掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备。该掩膜板包括图案部，所述图案部在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构，所述图案部在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构，所述第一方向和所述第二方向交叉设置。本发明专利技术中在第一方向和第二方向两个方向上对图案部施加拉力，避免了掩膜板在不同方向上的形变不一致的问题，从而避免了掩膜板产生褶皱，进而提高了发光器件的生产良率。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备。
技术介绍
目前，有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，简称：OLED)面板的生产主要采用的是蒸发镀膜的方式。蒸镀过程中，通常采用高精度金属掩膜板(FineMetalMask，简称：FMM)来沉积RGB膜层。FMM的平坦度对膜层沉积的均一性、位置准确性有着直接的影响。使用前需先对FMM进行张网，并用激光将FMM焊接在金属框架(Frame)上。通常FMM的形状均为条状，则FMM具备四条边，其中相对设置的两条边位于一个方向上，相对设置的另两条边位于另一个方向上。张网过程中在FMM的一个方向上的两端沿相反方向施加拉力以将FMM在该方向上拉直后进行焊接。现有技术中，由于仅在条状的FMM的一个方向的两端上沿相反方向施加拉力，而在条状的FMM的另一个方向的两端未施加拉力，因此导致FMM上受力不均，使得FMM在不同方向的形变不一致，容易在另一个方向上产生褶皱，这些褶皱将导致蒸镀不均、阴影(Shadow)或混色等不良，从而导致OLED器件的生产良率低。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备，用于避免掩膜板产生褶皱，从而提高发光器件的生产良率。为实现上述目的，本专利技术提供了一种掩膜板，包括图案部，所述图案部在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构，所述图案部在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构，所述第一方向和所述第二方向交叉设置。可选地，所述第二拉伸配合结构包括侧边结构和设置于所述侧边结构上的至少一个镂空结构。可选地，所述第二拉伸配合结构为镂空结构。可选地，所述第一拉伸配合结构、所述第二拉伸配合结构和所述图案部一体成型，所述第一拉伸配合结构和所述图案部之间设置有第一分割线，所述第二拉伸配合结构和所述图案部之间设置有第二分割线。可选地，所述图案部在所述第一方向上的相对设置的两个边缘上分别设置有至少一个第一拉伸配合结构，所述图案部在所述第二方向上的相对设置的两个边缘上分别设置有至少一个第二拉伸配合结构。为实现上述目的，本专利技术提供了一种掩膜装置，包括框架和设置于所述框架之上的多个掩膜板。可选地，多个所述掩膜板并排设置于所述框架上，所述框架上还设置有遮挡掩膜板，所述遮挡掩膜板设置于间隔设置的所述掩膜板之间且所述遮挡掩膜板的边缘和所述掩膜板的边缘重叠设置，所述遮挡掩膜板的边缘和所述掩膜板的边缘固定连接。可选地，所述掩膜板的边缘为所述图案部在所述第二方向上的边缘。为实现上述目的，本专利技术提供了一种掩膜制造设备，包括第一拉伸装置、第二拉伸装置和上述掩膜装置；每个所述第一拉伸装置通过对应的所述第一拉伸配合结构在所述第一方向上对所述图案部施加拉力，以实现在第一方向上对图案部沿相反方向施加拉力；每个所述第二拉伸装置通过对应的所述第二拉伸配合结构在所述第二方向上对所述图案部施加拉力，以实现在第二方向上对图案部上沿相反方向施加拉力。可选地，所述掩膜板采用上述掩膜板；所述第二拉伸装置包括固定部分和拉伸部分，所述固定部分设置于所述镂空结构中；所述拉伸部分用于在所述第二方向上对所述图案部施加拉力。可选地，所述固定部分的外侧和/或内侧设置有凹槽，所述凹槽与所述镂空结构的边缘卡合设置。为实现上述目的，本专利技术提供了一种掩膜装置的制造方法，所述掩膜装置包括框架和掩膜板，所述掩膜板包括图案部，所述图案部在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构，所述图案部在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构，所述第一方向和所述第二方向交叉设置；所述方法包括：每个第一拉伸装置通过对应的所述第一拉伸配合结构在所述第一方向上对所述图案部施加拉力以实现在第一方向上对图案部沿相反方向施加拉力，以及每个第二拉伸装置通过对应的所述第二拉伸配合结构在所述第二方向上对所述图案部施加拉力以实现在第二方向上对图案部上沿相反方向施加拉力；将所述掩膜板固定于所述框架上。可选地，所述第一拉伸配合结构、所述第二拉伸配合结构和所述图案部一体成型，所述第一拉伸配合结构和所述图案部之间设置有第一分割线，所述第二拉伸配合结构和所述图案部之间设置有第二分割线；所述将所述掩膜板固定于所述框架上之前还包括：沿所述第一分割线将所述第一拉伸配合结构从所述图案部上去除以及沿所述第一分割线将所述第二拉伸配合结构从所述图案部上去除。可选地，所述第二拉伸配合结构包括侧边结构和设置于所述侧边结构上的镂空结构，或者所述第二拉伸配合结构为镂空结构；所述第二拉伸装置包括固定部分和拉伸部分，所述固定部分设置于所述镂空结构中；所述每个第二拉伸装置通过对应的所述第二拉伸配合结构在所述第二方向上对所述图案部施加拉力包括：每个所述第二拉伸装置穿过对应的镂空结构以在第二方向上对所述图案部施加拉力。