发声器件制造技术

一种发声器件，其包括具有收容空间的盆架、收容于该盆架内磁路系统和振动系统，振动系统包括固定在盆架一侧的振膜和驱动该振膜振动发声的音圈、以及连接在音圈远离振膜一端的下音膜；磁路系统包括与所述盆架远离所述振膜的一端盖接的下夹板、以及固定在所述下夹板上的磁钢，下音膜包括与盆架固定的边缘部以及自该边缘部延伸至音圈的主体部，该主体部朝远离振膜的方向突出，下夹板对应主体部凹陷形成有第一凹陷部，第一凹陷部朝远离下音膜的方向进一步凹陷形成有第二凹陷部，第二凹陷部与下音膜振幅最大的位置正对。本实用新型专利技术的发声器件在下夹板增设了避让音圈和下音膜的凹陷区域，改善了发声器件的纯音效果，提高了产品的稳定性。

Phonation device

A sound generator includes a basin rack with a storage space, a magnetic circuit system and a vibration system in the basin rack. The vibration system includes a vibration film fixed on one side of the basin rack, a voice coil driving the vibration of the vibration film, and a lower sound film connected at the end of the voice coil far from the vibration film. The magnetic circuit system includes a magnetic circuit system which is far from the basin rack. The lower splint connected by one end of the diaphragm and the magnetic steel fixed on the lower splint are described. The lower sound diaphragm includes the edge fixed by the basin frame and the edge extended to the main part of the voice coil. The main part protrudes away from the diaphragm. The lower splint corresponds to the main part, forming a first depression, and the first depression is oriented towards the main part. A second depression is formed in the direction far from the hypophonic membrane, and the second depression is in direct proportion to the position where the amplitude of the hypophonic membrane is the largest. The voice device of the utility model adds a depression area of the avoidance voice coil and the voice film on the lower splint, improves the pure tone effect of the voice device and improves the stability of the product.

