一种新型的ALD设备前驱体源载气加热方法技术

本发明专利技术一种新型的ALD设备前驱体源载气加热方法，包括:带伴热的质量流量计、气管路、出气管路以及气源瓶，所述进气管路与所述出气管路均与气源瓶连接，所述出气管远离气源瓶的一端连接反应腔，其中，使所述气源瓶中注入反应前驱气体，所述进气管路连接气源瓶的一端，使进气管路的出气口位于所述反应低饱和蒸汽压前驱体源之上，所述出气管路连接气源瓶的一端，位于所述反应前驱体的上部，所述出气管路外设有加热带。通过使用本发明专利技术一种新型的ALD设备低饱和蒸汽压前驱体源加热方式，有效地通过准确控制气源温度，以及提高加热带温度设定，有效的加速前驱体源扩散，有效地减少气体残余，从而达到提高反应速率，提高了设备的利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种新型的ALD设备前驱体源载气加热方法
本专利技术属于ALD(原子层沉积)设备应用领域，具体涉及一种新型的ALD设备前驱体源载气加热方法
技术介绍
原子层沉积(Atomlayerdeposition，简称ALD)工艺由于其优异的台阶覆盖率，精确的厚度控制，较低的反应温度，良好的薄膜性能等，而被认为是一种较大潜力的薄膜制备工艺。但现有ALD设备结构中载气加热形式为加热带缠绕在管路上对管路加热，从而对流经管路中的气体加热。这就存在几个问题：①管道较细，加热带缠绕工序复杂不方便②加热带直接与金属接触，存在安全隐患③加热带多层覆盖缠绕，局部温度高，易烧毁④由于载气持续流动，经过管路后的温度呈现不规律形式不能保证持续一致，这就导致前躯体活性降低，影响反应效率。前驱体源这种加热方法需要其反复的进行反应气体的开关(如要生成10纳米的薄膜，大约需要反复开关100次)和使用前驱体气源，容易形成管路的气体残余和聚积(特别是在管路上低温的点上)。而且传统的方法只对前驱体加热，由于反应重复速度快，气源的温度没有办法保证，从而造成降低前驱体活性，并且易造成管道的堆积，会周期性的产生颗粒问题。管路中高温载气分本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型的ALD设备前驱体源载气加热方法，包括质量流量计(1)、进气管路(2)、前驱体体源瓶(3)、反应前躯体(4)、出气管路(5)、反应腔(6)，其特征在于：所述的前驱体源载气加热方法还包括快速响应阀(7)、热交换器(8)及热交换器(9)。

【技术特征摘要】
1.一种新型的ALD设备前驱体源载气加热方法，包括质量流量计(1)、进气管路(2)、前驱体体源瓶(3)、反应前躯体(4)、出气管路(5)、反应腔(6)，其特征在于：所述的前驱体源载气加热方法还包括快速响应阀(7)、热交换器(8)及热交换器(9)。2.如权利要求1所述的前驱体源载气加热方法，其特征在于：所述的快速响应阀(7)一个设置于进气管路(2)上，另一个设置于出口管路(5)。3.如权利要求1所述的前驱体源载气加热方法，其特征在于：所述的热交换器(8)设置在质量流量计(1)与快速响应阀(7)之间，并与口气管路(2)连接；所述的热交换器(9)设置在进气管路(2)与出气管路(5)接口处的上端。4.如权利要求1所述的前驱体源载气加热方法，其特征在于：所述的加热组件(8)与加热组件(9)为LINTECHX-0100C。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：张洪国，郑委，雷曼，夏树胜，马军涛，
申请(专利权)人：滁州国凯电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34