一种反光材料的涂胶设备及涂胶工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种反光材料的涂胶设备，包括：涂胶系统，涂胶系统包括底辊、带胶辊和料槽，底辊与带胶辊之间设置有涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；带胶辊设置在料槽内部并与料槽内部的胶水接触；一供胶系统，供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口；以及一溢流系统，溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口。还公开了涂胶工艺。该反光材料的涂胶设备，通过控制底辊速度与带胶辊之间有一定的速差及两辊之间的间距，利用非接触式涂胶方式，从而实现了均匀涂胶，解决了因涂胶不均匀从而导致反光材料外观颜色及面状均匀性差的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种反光材料的涂胶设备及涂胶工艺
本专利技术涉及反光材料制作设备
，特别涉及一种反光材料的涂胶设备及涂胶工艺。
技术介绍
亮银产品植珠过程为了保证：①在后续涂胶复合生产加工过程珠子不易掉落影响表观面状；②为了保证产品的水洗及亮度性能；需在单层排布在某种基材上的珠子面涂一层均匀且非常薄的胶以固定珠子和保证水洗及亮度性能。一般的接触式涂布方式（如三棍转移涂胶、网线辊转移涂胶、线棒涂胶）在珠子面上薄胶的时容易出现：①珠子被刮掉或压合时发生脱落；②掉落的珠子在计量辊上积聚后导致刮伤，上胶不均匀。而逗号刮刀虽为非接触式上胶，但对于上胶量要求非常小的所需的涂胶间隙需要调的很小，会导致珠子被刮掉同时刮落的珠子容易卡在刮刀口影响产品面状。生产过程发现由于涂胶量的多少对于产品外观颜色及面状均匀性有很大的影响，会导致同一大轴纵向和宽幅方向颜色不一致。导致涂胶不均匀的原因主要与料槽中胶水固含量高低、固含量均匀性、涂胶间隙、带胶辊与植珠膜之间的速差有很大关系。中国专利文献（公告日：2015年11月25，公告号：CN204799492U）公开了一种用于反光膜生产线的涂胶装置，用于将胶液涂覆在输送中的基材表面，包括储胶槽、相互平行且由低到高依次布置的带胶辊、计量辊和上胶辊、驱动带胶辊、计量辊和上胶辊转动的驱动机构，带胶辊和上胶辊均可相对计量辊移动调节，带胶辊下段浸泡在储胶槽的胶液中，工作时上胶辊与基材贴合，本技术可精确控制上胶辊表面的胶液厚度，从而精确控制基材的上胶量，并保证涂布宽幅的稳定，成型的反光膜没有气泡、针孔和暗纹等缺陷，有效提高产品质量。上述技术方案通过设置计量辊移动调节机构来地带胶辊与上胶辊之间间隙的调整，从而实现上胶量的调整，这样的调整方式虽然能够实现上胶量的调整，但是该技术方案仅能够解决反光膜生产过程中产生气泡、针孔和暗纹等缺陷，而不能够解决同一大轴纵向和宽幅方向颜色不一致等问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决涂胶量的多少对于产品外观颜色及面状均匀性有的影响，从而导致同一大轴纵向和宽幅方向颜色不一致等问题，而提供一种能够有效解决涂胶不均匀的问题，非接触式涂胶方式的反光材料的涂胶设备及涂胶工艺。本专利技术实现其第一个技术目的所采用的技术方案是：一种反光材料的涂胶设备，包括：涂胶系统，用于对反光材料珠子表面涂覆均匀薄胶层的系统；所述的涂胶系统包括底辊、带胶辊和料槽，所述的底辊与带胶辊之间设置有涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；所述的带胶辊设置在料槽内部并与料槽内部的胶水接触；一供胶系统，用于为带胶辊定量提供胶水的系统；所述的供胶系统中设置有若干均匀分布在料槽上方的下胶口；以及一溢流系统，用于实现料槽内部胶水的溢流并保持料槽内部胶水固含量稳定的系统；所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口。该反光材料的涂胶设备，是通过在长期实践对于影响涂胶不均匀原因的排查设计，从而将导致涂胶不均匀的主要因素进行整合，通过定量供胶系统和溢流系统来控制单位时间内加入料槽的胶水量，定量供胶系统单位时间加入料槽的胶水量为100g/min～400g/min，使料槽中胶水有一定量的溢流，保障料槽中胶水固含量的稳定，并通过监控溢流口胶水的固含量调整单位时间内加胶量使料槽胶水稳定在所需固含量；通过下胶口多口均匀进胶和溢流口多口均匀溢流保障料槽中不同部位胶水固含量的均匀性；关键是通过在底辊与带胶辊之间设置涂胶间距，实现了反光材料的非接触式涂胶，并通过控制底辊速度与带胶辊之间有一定的速差，从而实现了均匀涂胶，解决了因涂胶不均匀从而导致反光材料外观颜色及面状均匀性差的问题，保证了同一在轴纵向和宽幅方向颜色一致，有效提高了亮银产品的水洗及亮度性能。作为优选，所述的涂胶间距小于等于1mm大于等于0.2mm；所述的涂胶间距大小的调整是通过一移动调整机构来实现的。涂胶间距优选小于等于1mm大于等于0.2mm，在满足非接触式涂胶要求的前提下，能够保证足够的上胶量，从而来调整反光材料的带胶量，这种非接触式涂胶方式能够有效避免在涂胶过程中反光材料上的珠子被刮掉，即便有个别珠子掉落也可通过带胶辊在经过料槽胶水是将粘在带胶辊上的珠子洗落到料槽，从而有效避免了上胶不均匀现象的发生。移动调整机构的设置能够很方便地根据需要调整涂胶间距。作为优选，所述的底辊与带胶辊之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%；当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%。通过设置底辊与带胶辊之间的速差来控制上胶量，带胶辊速度取决于底辊速度，底辊速度取决于生产线线速度，底辊速度同线速度，这样的设置使用得整上胶能够得到有效控制。作为优选，所述的定量供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并与下胶口连通。作为优选，所述的料槽、储料装置和带胶辊上设置有冷却装置，所述的冷却装置为夹套水冷却；所述的储料装置通过输胶管与下胶口连通。