【技术实现步骤摘要】
发声器件
本技术涉及电声换能领域，特别地涉及一种发声器件。
技术介绍
发声器件广泛应用于手机、笔记本电脑等便携性电子设备。随着这些便携性电子设备的快速发展、人们对其的功能性要求越来越强，应用于其上的发声器件也相应快速地发展。另外，随着移动电话轻薄化发展的需要，对其中所使用的微型发声器件的质量要求也越来越高。在相关技术的微型发声器件中，音圈在磁路系统的驱动下振动时，会在微型发声器件内部产生摇摆，在音圈带动下音膜振动的过程中，下音膜因振动而变形的部分特别容易接触到下夹板，这样会出现振动不平衡的现象，由此导致微型发声器件的纯音不良。针对发声器件的纯音不良的问题，有必要提供一种新结构的发声器件。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供了一种发声器件，其具有收容空间的盆架、收容于该盆架内磁路系统和振动系统，所述振动系统包括固定在所述盆架一侧的振膜和驱动所述振膜振动发声的音圈、以及连接在所述音圈远离所述振膜一端的下音膜，所述下音膜相对的两侧分别与所述音圈及所述盆架连接；所述磁路系统包括与所述盆架远离所述振膜的一端盖接的下夹板、以及固定在所述下夹板上的磁钢，所述下音膜包括与所述盆架固定的边缘部以及自所述边缘部延伸至所述音圈的主体部，所述主体部朝远离所述振膜的方向突出，所述下夹板对应所述主体部凹陷形成有第一凹陷部，所述第一凹陷部朝远离所述下音膜的方向进一步凹陷形成有第二凹陷部，所述第二凹陷部与所述下音膜振幅最大的位置正对。作为一种改进，所述主体部在所述下夹板上的正投影完全落入所述第一凹陷部。作为一种改进，所述下夹板包括与所述振膜正对的底板以及自所述底板边缘朝所述盆架延伸的侧壁，所述侧壁与所述盆架固定，所述边缘部固定在所述盆架与所述侧壁之间，所述第一凹陷部与所述第二凹陷部形成在所述底板。作为一种改进，所述振动系统还包括固定在所述下音膜与所述音圈之间的定心支片，所述定心支片一端夹设在所述盆架与所述边缘部之间，所述定心支片的另一端夹设在所述音圈与所述主体部之间。作为一种改进，所述磁钢包括固定在所述底板上的主磁钢以及与所述主磁钢间隔设置形成磁间隙的边磁钢；所述音圈远离所述振膜的一端插置于所述磁间隙内，所述音圈为跑道型，所述边磁钢设置在所述音圈的长轴侧，所述下音膜固定在所述音圈的短轴侧。本技术的有益效果是：本技术的发声器件在下夹板增设了避让音圈和下音膜的凹陷区域，改善了发声器件的纯音效果，提高了产品的稳定性。【附图说明】图1为本技术的发声器件的立体结构分解示意图。图2为本技术的发声器件的俯视示意图。图3为沿图2中A-A线剖切的剖视示意图。图4为本技术的下音膜的剖视示意图。图5为下夹板的剖视示意图。图6为A部放大图。【具体实施方式】下面通过具体实施方式结合附图1至图6对本技术作进一步详细说明，以便能够更好地理解本技术的方案以及其各方面的优点。在以下的实施例中，提供以下具体实施方式的目的是便于对本技术的内容更清楚透彻的理解，而不是对本技术的限制。其中，上、下、左、右等指示方位的字词仅是针对所示结构在对应附图中位置而言,以靠近发声器件的中心侧为内侧，以远离发声器件的中心侧为外侧。实施例1如图1至图3所示，本技术提供一种发声器件，该发声器件包括具有收容空间的盆架1、收容于该盆架1内磁路系统2和振动系统3，其中，振动系统3包括固定在盆架1一侧的振膜33和驱动该振膜33振动发声的音圈35、以及连接在音2圈35远离振膜33一端的下音膜39，该下音膜39相对的两侧分别与音圈35及盆架1连接。另外，磁路系统2包括与盆架1远离振膜33的一端盖接的下夹板21、以及固定在该下夹板21上的磁钢23；下音膜39包括与盆架1固定的边缘部391以及自该边缘部391延伸至音圈35的主体部392，该主体部392朝远离振膜33的方向突出，下夹板21对应主体部392凹陷形成有第一凹陷部211，该第一凹陷部211部分朝远离下音膜39的方向进一步凹陷形成有第二凹陷部212，第二凹陷部212与下音膜39振幅最大的位置正对。该主体部392在下夹板21上的正投影完全落入第一凹陷部211。如图1、图2、图3和图5所示，下夹板21包括振膜33正对底板210以及从底板210两侧端部向上凸出的两个侧壁213，该侧壁213与盆架1固定，并且下音膜39的边缘部391固定在盆架1与侧壁213之间。在本实施方式中，底板210大致呈矩形，以该矩形的长度方向的一侧为长边侧，以该矩形的宽度方向的一侧为短边侧。具体地，在底板210的两短边侧对称设有两个第一凹陷区域211，在第一凹陷区域211内包括与下音膜39的振幅最大位置相对应的第二凹陷区域212，其中，第一凹陷区域211为从下夹板21的上表面向下表面凹陷的台阶部，第一凹陷区域211位于下音膜39和音圈35的正下方且用于避让下音膜39和音圈35；对下夹板21的两短边侧区域，例如通过减薄的方式形成第一凹陷区域211；第二凹陷区域212为从第一凹陷区域211的表面向下夹板21的下表面凹陷的台阶部，也就是，底板210的厚度D1>底板210的在第一凹陷区域211的厚度D2>底板210的在第二凹陷区域212的厚度D3，具体参见图6。在本实施方式中，盆架1整体为中空的矩形框架结构，盆架1和下夹板21形成收容空间；磁路系统2还包括设置固持于盆架1且叠设于磁钢23的上夹板27，磁钢23包括固定在底板210上的主磁钢231以及与主磁钢231间隔设置形成磁间隙的边磁钢232，音圈35远离振膜33的一端插置于磁间隙内，音圈35为跑道型，边磁钢设置在音圈35的长轴侧，下音膜39固定在音圈35的短轴侧。进一步地，振动系统3还包括位于振膜33上方的加强板31，该振膜33还包括球顶、自球顶向外延伸的折环部，该球顶的上表面与加强板31固接，球顶的下表面与音圈35的上表面连接。另外，振动系统3还包括固定在下音膜39与音圈35之间的定心支片37，定心支片37一端夹设在盆架1与下音膜39的边缘部391之间，定心支片37的另一端夹设在音圈35与下音膜39的主体部392之间，定心支片37对称设置在音圈35两侧上。如图3和图4所示，下音膜39的主体部392会因振动而变形，在主体部392的振动部分中有一部分最容易接触到下夹板21，该部分为下音膜39振动振幅最大的部分，该部分的位置与第二凹陷区域212的位置相对应，由此对第一凹陷区域211通过减薄的方式形成第二凹陷区域212，能够避免上述部分与下夹板接触，以提高发声器件的声学性能。与现有技术相比，针对音圈和下音膜，本技术的发声器件在下夹板增设了避让音圈和下音膜的凹陷区域，改善了发声器件的纯音效果，提高了产品的声学性能，还提高了产品的稳定性。以上所述的仅是本技术的实施方式，在此应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术创造构思的前提下，还可以做出改进，但这些均属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种发声器件，其包括具有收容空间的盆架、收容于该盆架内磁路系统和振动系统，所述振动系统包括固定在所述盆架一侧的振膜和驱动所述振膜振动发声的音圈、以及连接在所述音圈远离所述振膜一端的下音膜，所述下音膜相对的两侧分别与所述音圈及所述盆架连接；所述磁路系统包括与所述盆架远离所述振膜的一端盖接的下夹板、以及固定在所述下夹板上的磁钢，其特征在于，所述下音膜包括与所述盆架固定的边缘部以及自所述边缘部延伸至所述音圈的主体部，所述主体部朝远离所述振膜的方向突出，所述下夹板对应所述主体部凹陷形成有第一凹陷部，所述第一凹陷部朝远离所述下音膜的方向进一步凹陷形成有第二凹陷部，所述第二凹陷部与所述下音膜振幅最大的位置正对。

【技术特征摘要】
1.一种发声器件，其包括具有收容空间的盆架、收容于该盆架内磁路系统和振动系统，所述振动系统包括固定在所述盆架一侧的振膜和驱动所述振膜振动发声的音圈、以及连接在所述音圈远离所述振膜一端的下音膜，所述下音膜相对的两侧分别与所述音圈及所述盆架连接；所述磁路系统包括与所述盆架远离所述振膜的一端盖接的下夹板、以及固定在所述下夹板上的磁钢，其特征在于，所述下音膜包括与所述盆架固定的边缘部以及自所述边缘部延伸至所述音圈的主体部，所述主体部朝远离所述振膜的方向突出，所述下夹板对应所述主体部凹陷形成有第一凹陷部，所述第一凹陷部朝远离所述下音膜的方向进一步凹陷形成有第二凹陷部，所述第二凹陷部与所述下音膜振幅最大的位置正对。2.根据权利要求1所述的发声器件，其特征在于，所述主体部在所述下夹板上的正投影完全落入所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡洪建，
申请(专利权)人：瑞声科技新加坡有限公司，
类型：新型
国别省市：新加坡,SG