紫外线照射机及制作配向膜的设备制造技术

本发明专利技术提供一种紫外线照射机及制作配向膜的设备。该紫外线照射机包括：紫外线照射机本体、与所述紫外线照射机本体间隔设置的制冷装置、与所述制冷装置连接的第一气体输入管道、与所述紫外线照射机本体及制冷装置均连接的气体管道；通过制冷装置将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道通入到紫外线照射机本体中，降低紫外线照射机本体的温度及后续进入到紫外线照射机本体中的玻璃基板的温度，使得玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，降低了玻璃基板与紫外线照射机发生刮伤的风险，避免玻璃基板发生破片。

【技术实现步骤摘要】
紫外线照射机及制作配向膜的设备
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种紫外线照射机及制作配向膜的设备。
技术介绍
薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)是目前液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(ActiveMatrixOrganicLight-EmittingDiode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。在TFT-LCD行业中，配向膜涂布在TFT阵列基板和CF基板上，起着控制液晶分子排列方向的作用，配向膜涂布前经过清洗机和紫外线照射机(EUV)等净化玻璃(Glass)基板的制程，其中EUV用于去除有机物和表面改质的作用，利于配向膜在玻璃基板上成膜达到更佳的品质。业界对配向膜制程的设备规划有两种模式。第一种模式为玻璃基板依次通过清洗机、EUV、烘干机以及配向膜涂布机，由于第一种模式下EUV处理玻璃基板后再经过烘干机的长时间高温烘烤，会降低EUV已对玻璃基板表面改质的效果，一定程度上影响配向膜的成膜品质，一般不会采用该模式。第二种模式为玻璃基板依次通过清洗机、烘干机、EUV以及配向膜涂布机。目前有如下问题：1、烘干机对玻璃基板处理后温度接近150℃，而EUV开启时灯管表面温度约200℃，当玻璃基板经过EUV光照区时，玻璃基板会大幅度变形并可能导致刮伤，严重时甚至造成破片。2、为了避免玻璃基板的刮伤风险，一般把EUVGap(紫外线照射机的紫外线灯与Glass的间距)调整到6mm以上(规格原本为3mm左右)，间距升高后会造成EUV制程能力大大下降，继而降低了配向膜成膜的品质(如配向膜不沾、预倾角降低等问题)。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种紫外线照射机，能够使玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，避免玻璃基板发生刮伤及破片。本专利技术的目的还在于提供一种制作配向膜的设备，玻璃基板上形成的配向膜的成膜品质高，避免了配向膜不沾及预倾角降低等不良问题。为实现上述目的，本专利技术提供了一种紫外线照射机，包括：紫外线照射机本体、与所述紫外线照射机本体间隔设置的制冷装置、与所述制冷装置连接的第一气体输入管道、与所述紫外线照射机本体及制冷装置均连接的气体管道；所述制冷装置用于将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道通入到紫外线照射机本体中。所述紫外线照射机本体包括设于所述紫外线照射机本体一端的入口，所述紫外线照射机本体内设有光照区；所述光照区覆盖玻璃基板。所述气体管道包括设于所述入口处并与制冷装置连接的第一连接管道以及与所述光照区及制冷装置均连接的第二连接管道；所述制冷装置将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第一连接管道输出到入口，及经过第二连接管道输出到光照区。所述光照区内设有用于产生紫外线的紫外线灯，该紫外线灯与玻璃基板的间距为2-4mm。所述第一气体为压缩空气。所述紫外线照射机还包括与所述制冷装置连接的第二气体输入管道；所述气体管道还包括与所述光照区及制冷装置均连接的第三连接管道；所述制冷装置将第二气体输入管道输入的第二气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第三连接管道输出到光照区。所述第二气体为稀释气体。所述稀释气体为氮气所述制冷装置还用于控制第一连接管道、第二连接管道及第三连接管道的气体流量。本专利技术还提供一种制作配向膜的设备，包括依次连接的清洗机、烘干机、上述的紫外线照射机以及涂布机。本专利技术的有益效果：本专利技术的紫外线照射机包括：紫外线照射机本体、与所述紫外线照射机本体间隔设置的制冷装置、与所述制冷装置连接的第一气体输入管道、与所述紫外线照射机本体及制冷装置均连接的气体管道；通过制冷装置将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道通入到紫外线照射机本体中，降低紫外线照射机本体的温度及后续进入到紫外线照射机本体中的玻璃基板的温度，使得玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，降低了玻璃基板与紫外线照射机发生刮伤的风险，避免玻璃基板发生破片。