The invention provides a manufacturing method of polyaryl ester resin and a manufacturing method of a photoreceptor, especially an electronic photographic photoreceptor. The manufacturing process of polyaryl ester resin includes synthetic process and cleaning process. In the synthesis process, bisphenol derivatives and aromatic dicarboxylic acid derivatives were interfacially polymerized by polymerization catalyst. In the cleaning process, the organic phase is cleaned several times by washing water, and the polyaryl ester resin is obtained. The polymerization catalyst is quaternary ammonium salt expressed in general formula (1). The absorbance of polyaryl ester resin is less than 0.100. The absorbance is measured by filling the polyaryl ester resin 9.1% tetrahydrofuran solution into a 1.00 cm optical path element with a wavelength of 390 nm. In general formula (1), X
【技术实现步骤摘要】
聚芳酯树脂的制造方法及感光体的制造方法
本专利技术涉及聚芳酯树脂的制造方法及感光体(尤其是电子照相感光体)的制造方法。
技术介绍
电子照相感光体作为像承载体用于电子照相方式的图像形成装置(例如,打印装置或多功能一体机)中。电子照相感光体具备感光层。电子照相感光体例如用单层型电子照相感光体或层叠型电子照相感光体。单层型电子照相感光体具备:具有电荷产生功能和电荷传输功能的感光层。层叠型电子照相感光体的感光层具备:具有电荷产生功能的电荷产生层及具有电荷输送功能电荷输送层。特定的聚碳酸酯树脂的制造方法例如有将光气用作碳酸酯形成性化合物的溶液聚合法。
技术实现思路
然而,上述聚碳酸酯树脂的制造方法却不能充分降低聚合催化剂的残留量,并且不能够提高分子量。本专利技术鉴于上述技术问题,目的在于提供一种聚芳酯树脂的制造方法,不仅能够降低作为聚合催化剂的季铵盐的残留量,而且能够提高聚芳酯树脂的分子量。并且,另一目的在于提供一种感光度特性及耐磨损性都优异的电子照相感光体的制造方法。聚芳酯树脂的制造方法包含合成工序及清洗工序。所述合成工序中,用聚合催化剂使双酚衍生物与芳香族二羧酸衍生物进行界 ...
【技术保护点】
1.一种聚芳酯树脂的制造方法,包含:合成工序,用聚合催化剂使双酚衍生物与芳香族二羧酸衍生物进行界面聚合;及清洗工序,用清洗水对有机相清洗若干次,得到聚芳酯树脂,所述聚合催化剂是通式(1)表示的季铵盐,所述聚芳酯树脂的吸光度为0.100以下,所述吸光度是通过将所述聚芳酯树脂9.1质量%的四氢呋喃溶液充填至光路长1.00cm的元件中,用波长390nm的光来进行测量的,【化1】
【技术特征摘要】
2017.03.31 JP 2017-0701431.一种聚芳酯树脂的制造方法,包含:合成工序,用聚合催化剂使双酚衍生物与芳香族二羧酸衍生物进行界面聚合;及清洗工序,用清洗水对有机相清洗若干次,得到聚芳酯树脂,所述聚合催化剂是通式(1)表示的季铵盐,所述聚芳酯树脂的吸光度为0.100以下,所述吸光度是通过将所述聚芳酯树脂9.1质量%的四氢呋喃溶液充填至光路长1.00cm的元件中,用波长390nm的光来进行测量的,【化1】所述通式(1)中,X-表示卤化物离子、氢氧化物离子或硫酸氢离子,Y表示丙基、丁基或苄基。2.根据权利要求1所述的聚芳酯树脂的制造方法,其特征在于,所述清洗水的导电度为1.00μS·cm以下,进行5次以下的所述清洗,至少有1次清洗后的废水的导电度为10.0μS·cm以下。3.根据权利要求1或2所述的聚芳酯树脂的制造方法,其特征在于,所述有机相包含三氯甲烷。4.根据权利要求1或2所述的聚芳酯树脂的制造方法,其特征在于,所述季铵盐由化学式(CA-1)、化学式(CA-2)、化学式(CA-3)或化学式(CA-4)表示,【化2...
【专利技术属性】
技术研发人员:东润,小岛健辅,
申请(专利权)人:京瓷办公信息系统株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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