【技术实现步骤摘要】
一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法
本专利技术涉及一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法,属于光栅制作
技术介绍
光栅作为一种优良的色散元件,在光通信领域、光谱分析领域得到了广泛的运用。近年来,特别是光刻法全息光栅工艺的出现和完善,大大提高了光栅的制作效率和光栅质量,使光栅得以在更广泛的领域里发挥作用。近年来光刻法制作全息光栅工艺得到大力的发展,光刻工艺和光栅复制工艺都在不断的完善,但目前依然存在一定的局限性。采用光刻法制作全息光栅的大致工艺流程为:涂胶—曝光—显影—刻蚀。但是这种方法制作步骤繁琐、效率低、光栅一致性差。公开号为US7455957B2的专利《Blazedholographicgrating,methodforproducingthesameandreplicagrating》公开了一种复制光栅的方法,其复制过程是:先在母光栅表面喷涂上一层脱模剂,然后再在脱模层上镀一层金属膜;之后采用一种热塑性粘结剂将复制光栅基片和反射膜层粘结在一起;最后在脱模剂层上,将母光栅和复制光栅分开,得到所复制的光栅。公开号为CN107884856A的专利《一种复制光栅分离装置》公开了一种复制光栅的制作方法,其同样需要在母版光栅上均匀涂覆润滑油。不管是脱模剂还是润滑油,均易在母版上产生印迹,对母版的后续使用及复制光栅的外观影响较大。想要得到大批量的复制光栅,则需要准备大量的母版光栅进行多次的复制。采用光刻法大批量制作母版光栅,其难度高,效率低,显然不适用于大规模的生产。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本专利技术提供一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方 ...
【技术保护点】
1.一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:提供一清洁后的母版光栅(a)和基底(d);S2:在清洁后的母版光栅(a)上先镀一反射膜(b),再涂覆一层胶水,形成胶水层(c);S3:将清洁后的基底(d)置于经过S2处理的母版光栅(a)上,并将母版光栅(a)与基底(d)的边缘对齐,先胶合,然后将胶水进行固化;S4:将母版光栅(a)和基底(d)进行分离,使得在基底上形成复制光栅(e);S5:在完成步骤S4的复制光栅(e)表面镀一铬层(f),增强反射膜(b)与基底(d)的结合力,然后再在铬层(f)上镀一SiO2层(g),即形成二代母版光栅(a2);S6:对完成步骤S5得到的二代母版光栅(a2)和新的基底(d),再次经过S1‑S5步骤,即形成三代母版光栅;S7:对完成步骤S6得到的三代母版光栅和新的基底(d),再次经过S1‑S5步骤,即形成四代母版光栅;以此重复,即形成n代母版光栅。
【技术特征摘要】
1.一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:提供一清洁后的母版光栅(a)和基底(d);S2:在清洁后的母版光栅(a)上先镀一反射膜(b),再涂覆一层胶水,形成胶水层(c);S3:将清洁后的基底(d)置于经过S2处理的母版光栅(a)上,并将母版光栅(a)与基底(d)的边缘对齐,先胶合,然后将胶水进行固化;S4:将母版光栅(a)和基底(d)进行分离,使得在基底上形成复制光栅(e);S5:在完成步骤S4的复制光栅(e)表面镀一铬层(f),增强反射膜(b)与基底(d)的结合力,然后再在铬层(f)上镀一SiO2层(g),即形成二代母版光栅(a2);S6:对完成步骤S5得到的二代母版光栅(a2)和新的基底(d),再次经过S1-S5步骤,即形成三代母版光栅;S7:对完成步骤S6得到的三代母版光栅和新的基底(d),再次经过S1-S5步骤,即形成四代母版光栅;以此重复,即形成n代母版光栅。2.根据权利要求1所述的一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法,其特征在于:所述步骤S2中的涂胶和步骤S3中的胶合固化通过胶合固化装置完成操作,所述胶合固化装置包括用于对母版光栅(a)进行点胶的点胶工作台(10)、用于将基底(d)正对覆盖在母版光栅(a)上的上料机械手(7)、用以传输母版光栅(a)的传输装置(9)以及用以固化的紫外固化箱(8),所述点胶工作台(10)设于所述传输装置(9)的上方且位于传输装置(9)的前段,所述紫外固化箱(8)设于所述传输装置(9)的上方且位于所述传输装置(9)的后段,所述上料机械手(7)设于所述传输装置(9)的侧面。3.根据权利要求1所述的一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法,其特征在于:基底(d)的尺寸大小和母版光栅(a)的尺寸大小相同,在制作过程中,无需经过切割工艺;所述母版光栅(a)和基底(d)为玻璃材质。4.根据权利要求1所述的一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法,其特征在于:所述反射膜(b)为铝膜或金膜;所述反射膜(b)的厚度为100-300nm。5.根据权利要求1所述的一种基于胶水固化的多代母版光栅制作方法,其特征在于:所述步骤S1中的清洁包括:所述母版光栅(a)进行胶清洁和等离子清洗,所述基底(d)进行超声波清洗和所述等离子清洗;所述清洁胶采用光学玻璃器件清洁专用胶作为清洁剂,清洁方式采用毛刷刷涂或喷涂;所述等离子清洗选择氧气和氩气为工作气体,气体流量为5-30sccm,等离子设备的功率为100-300W,等离子清洗时间为10-30分钟;所述超声波清洗步骤如下:(1)将体积比为1:3的NH4OH和H2O组成的混合液作为清洗液,对基底(d)进行超声波清洗;(2)将体积比为1:5的HCl和H2O组成的混合液作为清洗液,对完成所述步骤(1)后的基底(d)进行超声波清洗;(3)将酒精作为清洗液,对完成所述步骤(2)后的基底(d)进行超声...
【专利技术属性】
技术研发人员:梁万国,李广伟,张新汉,陈怀熹,冯新凯,古克义,邹小林,
申请(专利权)人:福建中科晶创光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:福建,35
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