载置台和等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种等离子体处理装置用的载置台，其可设定的温度的范围宽广，并且，能够细微地控制基片的面内温度分布。一个实施方式的载置台包括静电吸盘。静电吸盘具有基座和吸盘主体。吸盘主体设置在基座上，利用静电引力保持基片。吸盘主体具有多个第1加热器和多个第2加热器。多个第2加热器的个数比多个第1加热器的个数多。第1加热器控制器利用来自第1电源的交流或直流的输出对多个第1加热器进行驱动。第2加热器控制器利用来自第2电源的交流或直流的输出对多个第2加热器进行驱动，该第2电源具有比来自第1电源的输出的功率低的功率。

【技术实现步骤摘要】
载置台和等离子体处理装置
本专利技术涉及载置台和等离子体处理置。
技术介绍
在半导体器件等电子器件的制造中，使用等离子体处理装置。等离子体处理装置一般包括腔室主体和载置台。腔室主体提供其内部空间作为腔室。载置台设置在腔室内。载置台支承载置在其之上的基片。载置台包括静电吸盘。静电吸盘具有基座和吸盘主体。基座与高频电源连接。吸盘主体设置在基座上。吸盘主体在该吸盘主体与载置在其之上的基片之间产生静电引力，利用产生的静电引力保持基片。在使用等离子体处理装置进行的等离子体处理中，基片的面内温度分布是重要的。因此，要求载置台控制基片的面内温度分布。为了控制基片的面内温度分布，在吸盘主体内设置有多个加热器(电阻发热加热器)。多个加热器各自被交流电源交流驱动。具有这样的载置台的等离子体处理装置记载在专利文献1中。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-6875号公报
技术实现思路
专利技术想要解决的技术问题为了提高基片的面内温度分布的控制性能，需要在吸盘主体内设置大量的加热器。在加热器的个数多的情况下，对加热器供给交流输出的供电线的数量变多，各供电线的额定电流变小。因此，供给至各加热器的交流输出的功率变小，对各加热器而言，可设定的温度的范围变狭。在这样的背景下，要求可设定的温度的范围宽广、并且能够细微地控制基片的面内温度分布的载置台。用于解决技术问题的技术方案在一个方式中，提供等离子体处理装置用的载置台。载置台包括供电部和静电吸盘。供电部提供传输来自高频电源的高频的传输路径。静电吸盘具有基座和吸盘主体。基座具有导电性，设置在供电部上，与供电部电连接。吸盘主体设置在基座上，利用静电引力保持基片。吸盘主体具有多个第1加热器和多个第2加热器。多个第1加热器以在与吸盘主体的中心轴线正交的该吸盘主体内的面上分布的方式设置在该吸盘主体内。多个第2加热器的个数比多个第1加热器的个数多。多个第2加热器以在与吸盘主体的中心轴线正交的该吸盘主体内的另一面上分布的方式设置在该吸盘主体内。载置台还包括第1加热器控制器和第2加热器控制器。第1加热器控制器利用来自第1电源的交流或直流的输出对多个第1加热器进行驱动。第2加热器控制器利用来自第2电源的交流或直流的输出对多个第2加热器进行驱动，所述第2电源具有比来自第1电源的输出的功率低的功率。在一个方式的载置台中，第1加热器的个数比第2加热器的个数小。即，第1加热器的个数比较少。因此，多个第1加热器用的供电线的个数变少，各供电线的额定电流变大。因此，供给至多个第1加热器各自的输出的可设定的功率的范围变宽，可设定的温度的范围变宽。另外，能够利用具有比较小的功率的输出驱动比较多的数量的第2加热器的各个第2加热器。因此，多个第2加热器各自可设定的温度的范围窄，多个第2加热器能够细微地控制基片的面内温度分布。由于一个方式的载置台具有上述的多个第1加热器和多个第2加热器，因此该载置台可设定的温度的范围宽广，并且，该载置台能够细微地控制基片的面内温度分布。在一个实施方式中，第1加热器控制器利用来自第1电源的交流输出对多个第1加热器进行交流驱动。第2加热器控制器利用来自第2电源的直流输出对多个第2加热器分别进行直流驱动。