【技术实现步骤摘要】
一种多孔性聚酰亚胺薄膜及其制备方法
本专利技术涉及一种多孔性聚酰亚胺薄膜及其制备方法,属于聚酰亚胺薄膜制备
技术介绍
近年来,聚酰亚胺树脂因其具有优异的介电性能、化学稳定性能和耐热性能受到广泛关注,其主要用于航空航天、电子、微电子工业领域;近来随着多孔材料的发展,多孔结构聚酰亚胺膜被进行广泛研究,进一步将其用作锂电池隔膜、过滤分离膜等。以往,大多采用热降解法制备多孔聚酰亚胺膜,该方法通过使成孔物质热降解或蒸发而产生孔洞。例如日本专利JP2011-119058,于高压下在聚酰胺树脂预聚体中溶解二氧化碳气泡使溶剂形成液滴,预聚体成膜后通过蒸发热解除去液滴,在膜内形成孔洞,这样的方法在热解蒸发时再次加热,会使孔洞重新闭合,最终的孔洞均匀性较差。中国专利CN101665580公开了一种聚酰亚胺多孔膜及包括该多孔膜的锂离子电池,该方法将该聚酰胺酸膜在高于成孔物质的分解温度下进行酰亚胺化;所述成孔物质选自苯甲酸多元醇酯、苯二甲酸二烷基酯、多元酸烷基酯、烷基磺酸苯酯、氯化石蜡和环氧大豆油中的一种或几种。但该方法成孔物质本身颗粒均一性较差,所形成的孔径一致性不够理想。中 ...
【技术保护点】
1.一种多孔性聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述多孔性聚酰亚胺薄膜中含氨基有机硅氧烷,多孔性聚酰亚胺薄膜的厚度为10~150μm,孔径为0.5~10μm,孔隙率为30%以上,葛尔莱透气度为20s以下。
【技术特征摘要】
1.一种多孔性聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述多孔性聚酰亚胺薄膜中含氨基有机硅氧烷,多孔性聚酰亚胺薄膜的厚度为10~150μm,孔径为0.5~10μm,孔隙率为30%以上,葛尔莱透气度为20s以下。2.如权利要求1所述的多孔性聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述含氨基有机硅氧烷的质量为聚酰胺质量的0.1~5%,含氨基有机硅氧烷的结构为3.权利要求1或2所述的多孔性聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)以二元胺和等摩尔比的四羧酸二酐为原料在强极性溶剂中制得聚酰胺酸溶液,加入聚酰胺质量0.1~5%的含氨基有机硅氧烷对聚酰胺酸进行改性,制得聚酰胺酸改性溶液;(2)将聚倍半硅氧烷微球分散于有机分散剂中,制得微球分散液;(3)将微球分散液与聚酰胺酸改性溶液混合,混合溶液中聚倍半硅氧烷微球的体积百分比为10-20%,通过浇铸、流延或狭缝挤出法制备纳米复合材料薄膜;(4)将纳米复合材料薄膜置于氢氟酸乙醇溶液中,溶解除去纳米复合材料薄膜中的聚倍半硅氧烷微球,最后经过多次水洗、烘干得到多孔性聚酰亚胺薄膜。4.如权利要求3所述的多孔性聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于:所述氢氟酸乙醇溶液是去离子水、无水乙醇、质量分数40%氢氟酸的按体积比为8~10:1~1.5:1~1.5混合制成的。5.如权利要求3所述的多孔性聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于:所述聚倍半硅氧烷微球的平均粒径为0.5~10μm。6.如权利要求5所述的多孔性聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于:所述聚倍半硅氧...
【专利技术属性】
技术研发人员:孔鹏飞,陈玉净,其他发明人请求不公开姓名,
申请(专利权)人:无锡创彩光学材料有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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