一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统技术方案

本发明专利技术公开了一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统，包括氦气置换系统、文丘里真空泵系统以及色谱前处理系统；所述氦气置换系统包括氦气进口、开关阀a、开关阀b以及四通阀；所述文丘里真空系统包括文丘里真空泵、氮气进口以及废气出口，所述氮气进口与所述废气出口均与所述文丘里真空泵气路连接，所述文丘里真空泵通过开关阀d与所述三通阀b气路连接，本发明专利技术针对三氯化硼遇水分解问题，采用超纯氦气进行置换和吹扫进样管路，并对系统抽真空，通过吹扫‑真空置换几次后能够使进样系统的水分降至0.1ppm以下，针对三氯化硼不能进真空泵的问题，采用文丘里真空泵，氮气做吹扫气，能够避免三氯化硼分解堵塞问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统
本专利技术涉及气体分析
，具体为一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统。
技术介绍
三氯化硼主要用于IC制造工艺中技术要求很高、对电路成品率影响很大的化学气相淀积(CVD)成膜过程以及等离子干法刻蚀过程，会对IC产品的品质带来很关键的作用，且不可以用其他电子气体代替。随着国内集成电路的快速发展，三氯化硼的需求量越来越高，三氯化硼的杂质含量和纯度会直接影响IC、电子元器件的质量、性能、技术指标和成品率。以往，5N以上的高纯三氯化硼国内尚不能生产，该级别产品完全依靠从美国、英国、日本等国外几家大公司进口，近年来随着国内工艺发展，目前国内也可提纯出5N的高纯三氯化硼，三氯化硼常温下遇水即可分解为氧化硼和氯化氢气体，氯化氢气体不仅会腐蚀进样气路，形成的氧化硼粉末也经常堵塞气路，在真空取样系统可以缓解三氯化硼的分解，但三氯化硼气体不能进普通活塞式真空泵(此种真空泵充满油)，因此三氯化硼的取样分析一直是色谱分析的一大难点。
技术实现思路
针对
技术介绍
中存在的问题，本专利技术提供了一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统，包括氦气置换系统、文丘里真空泵系统以及色谱前处理系统；所述氦气置换系统包括氦气进口、开关阀a、开关阀b以及四通阀，所述氦气进口气路连接开关阀a，所述开关阀a气路连接有三通阀a，所三通阀a气路连接有三通阀b，所述三通阀b与所述开关阀b气路连接，所述开关阀b与所述四通阀气路连接，所述四通阀与所述色谱前处理系统气路连接，所述四通阀气路连接有氦气吹扫口与尾气出口，所述三通阀a气路连接有开关阀c，所述开关阀c气路连接有样品进口；所述文丘里真空系统包括文丘里真空泵、氮气进口以及废气出口，所述氮气进口与所述废气出口均与所述文丘里真空泵气路连接，所述文丘里真空泵通过开关阀d与所述三通阀b气路连接。作为本专利技术一种优选的技术方案，还包括真空压力表，所述真空压力表通过三通阀c连接于所述三通阀a与所述三通阀b之间。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术针对三氯化硼遇水分解问题，采用超纯氦气进行置换和吹扫进样管路，并对系统抽真空，通过吹扫-真空置换几次后能够使进样系统的水分降至0.1ppm以下，针对三氯化硼不能进真空泵的问题，采用文丘里真空泵，氮气做吹扫气，能够避免三氯化硼分解堵塞问题。附图说明图1为本专利技术吹扫状态下整体结构示意图；图2为本专利技术进样状态下整体结构示意图；图中：1-样品进口；2-开关阀c；3-三通阀a；4-氦气进口；5-开关阀a；6-真空压力表；7-三通阀c；8-三通阀b；9-开关阀d；10-氮气进口；11-文丘里真空泵；12-废气出口；13-开关阀b；14-四通阀；15-色谱前处理系统；16-尾气出口；17-氦气吹扫口。