在一个实施方式中，多个第1加热器相对于吸盘主体的中心轴线同轴地设置。多个第2加热器，分别设置在与吸盘主体的中心轴线交叉的中心区和在包围该中心区并且相对于吸盘主体的中心轴线同轴的多个领域内在周向排列的多个区。根据该实施方式，利用多个第1加热器控制基片的径向的温度分布，利用多个第2加热器控制基片的径向和周向的温度分布。在一个实施方式中，吸盘主体具有：作为基座一侧的表面的背面；和作为该背面的相反侧的表面的上表面。多个第2加热器设置在多个第1加热器与该上表面之间。在该实施方式中，多个第2加热器，与多个第1加热器相比，靠近吸盘主体的上表面(即，在其上载置基片的面)地设置。因此，能更进一步提高基片的面内温度分布的控制性。在一个实施方式中，载置台还包括多个第1供电线和多个第2供电线。多个第1供电线与多个第1加热器分别电连接。多个第2供电线与多个第2加热器分别电连接。第1加热器控制器分配来自第1电源的输出而生成多个第1输出，将具有被分别调节后的功率量的多个第1输出经多个第1供电线供给至多个第1加热器的各个第1加热器。第2加热器控制器分配来自第2电源的输出而生成多个第2输出，将具有被分别调节后的功率量的多个第2输出经多个第2供电线供给至多个第2加热器的各个第2加热器。供电部划分形成由传输路径包围的收纳空间。多个第1供电线、第1加热器控制器、多个第2供电线和第2加热器控制器，设置在收纳空间内。根据该实施方式，在被传输路径包围的收纳空间内向多个第1加热器分配输出，因此能够削减用于抑制高频从载置台流入第1电源的滤波器的个数。此外，在被传输路径包围的收纳空间内向多个第2加热器分配输出，因此能够削减用于抑制高频从载置台流入第2电源的滤波器的个数。因此，因此能够抑制滤波器的阻抗特性的下降，并且能够抑制高频的损失。在一个实施方式中，多个第1输出的功率实质上相同并且为一定，第1加热器控制器对多个第1占空比进行控制，该多个第1占空比是该多个第1输出分别被供给至多个第1加热器的供给时间长度相对于规定时间长度的比率。多个第2输出的功率实质上相同并且为一定，第2加热器控制器对多个第2占空比进行控制，该多个第2占空比是该多个第2输出分别被供给至多个第2加热器的供给时间长度相对于规定时间长度的比率。在该实施方式中，对多个第1加热器分别进行驱动的多个第1输出的功率量通过多个第1占空比被分别调节，对多个第2加热器分别进行驱动的多个第2输出的功率量通过多个第2占空比被分别调节。根据该实施方式，不用将大量的功率控制电路(例如DC/DC转换器)搭载在第2加热器控制器上就能够对分别驱动多个第2加热器中的各个第2加热器的多个第2输出的功率量进行调节。在一个实施方式中，载置台还包括多个温度传感器，其对分别配置有多个第1加热器的多个区各自的温度进行测量。第1加热器控制器对多个第1占空比进行调节，以使由多个温度传感器各自测量得到的温度的测量值与目标温度之间的误差、或者根据由多个温度传感器各自测量得到的温度的测量值的时间序列求取的移动平均值与该目标温度之间的误差减少。第2加热器控制器对多个第2占空比进行调节，以使多个第2输出各自的功率的测量值与多个第2占空比中的对应的第2占空比之积与目标值之间的误差、或根据多个第2输出各自的功率的测量值与对应的第2占空比之积的时间序列求取的移动平均值与该目标值之间的误差减少。在该实施方式中，供给至多个第2加热器的多个第2输出，并不是基于配置有多个第2加热器的区域各自的温度的测量值被控制，而是基于上述的功率的测量值与第2占空比之积或移动平均值被控制。因此，设置在载置台上的温度传感器的个数变少。在一个实施方式中，吸盘主体具有：基片搭载区域，在其上载置基片；和外周区域，其相对于中心轴线在径向从外侧包围基片搭载区域。多个第1供电线和多个第2供电线电连接的多个端子设置在外周区域。这多个端子在基片的温度控制中是不希望的温度的特异点。