一种液体二氧化硅消影材料基液的制备方法技术

一种液体二氧化硅消影材料基液的制备方法包括以下步骤：步骤1：将7.5‑15质量份的硅酸酯和45‑55质量份的醇加入反应器充分混合；步骤2：将10‑20质量份的稳定剂、20‑70质量份的分散剂和0‑30质量份的醇加入反应器充分混合；步骤3：将0.5‑5质量份的纯水、0.1‑1.5质量份的催化剂和1‑15质量份的醇加入搅拌容器充分混合；步骤4：开启所述反应器的恒温控制，控制温度在设定值30‑80℃；步骤5：将所述搅拌容器内的液体缓慢加入至所述反应器，控制设定值温度和搅拌器转速；步骤6：将均匀混合并充分反应的产物经冷却、过滤、粘度调整、陈化。本发明专利技术通过减少正硅酸酯的添加量，利用两种以上的稳定剂控制体系的水解反应程度，以保证微纳级别的颗粒尺寸，使交联更加均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种液体二氧化硅消影材料基液的制备方法
本专利技术涉及一种液体二氧化硅消影材料基液的制备方法，属于纳米材料

技术介绍
新型消影材料是一种典型的液体纳米材料，是制备高质量消影膜的核心和关键。二氧化硅消影材料因具有独特的绝缘性、致密性、高硬度和与玻璃近似的折射率等性能，近些年被广泛用作触摸屏玻璃基板ITO镀层刻蚀与非刻蚀区域的消影和保护。但是当下国际市场上用于半导体、触摸屏领域的消影材料基本被日本企业如日产化学和触媒化成所垄断，而且其产品存在固化工艺复杂、温度要求苛刻、设备投入大等缺点。目前制备液体二氧化硅消影材料多以正硅酸酯作为单一前驱体，通过催化水解法在适宜的溶剂体系中得到纳米尺寸的硅溶胶，然而由于正硅酸酯的水解程度不易控制，所形成的网络骨架脆性较大，造成固化后的消影膜的机械性能不佳，从而限制了其实际应用。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于：针对现有技术的不足，提供了一种液体二氧化硅消影材料基液的制备方法，可以在正硅酸酯添加量较低的情况下得到成膜性能良好的消影液，同时通过降低体系活性控制水解反应的程度，以保证微纳级别的颗粒尺寸，使交联更加均匀，提高产品的机械性能和光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液体二氧化硅消影材料基液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：将7.5‑15质量份的硅酸酯和45‑55质量份的醇加入反应器，开动搅拌器并充分混合；步骤2：将10‑20质量份的稳定剂、20‑70质量份的分散剂和0‑30质量份的醇加入反应器，开动搅拌器并充分混合；步骤3：将0.5‑5质量份的纯水、0.1‑1.5质量份的催化剂和1‑15质量份的醇加入搅拌容器，开动搅拌器并充分混合；步骤4：开启所述反应器的恒温控制，控制温度在设定值30‑80℃；步骤5：将所述搅拌容器内的液体缓慢加入至所述反应器，控制设定值温度和搅拌器转速；步骤6：将均匀混合并充分反应的产物经冷却、过滤、粘度调整、陈化...

【技术特征摘要】
1.一种液体二氧化硅消影材料基液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：将7.5-15质量份的硅酸酯和45-55质量份的醇加入反应器，开动搅拌器并充分混合；步骤2：将10-20质量份的稳定剂、20-70质量份的分散剂和0-30质量份的醇加入反应器，开动搅拌器并充分混合；步骤3：将0.5-5质量份的纯水、0.1-1.5质量份的催化剂和1-15质量份的醇加入搅拌容器，开动搅拌器并充分混合；步骤4：开启所述反应器的恒温控制，控制温度在设定值30-80℃；步骤5：将所述搅拌容器内的液体缓慢加入至所述反应器，控制设定值温度和搅拌器转速；步骤6：将均匀混合并充分反应的产物经冷却、过滤、粘度调整、陈化，即制得所述液体二氧化硅消影材料基液；步骤1所述的硅酸酯为正硅酸甲酯、正硅酸乙酯或者硅酸四丙酯；步骤1、步骤2和步骤3中所述的醇为下列物质中的一种或多种混合物：乙二醇、丙二醇、戊二醇、己二醇、丙三醇、季戊四醇、环己醇；步骤2所述的稳定剂由三元烷氧基硅烷稳定剂和二元烷氧基硅烷稳定剂组成；上述三元烷氧基硅烷稳定剂是下列三元烷氧基硅烷单体中的一种或多种的混合物：甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷；上述二元烷氧基硅烷稳定剂是下列二元烷氧基硅烷单体中的一种或多种的混合物：二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、α,ω-二羟...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹昕，
申请(专利权)人：深圳飞世尔新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44