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术提供一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统，包括氦气置换系统、文丘里真空泵系统以及色谱前处理系统15；所述氦气置换系统包括氦气进口4、开关阀a5、开关阀b13以及四通阀14，所述氦气进口4气路连接开关阀a5，所述开关阀a5气路连接有三通阀a3，所三通阀a3气路连接有三通阀b8，所述三通阀b8与所述开关阀b13气路连接，所述开关阀b13与所述四通阀14气路连接，所述四通阀14与所述色谱前处理系统15气路连接，所述四通阀14气路连接有氦气吹扫口17与尾气出口16，所述三通阀a3气路连接有开关阀c2，所述开关阀c2气路连接有样品进口1；所述文丘里真空系统包括文丘里真空泵11、氮气进口10以及废气出口12，所述氮气进口10与所述废气出口12均与所述文丘里真空泵10气路连接，所述文丘里真空泵10通过开关阀d9与所述三通阀b8气路连接。如图1所示，本专利技术在进行氦气吹扫时，开关阀c2关闭，开关阀d9关闭，开关阀a5开启，开关阀b13开启，氦气吹扫样品管路，紧接着开关阀c2与开关阀a5关闭，开关阀b13与开关阀d9开启，真空抽取样品管路；如图2所示，在吹扫完成之后进入样品的进样状态，此时开关阀a5与开关阀d9关闭，开关阀c2与开关阀b13开启，四通阀为如图所示的状态，色谱前处理系统开始进样，色谱前处理系统主要的作用是保护样品免受空气中的水分影响，为后续的气体分析提供保障。在具体实施过程中，还包括真空压力表6，所述真空压力表6通过三通阀c7连接于所述三通阀a3与所述三通阀b8之间。本专利技术针对三氯化硼遇水分解问题，采用超纯氦气进行置换和吹扫进样管路，并对系统抽真空，通过吹扫-真空置换几次后能够使进样系统的水分降至0.1ppm以下，针对三氯化硼不能进真空泵的问题，采用文丘里真空泵，氮气做吹扫气，能够避免三氯化硼分解堵塞问题。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统，其特征在于：包括氦气置换系统、文丘里真空泵系统以及色谱前处理系统(15)；所述氦气置换系统包括氦气进口(4)、开关阀a(5)、开关阀b(13)以及四通阀(14)，所述氦气进口(4)气路连接开关阀a(5)，所述开关阀a(5)气路连接有三通阀a(3)，所三通阀a(3)气路连接有三通阀b(8)，所述三通阀b(8)与所述开关阀b(13)气路连接，所述开关阀b(13)与所述四通阀(14)气路连接，所述四通阀(14)与所述色谱前处理系统(15)气路连接，所述四通阀(14)气路连接有氦气吹扫口(17)与尾气出口(16)，所述三通阀a(3)气路连接有开关阀c(2)，所述开关阀c(2)气路连接有样品进口(1)；所述文丘里真空系统包括文丘里真空泵(11)、氮气进口(10)以及废气出口(12)，所述氮气进口(10)与所述废气出口(12)均与所述文丘里真空泵(10)气路连接，所述文丘里真空泵(10)通过开关阀d(9)与所述三通阀b(8)气路连接。

【技术特征摘要】
1.一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统，其特征在于：包括氦气置换系统、文丘里真空泵系统以及色谱前处理系统(15)；所述氦气置换系统包括氦气进口(4)、开关阀a(5)、开关阀b(13)以及四通阀(14)，所述氦气进口(4)气路连接开关阀a(5)，所述开关阀a(5)气路连接有三通阀a(3)，所三通阀a(3)气路连接有三通阀b(8)，所述三通阀b(8)与所述开关阀b(13)气路连接，所述开关阀b(13)与所述四通阀(14)气路连接，所述四通阀(14)与所述色谱前处理系统(15)气路连接，所述四通阀(14)气路连接有氦气吹扫口(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：王祥科，杨坤，王富德，李建浩，
申请(专利权)人：朗析仪器上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31