料槽和储料装置上设置冷却装置，通过夹套水冷却的降温方式，以降低料槽及植珠胶储料装置中胶水的温度，控制胶液温度，从而控制溶剂挥发速率。作为优选，溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通，所述的溢流口处设置有定量监测装置。料槽中的胶水有一部分通过溢流口和溢流管溢流后收集到溢流罐中，收集满之后经搅拌均匀测试固含量后补加溶剂，然后搅拌均匀后再回流到储料装置内部进行正常使用；而定量监测装置的设置是为了通过监控溢流口胶水的固含量从而调整单位时间内的加胶量以使料槽胶水稳定在所需固含量，从而保证上胶的均匀性。本专利技术实现其第二个专利技术目的所采用的技术方案是：一种反光材料的涂胶工艺，包括以下步骤：S1：所述的反光材料为前道工序中由基材和在基材上单层排布的反光珠形成的反光布或反光膜；S2：所述的反光材料通过一底辊旋转带动进行移动，并通过一设置在料槽同内部并与料槽内胶水接触的带胶辊旋转进行非接触式上胶，所述的底辊与带胶辊之间设置有小于等于1mm大于等于0.2mm的涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；S3：通过一定量上胶系统向带胶辊提供胶水并通过一溢流系统实现胶水固含量稳定，所述的胶液温度大于等于-15℃小于等于25℃，，所述的胶水固含量为0.5%～20%，胶水粘度为5～100mPa.s；S4：在≤30℃的区域环境下，带胶辊带动胶水并将胶水均匀涂覆到反光材料上，完成反光材料的涂胶。该反光材料的涂胶工艺，通过对导致涂胶不均匀的原因主要的分析，将影响涂胶不均匀的因素一一解决，在涂胶工艺中分别对料槽中胶水固含量、固含量均匀性、涂胶间隙、带胶辊与植珠膜之间的速差等进行了综合设计，制定了该上胶工艺：通过控制单位时间内加入料槽的胶水量（单位时间加入料槽的胶水量为100g/min～400g/min环境温度越高单位时间需要加入的量越大）使料槽中胶水有一定量的溢流，保障料槽中胶水固含量的稳定，使胶水固含量保护在0.5%～20%，胶水粘度为5～100mPa.s，并通过监控溢流系统中溢流口胶水的固含量调整单位时间内加胶量，使料槽胶水稳定在所需固含量。通过控制底辊与带胶辊之间的涂胶间距以及速差，实现反光材料的非接触性涂胶，避免珠子被刮掉而导致了涂胶不均匀；通过控制涂胶区域环境温度≤30℃减少带胶辊离本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反光材料的涂胶设备，其特征在于包括：涂胶系统（1），用于对反光材料珠子表面涂覆均匀薄胶层的系统；所述的涂胶系统（1）包括底辊（4）、带胶辊（5）和料槽（6），所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间设置有涂胶间距（H），所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间设置有速差；所述的带胶辊（5）设置在料槽（6）内部并与料槽（6）内部的胶水接触；一定量供胶系统（2），用于为带胶辊定量提供胶水的系统；所述的定量供胶系统（2）上设置有若干均匀分布在料槽（6）上方的下胶口（11）；以及一溢流系统（3），用于实现料槽内部胶水的溢流并保持料槽内部胶水固含量稳定的系统；所述的溢流系统（3）中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口（12）。

【技术特征摘要】
1.一种反光材料的涂胶设备，其特征在于包括：涂胶系统（1），用于对反光材料珠子表面涂覆均匀薄胶层的系统；所述的涂胶系统（1）包括底辊（4）、带胶辊（5）和料槽（6），所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间设置有涂胶间距（H），所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间设置有速差；所述的带胶辊（5）设置在料槽（6）内部并与料槽（6）内部的胶水接触；一定量供胶系统（2），用于为带胶辊定量提供胶水的系统；所述的定量供胶系统（2）上设置有若干均匀分布在料槽（6）上方的下胶口（11）；以及一溢流系统（3），用于实现料槽内部胶水的溢流并保持料槽内部胶水固含量稳定的系统；所述的溢流系统（3）中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口（12）。2.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的涂胶间距小于等于1mm大于等于0.2mm；所述的涂胶间距（H）大小的调整是通过一移动调整机构（20）来实现的。3.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%；当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%。4.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的定量供胶系统（2）包括相互连通的储料装置（8）、计量装置（9）和下胶装置（10），所述的下胶装置（10）设置在料槽（6）的上方并与下胶口（11）连通。5.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的料槽（6）、储料装置（8）和带胶辊（5）上分别设置有冷却装置（13），所述的冷却装置（13）为夹套水冷却；所述的储料装置（8）通过输胶管（14）与下胶口（11）连通。6.根据权利要求1至5任意一项所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：溢流系统（3）包括溢流罐（15）和溢流管（16），所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：章学文，查伟强，施威，谢炳乃，王世杰，
申请(专利权)人：杭州星华反光材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33