本专利技术具有以下有益效果：本专利技术提供的技术方案中，图案部在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构，图案部在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构，通过第一拉伸配合结构在第一方向上对图案部施加拉力，通过第二拉伸配合结构在第二方向上对图案部施加拉力，本专利技术中在第一方向和第二方向两个方向上对图案部施加拉力，避免了掩膜板在不同方向上的形变不一致的问题，从而避免了掩膜板产生褶皱，进而提高了发光器件的生产良率。附图说明图1为本专利技术实施例一提供的一种掩膜板的结构示意图；图2为图1中掩膜板的应用示意图；图3为图2中第二拉伸装置的结构示意图；图4为本专利技术实施例二提供的一种掩膜板的结构示意图；图5为图4中第二拉伸装置的结构示意图；图6为本专利技术实施例三提供的一种掩膜板的结构示意图；图7a为本专利技术实施例四提供的一种掩膜装置的结构示意图；图7b为遮挡掩膜板的示意图；图8为本专利技术实施例五提供的一种掩膜装置的结构示意图；图9为本专利技术实施例六提供的一种掩膜装置的结构示意图；图10为本专利技术实施例八提供的一种掩膜装置的制造方法的流程图；图11为现有技术和本专利技术中的掩膜板的受力形变对比示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术提供的掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备进行详细描述。图1为本专利技术实施例一提供的一种掩膜板的结构示意图，图2为图1中掩膜板的应用示意图，图3为图2中第二拉伸装置的结构示意图，如图1至图3所示，该掩膜板包括图案部1，图案部1在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构2，图案部1在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构3，第一方向和第二方向交叉设置。在实际应用中，第一拉伸装置的数量可以为多个，第二拉伸装置的数量可以为多个，可通过第一拉伸装置和第二拉伸装置对图案部1施加拉力，从而实现对掩膜板进行张网。具体地，每个第一拉伸装置(图中未示出)通过对应的第一拉伸配合结构2在第一方向上对图案部1施加拉力，以实现在第一方向上对图案部1沿相反方向施加拉力；每个第二拉伸装置(图中未示出)通过对应的第二拉伸配合结构3在第二方向上对图案部1施加拉力，以实现在第二方向上对图案部1沿相反方向施加拉力。图案部1在第一方向上的相对设置的两个边缘上分别设置有至少一个第一拉伸配合结构2。本实施例中，图案部1在第一方向上的相对设置的两个边缘上分别设置有一个第一拉本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括图案部，所述图案部在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构，所述图案部在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构，所述第一方向和所述第二方向交叉设置。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括图案部，所述图案部在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构，所述图案部在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构，所述第一方向和所述第二方向交叉设置。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二拉伸配合结构包括侧边结构和设置于所述侧边结构上的至少一个镂空结构。3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二拉伸配合结构为镂空结构。4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一拉伸配合结构、所述第二拉伸配合结构和所述图案部一体成型，所述第一拉伸配合结构和所述图案部之间设置有第一分割线，所述第二拉伸配合结构和所述图案部之间设置有第二分割线。5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述图案部在所述第一方向上的相对设置的两个边缘上分别设置有至少一个第一拉伸配合结构，所述图案部在所述第二方向上的相对设置的两个边缘上分别设置有至少一个第二拉伸配合结构。6.一种掩膜装置，其特征在于，包括框架和设置于所述框架之上的多个权利要求1至5任一所述的掩膜板。7.根据权利要求6所述的掩膜装置，其特征在于，多个所述掩膜板并排设置于所述框架上，所述框架上还设置有遮挡掩膜板，所述遮挡掩膜板设置于间隔设置的所述掩膜板之间且所述遮挡掩膜板的边缘和所述掩膜板的边缘重叠设置，所述遮挡掩膜板的边缘和所述掩膜板的边缘固定连接。8.根据权利要求7所述的掩膜装置，其特征在于，所述掩膜板的边缘为所述图案部在所述第二方向上的边缘。9.一种掩膜制造设备，其特征在于，包括第一拉伸装置、第二拉伸装置和权利要求6至8任一所述的掩膜装置；每个所述第一拉伸装置通过对应的所述第一拉伸配合结构在所述第一方向上对所述图案部施加拉力，以实现在第一方向上对图案部沿相反方向施加拉力；每个所述第二拉伸装置通过对应的所述第二拉伸配合结构在所述第二方向上对所述图案部施加拉力，以实现在第二方向上对图案部上沿相反方向施加拉力。10.根据权利要求9所述的掩膜制造...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗昶，梁逸南，吴海东，吴建鹏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11