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本发明提供了一种等离子处理装置，等离子处理方法，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔、抽气腔、气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置，气体隔离腔通过隔离气体进气口通入隔离气体；隔离气体喷出口，所述隔离气体...
该专利属于南通沃特光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南通沃特光电科技有限公司授权不得商用。

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