一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种PVD涂层生产制造过程中的等离子刻蚀清洗工艺，该工艺主要采用惰性和非惰性气体不同组合混合作为反应气体，产生的等离子体可同时达到物理离子清洗和化学离子清洗的作用，既可以去除工件表面吸附的氧化物、油脂、微颗粒物等残留，还可以去除工件表面的金属性氧化物，活化工件表面能，生产效率较高，最终可提高PVD涂层与工件基体的结合力，同时使得涂层更加均匀，改善PVD涂层的各项性能，增加工件使用寿命，适宜进一步推广应用。

【技术实现步骤摘要】
一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺
本专利技术涉及PVD涂层生产工艺领域，特别是一种涉及到PVD涂层生产制造过程中的等离子刻蚀清洗工艺。
技术介绍
PVD涂层技术出现于20世纪70年代末，由于其工艺的处理温度较低，可以控制在500℃以下，不会影响一些工件材料的基体硬度，因此可以作为高速钢和硬质合金材料刀具、模具的最终处理工艺。在不影响工件原有尺寸的情况下，PVD涂层可以用来改善工件的表面外观，提高工件的表面硬度及增加耐磨性，而且PVD涂层具有很好的导热、防腐蚀和抗氧化性能。所以该技术自上世纪八十年代以来得到了迅速推广，至80年代末，工业发达国家的高速钢刀具PVD涂层已达到60％以上，而我国还处于20-30％阶段，进入21世纪，我国的PVD涂层发展迅速，到目前为止，我国处于平稳发展的阶段，主要制约PVD涂层发展水平的因素就是不适应涂层市场的变化、涂层设备差、对基础应用研究的不深入以及涂层质量的不稳定，其中PVD涂层质量的不稳定归根结底就是涂层与基体的结合力差，使得工件涂层后的使用寿命没有很大程度的改善。近两年，为了改善PVD涂层与基体的结合力，很多专家对此进行研究。目前常见的打磨、喷砂等本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：该工艺包括如下步骤：a)将需要进行PVD涂层和刻蚀清洗的工件装夹在台车上，推进反应炉室后抽真空；b)待反应炉室内真空度达到5×10‑2‑1.5×10‑3mbar后，开始加热，加热到400～480℃范围内；c)待反应炉室内温度达到条件后，通入反应气体，控制气体流量和时间，调整偏压电源参数、金属靶材和蒸发源电源参数，产生等离子体，对工件基体进行离子刻蚀清洗，待离子刻蚀清洗完成后可以进行PVD涂层处理；所述步骤(c)中通入反应气体、控制气体流量和时间具体是：1)通入惰性气体，惰性气体流量为75～100sccm，离子刻蚀清洗时间为60～120s；2)通入...

【技术特征摘要】
1.一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：该工艺包括如下步骤：a)将需要进行PVD涂层和刻蚀清洗的工件装夹在台车上，推进反应炉室后抽真空；b)待反应炉室内真空度达到5×10-2-1.5×10-3mbar后，开始加热，加热到400～480℃范围内；c)待反应炉室内温度达到条件后，通入反应气体，控制气体流量和时间，调整偏压电源参数、金属靶材和蒸发源电源参数，产生等离子体，对工件基体进行离子刻蚀清洗，待离子刻蚀清洗完成后可以进行PVD涂层处理；所述步骤(c)中通入反应气体、控制气体流量和时间具体是：1)通入惰性气体，惰性气体流量为75～100sccm，离子刻蚀清洗时间为60～120s；2)通入惰性气体和非惰性气体混合气，惰性气体流量为25～50sccm，非惰性气体流量为50～75sccm，离子刻蚀清洗时间为120～240s；3)通入惰性气体，惰性气体流量为75～100sccm，离子刻蚀清洗时间为360～480s；4)通入非惰性气体，非惰性气体流量为75～125sccm，离子刻蚀清洗时间为720～1080s；所述的惰性气体是Ar或Ne中的一种；非惰性气体是H2或O2中的一种。2.根据权利要求1所述的一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：所述步骤(c)中调整偏压电源参数对应于上述通入反应气体和控制气体流量...

【专利技术属性】
技术研发人员：王信德，潘修河，
申请(专利权)人：江苏苏德涂层有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32