用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统技术方案

本发明专利技术涉及一种用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统。多个镀膜室与多个镀膜辊一一对应地设置，每个镀膜室包括一个或多个溅射单元，每个溅射单元包括升降装置、连接于升降装置的磁控溅射靶以及两个靶挡板，两个靶挡板位于磁控溅射靶和镀膜辊之间且间隔以形成延伸在磁控溅射靶和镀膜辊之间的溅射区间，磁控溅射靶和升降装置与电控装置连接。每个溅射区间设有抽气阀和布气阀，二者均与电控装置连接。该卷绕镀膜系统可独立控制每个溅射区间是否使用以及在使用时的工艺参数，能够随意控制镀膜的层数、靶材的种类，在柔性基底上一次性镀制多层工艺参数不同的膜层，提升镀膜效率。

【技术实现步骤摘要】
用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统
本专利技术涉及一种用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统。
技术介绍
卷对卷技术(Roll-to-roll)是一种新兴的、大面积制备柔性薄膜的技术。真空卷绕镀膜是在真空环境(10-1～10-5Pa)下连续绕过柔性基底并涂覆上膜层。其具有成本低、重量轻、与柔性基底相容性好、生产率高、可大面积制备等优点。现代工业对于柔性基材镀膜的需求越来越高，对所镀膜层功能性的要求也越来越高，膜系结构越来越复杂，每层膜的工艺要求(包括工作压力、工作气体种类、工作气体流量、靶功率和靶基距)都不同。而大工厂生产中，在一个柔性衬底上镀膜多层膜时，不同膜层的工艺参数(包括工作压力、工作气体种类、工作气体流量、靶功率和靶基距)往往并不相同，当前各种卷绕式镀膜机并不能一次性完成不同工艺条件的膜层的镀制，必须分步骤批次镀制，因而大大的影响了生产效率。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术的目的在于提供一种用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统，其能够在柔性基底上一次性镀制多层工艺参数(包括工作压力、工作气体种类、工作气体流量、靶功率和靶基距)不同的膜层，以提升镀膜效率。(本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统，包括卷绕镀膜机和电控装置，所述卷绕镀膜机包括真空腔(1)以及位于所述真空腔(1)中的多个镀膜辊，其特征在于，在所述真空腔(1)中设有多个镀膜室，所述多个镀膜室与所述多个镀膜辊一一对应地设置，每个所述镀膜室包括一个或多个溅射单元，在镀膜室包括多个所述溅射单元时，多个所述溅射单元围绕所述镀膜辊的外表面弧形排列，并且相邻两个所述溅射单元之间设有一镀膜室隔离板(22)；其中，每个所述溅射单元包括升降装置(29)、连接于所述升降装置(29)的磁控溅射靶(28)以及对应于所述磁控溅射靶(28)设置的两个靶挡板(27)，所述磁控溅射靶(28)朝向所在镀膜室对应...

【技术特征摘要】
1.一种用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统，包括卷绕镀膜机和电控装置，所述卷绕镀膜机包括真空腔(1)以及位于所述真空腔(1)中的多个镀膜辊，其特征在于，在所述真空腔(1)中设有多个镀膜室，所述多个镀膜室与所述多个镀膜辊一一对应地设置，每个所述镀膜室包括一个或多个溅射单元，在镀膜室包括多个所述溅射单元时，多个所述溅射单元围绕所述镀膜辊的外表面弧形排列，并且相邻两个所述溅射单元之间设有一镀膜室隔离板(22)；其中，每个所述溅射单元包括升降装置(29)、连接于所述升降装置(29)的磁控溅射靶(28)以及对应于所述磁控溅射靶(28)设置的两个靶挡板(27)，所述磁控溅射靶(28)朝向所在镀膜室对应的镀膜辊设置，并且所述两个靶挡板(27)位于所述磁控溅射靶(28)和所述镀膜辊之间且间隔以形成延伸在所述磁控溅射靶(28)和所述镀膜辊之间的溅射区间(26)，所述磁控溅射靶(28)和所述升降装置(29)与所述电控装置连接；每个所述镀膜室的每个所述溅射区间(26)均设有控制从该溅射区间(26)中抽气的抽气阀和控制向该溅射区间(26)内布气的布气阀，所述抽气阀用于与抽真空设备连接，所述布气阀用于与布气设备连接，所述抽气阀和所述布气阀均与所述电控装置连接。2.根据权利要求1所述的用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统，其特征在于，每个所述镀膜室的柔性基底入口处和柔性基底出口处均分别设有一个弧形板(25)，所述弧形...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘坤，胡强，孙飞，黄爱青，
申请(专利权)人：东北大学，
类型：发明
国别省市：辽宁,21