本专利技术的制作配向膜的设备包括依次连接的清洗机、烘干机、上述的紫外线照射机以及涂布机，紫外线照射机的净化能力强，对玻璃基板的表面改质效果好，玻璃基板上形成的配向膜的成膜品质高，避免了配向膜不沾及预倾角降低等不良问题。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的紫外线照射机的示意图；图2为本专利技术的紫外线照射机的立体示意图；图3为本专利技术的制作配向膜的设备的示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1及图2，本专利技术提供一种紫外线照射机包括：紫外线照射机本体10、与所述紫外线照射机本体10间隔设置的制冷装置20、与所述制冷装置20连接的第一气体输入管道30、与所述紫外线照射机本体10及制冷装置20均连接的气体管道40；所述制冷装置20用于将第一气体输入管道30输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道40通入到紫外线照射机本体10中。需要说明的是，本专利技术通过设置与紫外线照射机本体10间隔设置的制冷装置20，通入所述第一气体输入管道30中的第一气体，并将第一气体输入管道30中的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道40通入到紫外线照射机本体10中，降低紫外线照射机本体10的温度及进入到紫外线照射机本体10中的玻璃基板的温度，使得玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，降低了玻璃基板与紫外线照射机发生刮伤的风险，避免玻璃基板发生破片。具体地，所述第一气体为压缩空气。具体地，所述紫外线照射机本体10包括设于所述紫外线照射机本体10一端的入口11，所述紫外线照射机本体10内设有光照区12，所述光照区12覆盖玻璃基板60，玻璃基板60从入口11处向光照区12移动，所述光照区12中的紫外线照射在玻璃基板60上，将通入到光照区12的第一气体输入管道30中的第一气体中的氧气形成臭氧，进而通过臭氧去除玻璃基板上的有机物，达到表面改质的作用。具体地，所述光照区12内设有用于产生紫外线的紫外线灯121。具体地，所述气体管道40包括设于所述入口11处并与制冷装置20连接的第一连接管道41以及与所述光照区12及制冷装置20均连接的第二连接管道42，所述制冷装置20将第一气体输入管道30输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第一连接管道41输出到入口1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种紫外线照射机，其特征在于，包括：紫外线照射机本体(10)、与所述紫外线照射机本体(10)间隔设置的制冷装置(20)、与所述制冷装置(20)连接的第一气体输入管道(30)、与所述紫外线照射机本体(10)及制冷装置(20)均连接的气体管道(40)；所述制冷装置(20)用于将第一气体输入管道(30)输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道(40)通入到紫外线照射机本体(10)中。

【技术特征摘要】
1.一种紫外线照射机，其特征在于，包括：紫外线照射机本体(10)、与所述紫外线照射机本体(10)间隔设置的制冷装置(20)、与所述制冷装置(20)连接的第一气体输入管道(30)、与所述紫外线照射机本体(10)及制冷装置(20)均连接的气体管道(40)；所述制冷装置(20)用于将第一气体输入管道(30)输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道(40)通入到紫外线照射机本体(10)中。2.如权利要求1所述的紫外线照射机，其特征在于，所述紫外线照射机本体包括设于所述紫外线照射机本体(10)一端的入口(11)，所述紫外线照射机本体(10)内设有光照区(12)；所述光照区(12)覆盖玻璃基板(60)。3.如权利要求2所述的紫外线照射机，其特征在于，所述气体管道(40)包括设于所述入口(11)处并与制冷装置(20)连接的第一连接管道(41)以及与所述光照区(12)及制冷装置(20)均连接的第二连接管道(42)；所述制冷装置(20)将第一气体输入管道(30)输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第一连接管道(41)输出到入口(11)，及经过第二连接管道(42)输出到光照区(12)。...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘崇业，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44