在该实施方式中，这多个端子设置在外周区域，没有设置在基片搭载区域，因此能够抑制多个端子对基片的温度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体处理装置用的载置台，其特征在于，包括：供电部，其提供传输来自高频电源的高频的传输路径；和具有基座和吸盘主体的静电吸盘，其中，所述基座具有导电性，设置在所述供电部上，与所述供电部电连接，所述吸盘主体设置在所述基座上，利用静电引力保持基片，所述吸盘主体包括：设置在该吸盘主体内的多个第1加热器，该多个第1加热器在与该吸盘主体的中心轴线正交的该吸盘主体内的面上分布；和设置在该吸盘主体内的多个第2加热器，该多个第2加热器的个数比所述多个第1加热器的个数多，所述多个第2加热器在与所述中心轴线正交的该吸盘主体内的另一面上分布，所述载置台还包括：利用来自第1电源的交流或直流的输出，对所述多个第1加热器进行驱动的第1加热器控制器；和利用来自第2电源的交流或直流的输出，对所述多个第2加热器进行驱动的第2加热器控制器，所述第2电源具有比来自所述第1电源的所述输出的功率低的功率。

【技术特征摘要】
2017.05.30 JP 2017-1067361.一种等离子体处理装置用的载置台，其特征在于，包括：供电部，其提供传输来自高频电源的高频的传输路径；和具有基座和吸盘主体的静电吸盘，其中，所述基座具有导电性，设置在所述供电部上，与所述供电部电连接，所述吸盘主体设置在所述基座上，利用静电引力保持基片，所述吸盘主体包括：设置在该吸盘主体内的多个第1加热器，该多个第1加热器在与该吸盘主体的中心轴线正交的该吸盘主体内的面上分布；和设置在该吸盘主体内的多个第2加热器，该多个第2加热器的个数比所述多个第1加热器的个数多，所述多个第2加热器在与所述中心轴线正交的该吸盘主体内的另一面上分布，所述载置台还包括：利用来自第1电源的交流或直流的输出，对所述多个第1加热器进行驱动的第1加热器控制器；和利用来自第2电源的交流或直流的输出，对所述多个第2加热器进行驱动的第2加热器控制器，所述第2电源具有比来自所述第1电源的所述输出的功率低的功率。2.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：所述第1加热器控制器利用来自所述第1电源的交流输出，对所述多个第1加热器进行交流驱动，所述第2加热器控制器利用来自所述第2电源的直流输出，对所述多个第2加热器分别进行直流驱动。3.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于：所述多个第1加热器与所述中心轴线同轴地设置，所述多个第2加热器，分别设置在与所述中心轴线交叉的中心区和在包围该中心区并且与该中心轴线同轴的多个领域内在周向排列的多个区。4.如权利要求1～3中任一项所述的载置台，其特征在于：所述吸盘主体包括：作为所述基座一侧的表面的背面；和作为与该背面相反一侧的表面的上表面，所述多个第2加热器设置在所述多个第1加热器与该上表面之间。5.如权利要求1～4中任一项所述的载置台，其特征在于，还包括：与所述多个第1加热器分别电连接的多个第1供电线；和与所述多个第2加热器分别电连接的多个第2供电线，所述第1加热器控制器分配来自所述第1电源的所述输出而生成多个第1输出，将具有被分别调节后的功率量的该多个第1输出经所述多个第1供电线供给至所述多个第1加热器的各个第1加热器，所述第2加热器控制器分配来自所述第2电源的所述输出而生成多个第2输出，将具有被分别调节后的功率量的该多个第2输出经所述多个第2供电线供给至所述多个第2加热器的各个第2加热器，所述供电部划分形成由所述传输路径包围的收纳空间，所述多个第1供电线、所述第1加热器控制器、所述多个第2供电线和所述第2加热器控制器设置在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤宏纪，小泉克之，奥西直彦，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP