防滴落系统技术方案

一种防滴落系统，包括：第一自动控制阀，第一自动控制阀的输入端流体连接至要分配的流体源，第一自动控制阀具有自完全闭合至完全开启的位置；第二自动控制阀，第二自动控制阀的输入端流体连接至第一自动控制阀的输出端，第二自动控制阀的输出端流体连接至喷嘴，第二自动控制阀具有自完全闭合至完全开启的位置；代理感测器，配置以产生代理信号，代理信号表示第一自动控制阀的位置的间接量测；以及控制器，电性连接至第一自动控制阀，第二自动控制阀与代理感测器，配置控制器以使第二自动控制阀根据代理信号闭合，从而中断流至喷嘴的液体流。

【技术实现步骤摘要】
防滴落系统
本揭示的实施方式是关于一种防滴落系统。
技术介绍
半导体晶圆在制造期间经历多制程，以自晶圆最终产生多个集成电路(integratedcircuit,IC)。多制程包括沉积制程，其中材料的对应层沉积在晶圆表面上。在典型沉积制程中，光阻材料层被应用至半导体基板，例如三层光阻。在此沉积制程之前，晶圆表面受到基板准备制程，以准备用来接收光阻的晶圆表面。基板准备制程通常包括以清洗溶剂洗涤晶圆表面，接着烘烤晶圆以促进脱水，以及随后将增粘剂旋转涂布在晶圆上。接下来，将光阻材料层旋转涂布在晶圆上。光阻材料层暴露于光(或其他类型的曝光辐射)，以便选择性地改变光阻对显影剂的溶解性。曝光之后，施加显影剂至现暴露的光阻材料层，例如通过晶圆旋转时将显影剂释放在晶圆上(旋转释放)。洗涤、增粘剂的旋涂、光阻材料的旋涂以及显影剂的旋转释放各包括了液体的分配。一般上使用自动控制阀(automaticcontrolvalve,ACV)来启动及停止液体材料至晶圆表面上的流动，例如气动阀。
技术实现思路
本揭示提供一种防滴落系统，包括：第一自动控制阀，其输入端是流体连接至要分配的流体的流体源，并具有自完全闭合至完全本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防滴落系统，其特征在于，包含：一第一自动控制阀，该第一自动控制阀的一输入端是流体连接至要分配的流体的一流体源，该第一自动控制阀具有自完全闭合至完全开启的位置；一第二自动控制阀，该第二自动控制阀的一输入端是流体连接至该第一自动控制阀的一输出端，且该第二自动控制阀的一输出端是流体连接至一喷嘴，该第二自动控制阀具有自完全闭合至完全开启的位置；一代理感测器，经配置以产生一代理信号，该代理信号表示一间接量测的该第一自动控制阀的一位置；以及一控制器，电性连接至该第一自动控制阀及该第二自动控制阀，并电性连接至该代理感测器，该控制器经配置以导致该第二自动控制阀根据该代理信号而闭合，并从而中断流至该喷嘴...

【技术特征摘要】
2017.05.17 US 15/597,9081.一种防滴落系统，其特征在于，包含：一第一自动控制阀，该第一自动控制阀的一输入端是流体连接至要分配的流体的一流体源，该第一自动控制阀具有自完全闭合至完全开启的位置；一第二自动控制阀，该第二自动控制阀的一输入端是流体连接至该第一自动控制阀的一输出端，且该第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王健宏，林群智，廖啟宏，李永尧，郑威昌，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71