一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，采用磁控溅射的方法沉积第一非晶层，然后在第一非晶层上再沉积第二非晶层，交替沉积形成非晶/非晶纳米多层薄膜。本发明专利技术制备的多层膜界面明晰,可以很容易通过控制单层薄膜的厚度来得到塑性提高的多层薄膜，从而为制备力学性能可控的非晶/非晶纳米多层薄膜材料提供可能。

【技术实现步骤摘要】
一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法
本专利技术属于纳米金属薄膜材料
，特别涉及一种制备非晶/非晶纳米多层薄膜的方法。
技术介绍
非晶合金又称金属玻璃是采用现代快速凝固冶金技术合成的兼有一般金属和玻璃的优异性能的新型非晶材料。材料的本质特性由原子结构和化学键共同决定，金属玻璃主要由金属元素和金属键组成同时保持着长程无序的非晶结构，这种“金属”和“玻璃”的结合赋予了金属玻璃其他材料无法具有的优异性能，例如韧性好、不透明等。另外，从某种意义上来说，非晶态结构是无缺陷的，不含有晶体中的位错、孪晶和晶界等结构缺陷，这也使非晶合金具有高强度、高耐磨性及优异的磁学性能等优异性能。非晶合金的主要变形方式为局部剪切带变形，由于非晶合金中没有晶体中所含有的位错、晶界和孪晶等微观结构缺陷，进而无法限制主剪切带的扩展最终造成材料灾难性的断裂，室温下缺乏延展性尤其是拉伸塑形几乎为零严重制约了非晶合金的发展和其在工程材料领域的应用。因此，提高非晶合金的塑性显得尤为重要。现有的克服非晶合金脆性的方法主要有：(1)利用非晶合金的尺寸效应，将试样尺寸降低到某一临界尺寸以下，此时剪切带形核困难、剪切转本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，其特征在于，采用磁控溅射的方法沉积第一非晶层，然后在第一非晶层上再沉积第二非晶层，交替沉积形成非晶/非晶纳米多层薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，其特征在于，采用磁控溅射的方法沉积第一非晶层，然后在第一非晶层上再沉积第二非晶层，交替沉积形成非晶/非晶纳米多层薄膜。2.根据权利要求1所述的一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，其特征在于，第一非晶层的材质为Ni50Nb50；第二非晶层的材质为Zr61Cu17.5Ni10Al7.5Si4。3.根据权利要求1所述的一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，其特征在于，单层第一非晶层和第二非晶层的厚度均相同，单层非晶层的厚度小于等于100纳米。4.根据权利要求1所述的一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，其特征在于，单层第一非晶层和第二非晶层的厚度均相同，单层非晶层的厚度为5纳米、10纳米、25纳米、50纳米或100纳米。5.根据权利要求1所述的一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，其特征在于，单层第一非晶层和第二非晶层的厚度均相同，单层非晶层的厚度小于或等于5纳米。6.根据权利要求1所述的一种制备塑性提高的非晶/非晶纳米多层薄膜的方法，其特征在于，非晶/非晶纳米多层薄膜的总厚度为...

【专利技术属性】
技术研发人员：王飞，李佳乐，黄平，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：陕西,61