用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法技术

本发明专利技术公开了一种用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法，包括以下步骤：氯甲基甲基二氯硅烷与二氯甲基乙烯基硅烷水解反应得到线性聚硅氧烷，然后采用二甲基乙烯基氯硅烷对线性聚硅氧烷进行封端反应，封端后的聚硅氧烷与丙烯酸‑2‑羟乙酯、三乙胺反应得到光敏陶瓷前驱体。本发明专利技术制备出可紫外光固化的聚硅氧烷陶瓷前驱体，所得光敏陶瓷前驱体在适合引发剂的加入下，紫外光照射30s时可达到80％的双键转化率，40s时可达到90％双键转化率，具有很高效的光固化性能；将本发明专利技术的光敏陶瓷前驱体作为原料，采用立体光刻技术进行增材制造，可得到形貌规整的固化产品，该固化产品外观光洁，强度较高。

Preparation method of precursor for photosensitive ceramics used in ceramic manufacturing

The invention discloses a method for preparing a photosensitive ceramic precursor used for manufacturing ceramic products by augmenting material manufacturing technology, which comprises the following steps: the hydrolysis reaction of chloromethyl dichlorosilane with dichloromethyl vinyl silane to obtain linear polysiloxane, and then the end-capping reaction of linear polysiloxane with dimethyl vinyl chlorosilane is carried out. The photosensitive ceramic precursor was prepared by the reaction of the capped polysiloxane with 2_hydroxyethyl acrylate and triethylamine. The UV-curable polysiloxane ceramic precursor is prepared by the invention, and the obtained photosensitive ceramic precursor can achieve 80% double bond conversion rate when irradiated by ultraviolet light for 30 s and 90% double bond conversion rate when irradiated by ultraviolet light for 40 s with the addition of suitable initiator. The photosensitive ceramic precursor of the invention is made into a highly effective photo-curable one. Using stereolithography as raw material, the cured product with regular appearance can be obtained. The cured product has a bright appearance and high strength.

【技术实现步骤摘要】
用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法
本专利技术属于陶瓷材料增材制造
，具体涉及一种用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法。
技术介绍
与金属和聚合物相比，陶瓷难以加工，特别是加工成复杂形状。陶瓷具有很高的熔点及硬度，但韧性较差，这使得陶瓷很难通过铸造或者切削的方式进行加工。传统陶瓷加工通常是通过陶瓷粉末烧结或将陶瓷沉积在薄膜中固化，这种加工过程中缺陷的产生是不可避免的，如孔隙和不均匀性，而陶瓷的致密性和均一性是决定陶瓷性能的关键因素，因此，此类加工方式很难获得性能良好的陶瓷产品。陶瓷难以被加工限制了对陶瓷优良性能的利用，如耐高温、环境稳定性以及高强度等。近年来，随着增材制造技术在陶瓷加工领域的不断突破，多种成型方法已被成功用于制造陶瓷产品。增材制造技术的出现颠覆了传统陶瓷材料结构制造模式，在复杂结构功能一体化制造降低成本和缩短研制周期等方面极具潜力，在全世界范围内引起额广泛的关注和重视，目前已开发出多种适合陶瓷零件的打印成型工艺如熔融沉积陶瓷成型(FDM)、激光选区烧结成型(SLS/SLM)、紫外光固化光敏树脂基陶瓷浆料的立体光刻成型(SLA)、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法，其特征在于，合成路线如下：

【技术特征摘要】
1.一种用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法，其特征在于，合成路线如下：式中，n为正整数；具体合成方法如下：步骤1，如式(Ⅰ)所示，在氩气保护下，依次将氯甲基甲基二氯硅烷与二氯甲基乙烯基硅烷加入到干燥的Schllenk瓶中，搅拌均匀，然后往其中滴加去离子水，滴加速度为1滴/10s，滴加完毕后于室温下反应至无气泡产生，得到反应液一；将反应液一置于45℃下反应12h，反应完毕得到线性聚硅氧烷；将线性聚硅氧烷干燥后往其中加入二甲基乙烯基氯硅烷进行封端反应，封端反应6h后得到封端聚硅氧烷；其中，氯甲基甲基二氯硅烷、二氯甲基乙烯基硅烷、去离子水：二甲基乙烯基氯硅烷的体积比为38.98：40.40：10：3；步骤2，将步骤1得到的封端聚硅氧烷置于冰浴中，并往封端聚硅氧烷中加入与封端聚硅氧烷等体积的THF作为溶剂，然后往其中加入丙烯酸-2-羟乙酯，搅拌均匀，再往其中滴加三乙胺，滴加速度为1滴/5s，滴加完毕后于冰浴中反应4h，反应完毕后得到反应液二，将反应液二过滤，收集滤液，再将滤液浓缩，得到透明的粘稠状液体，即为所述光敏陶瓷前驱体；其中，氯甲基甲基二氯硅烷、丙烯酸-2-羟乙酯、三乙胺的体积比为38.98：34.08：50.54。2.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔杰，周睿，郭晨悦，骆春佳，苗鹏，唐玉生，
申请(专利权)人：西北工业大学，
类型：发明
国别省市：陕西,61