台1上的真空吸盘2的抽真空操作启动，牢牢吸附LCTT产品4的中间位置，固定夹5在升降结构的作用下下降，固定夹5的一侧通过螺纹孔55与升降结构固定连接，升降结构驱动固定夹5向LCTT产品4的上端面移动，压紧LTCC产品5的上端面，进一步固定LTCC产品5，固定夹5上的第二缺口51对应LTCC产品4上的定位识别点41，便于对LTCC产品4上的定位识别点41进行检测操作；真空吸盘2内的凸筋3对LTCC产品4起到支撑作用，凸筋3的顶端端面与真空吸盘2的端面平齐的目的是分散由中间真空吸附孔21出来的真空力，从而牢牢吸附弯曲度大于1.5mm，小于等于1.8mm的LTCC产品5的基板，例如，当LTCC产品5基板的尺寸为100*103mm，弯曲度等于1.8mm时，通过测试，真空吸盘2的直径R=1/2*H，即R为51.5mm可牢牢吸附LTCC产品5，当真空吸盘2的直径R=2/3*H时，或当R=3/4*H时，LTCC产品5基板与真空吸盘2的接触面积增大，真空会大大增强，真空吸盘2接触LTCC产品4的瞬间可能会造成LTCC产品5的隐裂，因此，选取R为51.5mm的真空吸盘4；将固定夹5的压紧段51和待压紧的LTCC产品4之间用圆弧面54接触，可有效避免具有一定弯曲度的陶瓷产品的表面被划伤。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空平台固定结构，其包括真空平台，所述真空平台上设置有真空吸盘，所述真空吸盘有真空吸附孔，所述真空吸附孔通过管道与真空发生器连通，其特征在于: 所述真空吸附孔位于所述真空吸盘的中心位置，在真空吸附孔的周围，所述真空吸盘由内而外设置有支撑凸筋，所述凸筋的顶端端面和所述真空吸盘的端面平齐；所述真空吸盘的直径为R，所述LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥ R≥1/2*H，所述LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。

【技术特征摘要】
1.一种真空平台固定结构，其包括真空平台，所述真空平台上设置有真空吸盘，所述真空吸盘有真空吸附孔，所述真空吸附孔通过管道与真空发生器连通，其特征在于:所述真空吸附孔位于所述真空吸盘的中心位置，在真空吸附孔的周围，所述真空吸盘由内而外设置有支撑凸筋，所述凸筋的顶端端面和所述真空吸盘的端面平齐；所述真空吸盘的直径为R，所述LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥R≥1/2*H，所述LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。2.根据权利要求1所述的一种真空平台固定结构，其特征在于：所述真空吸盘为橡胶材质。3.根据权利要求1所述的一种真空平台固定结构，其特征在于：所述真...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫立意，
申请(专利权)人：全讯射频科技无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32