一种等离子处理装置，处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种等离子处理装置，等离子处理方法，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔、抽气腔、气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置，气体隔离腔通过隔离气体进气口通入隔离气体；隔离气体喷出口，所述隔离气体喷出口的个数为多个，并均匀设置；隔离气体整流杯，用于控制隔离气体的喷出方向，所述处理气体喷出口设置在所述隔离气体整流杯内部；所述等离子处理方法能够在大气环境中进行等离子体处理，能够解决怕空气中氧气、水汽等对处理气体发生反应或对于有害的处理气体，需要对处理气体进行隔离，能够控制隔离气体的流向、喷出等离子体处理气体的流向，进一步提高对处理气体的隔离。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子处理装置，处理方法
本专利技术涉及一种等离子处理装置，处理方法，用于对基板进行清洁、表面粗糙化以及蚀刻。
技术介绍
现有技术中的等离子处理装置需要设置在抽真空的腔室中，对于在大气中的处理目标无法进行处理；同时，对于怕空气中氧气、水汽等对处理气体发生反应或对于有害的处理气体需要对处理气体进行隔离；对于控制隔离气体的流向、喷出等离子体处理气体的流向的控制，防止外部气体的进入与处理气体的泄露变得重要。
技术实现思路
基于解决上述问题，本专利技术提供了一种等离子处理装置，用于在大气环境中产生等离子体，对处理对象进行清洁，其特征在于，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔，所述等离子体发生腔由石英材料形成，所述等离子体发生腔包括发生腔主体，处理气体进气口，以及处理气体喷出口；等离子体发生线圈，所述等离子体发生线圈以螺旋状设置在等离子体发生腔主体的外壁，并与所述离子体发生腔主体的外壁直接接触，所述等离子体发生线圈的两端分别与射频电源的两个电极连接；抽气腔，所述抽气腔与等离子体发生腔同心筒状设置，所述抽气腔还包括抽气口；气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子处理装置，用于在大气环境中产生等离子体，对处理对象进行清洁，其特征在于，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔，所述等离子体发生腔由石英材料形成，所述等离子体发生腔包括发生腔主体，处理气体进气口，以及处理气体喷出口；等离子体发生线圈，所述等离子体发生线圈以螺旋状设置在等离子体发生腔主体的外壁，并与所述离子体发生腔主体的外壁直接接触，所述等离子体发生线圈的两端分别与射频电源的两个电极连接；抽气腔，所述抽气腔与等离子体发生腔同心筒状设置，所述抽气腔还包括抽气口；气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置，气体隔离腔通过隔离气体进气口通入隔离气体；隔离气体...

【技术特征摘要】
1.一种等离子处理装置，用于在大气环境中产生等离子体，对处理对象进行清洁，其特征在于，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔，所述等离子体发生腔由石英材料形成，所述等离子体发生腔包括发生腔主体，处理气体进气口，以及处理气体喷出口；等离子体发生线圈，所述等离子体发生线圈以螺旋状设置在等离子体发生腔主体的外壁，并与所述离子体发生腔主体的外壁直接接触，所述等离子体发生线圈的两端分别与射频电源的两个电极连接；抽气腔，所述抽气腔与等离子体发生腔同心筒状设置，所述抽气腔还包括抽气口；气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置，气体隔离腔通过隔离气体进气口通入隔离气体；隔离气体喷出口，所述隔离气体喷出口的个数为多个，并均匀设置；隔离气体整流杯，用于控制隔离气体的喷出方向，所述处理气体喷出口设置在所述隔离气体整流杯内部。2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，所述等离子体发生线圈被保护层覆盖，所述保护层与等离子体发生腔主体贴合。3.根据权利要求2所述的等离子处理装置，所述保护层为聚四氟乙烯。4.根据权利要求1所述的等离子处理装置，所述气体隔离腔喷出的气体为氮气或二氧化碳。5.根据权利要求1所述的等离子处理装置，所述处理气体喷出口的直径逐渐减小...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：南通沃特光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32