一种含浸机构制造技术

本发明专利技术公开了一种含浸机构，包括底座，所述底座的上端一体成型有密封板，且底座上安装由与密封板匹配固定的密封盖，所述密封板上等距滑动安装有限位柱，且限位柱的下端固定安装有配合轮，所述限位柱的上方一体成型有限位块，且密封盖上开设有与限位块匹配的配合孔。本发明专利技术设计含浸机构能够使得电芯在正压力环境和负压环境下不停转换，能够有效的使含浸液更加快速的深入电芯中，能够高效快速的完成电芯的含浸，而且含浸效率高、质量稳定能耗低，并且在含浸作业的过程中，该装置出与完全密封状态，含浸液不会渗出污染环境，含浸液也能够得到更充分的利用，因此具有很高的实用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种含浸机构
本专利技术涉及电容器生产
，特别涉及一种自动含浸制程中的机构,应用于铝电解电容器的电芯及一般常压难以浸透的含浸制程，使其做到负压及高正压的含浸制程达到高质量，高效率生产。
技术介绍
含浸加工处理是采用一定的方法将含浸液体渗入所需要的物件中，使物件达到一定的特殊作用。含浸技术可广泛应用于制造电子元件，复合材料,以及其他多孔性材料的微孔渗透等等。以往的含浸设备主要用于处理电容器、变压器线圈、复合材料等元件。采用的方式是将电容器芯快速含浸的方式,但是存在含浸时间长,效率低,质量不稳定,耗能高、含浸液浪费多、易造成二次污染等问题。如果能够专利技术一种能够用负压及正压的压力差使含浸效率提高，降低含浸液浪费的新型含浸设备就能够解决此类问题，为此我们提供了一种含浸机构。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种含浸机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种含浸机构，包括底座，所述底座的上端一体成型有密封板，且底座上安装由与密封板匹配固定的密封盖，所述密封板上等距滑动安装有限位柱，且限位柱的下端固定安装有配合轮，所述限位柱的上方一体成型有限位块，且密封盖上开设有与限位块匹配的配合孔，所述配合轮的外侧啮合安装有与底座同心的齿圈，且密封盖的下方设置有置物架，所述底座的下方固定安装有支撑板，且支撑板上安装有用于驱动齿圈的驱动电机，所述底座的上方设置有含浸槽，且底座上设置有连通外部真空泵和含浸槽的换气装置，所述底座上固定安装有连通含浸槽的换液管道，且换液管道的末端连接外部含浸液供应泵。优选的，所述限位块的截面为腰形或者矩形。优选的，所述密封板上至少等距设置有两个限位柱，且配合轮与齿圈的内齿轮啮合连接。优选的，所述置物架的上方一体成型有呈等距布置的置料单元格，且置料单元格的外侧设置有进液孔。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术设计含浸机构能够使得电芯在正压力环境和负压环境下不停转换，能够有效的使含浸液更加快速的深入电芯中，能够高效快速的完成电芯的含浸，而且含浸效率高、质量稳定能耗低，并且在含浸作业的过程中，该装置出与完全密封状态，含浸液不会渗出污染环境，含浸液也能够得到更充分的利用，因此具有很高的实用价值。附图说明图1为本专利技术的结构爆炸示意图；图2为本专利技术的剖切示意图；图3为本专利技术底座的结构示意图；图4为本专利技术的装配示意图。图中：1密封盖、2配合孔、3限位柱、4密封板、5置物架、6齿圈、7配合轮、8底座、9支撑板、10换液管道、11换气管道、12驱动电机、13含浸槽、14限位块。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的技术方案，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1-4，本专利技术提供一种技术方案：一种含浸机构，包括底座8，底座8的上端一体成型有密封板4，且底座8上安装由与密封板4匹配固定的密封盖1，密封板4上等距滑动安装有限位柱3，且限位柱3的下端固定安装有配合轮7，限位柱3的上方一体成型有限位块14，且密封盖1上开设有与限位块4匹配的配合孔2，配合轮7的外侧啮合安装有与底座8同心的齿圈6，且密封盖1的下方设置有置物架4，底座8的下方固定安装有支撑板9，且支撑板9上安装有用于驱动齿圈6的驱动电机12，底座1的上方设置有含浸槽13，且底座8上设置有连通外部真空泵和含浸槽13的换气装置13，底座8上固定安装有连通含浸槽13的换液管道10，且换液管道10的末端连接外部含浸液供应泵。进一步地，限位块14的截面为腰形或者矩形。进一步地，密封板4上至少等距设置有两个限位柱3，且配合轮7与齿圈6的内齿轮啮合连接。进一步地，置物架4的上方一体成型有呈等距布置的置料单元格，且置料单元格的外侧设置有进液孔。工作原理：该装置使用时，首先将需要含浸的电芯摆放在置物架5的置物格内，随后将密封盖1和密封板4合拢，此时驱动电机12驱动齿圈6旋转，利用齿圈6带动各个限位柱3进行旋转，此时的限位块14将旋转运动到与配合孔2位置交错的位置处，从而实现了利用限位柱进行密封。随后通过换气管道11和外部的真空泵使含浸槽13内产生负压环境，当气压降低到一定程度时，利用换液管道10向含浸槽13内注入含浸液并逐步的提高内部液体压力至指定值，一段时间后重新利用换液管道10将含浸槽13内的含浸液抽出并利用换气管道11重新再讲含浸槽13内抽成负压状态，再次利用换液管道10向含浸槽13内注入含浸液并逐步提高内部的液体压力至指定值，依据所需含浸的电芯不通反复循环上述操作多次，直到含浸液完全渗透至电芯中。采用该方式使得电芯在正压力环境和负压环境下不停转换，能够有效的使含浸液更加快速的深入电芯中，能够高效快速的完成电芯的含浸，而且含浸效率高、质量稳定能耗低，并且在含浸作业的过程中，该装置出与完全密封状态，含浸液不会渗出污染环境，含浸液也能够得到更充分的利用，因此具有很高的实用价值。尽管已经示出和描述了本专利技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本专利技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含浸机构，包括底座(8)，其特征在于：所述底座(8)的上端一体成型有密封板(4)，且底座(8)上安装由与密封板(4)匹配固定的密封盖(1)，所述密封板(4)上等距滑动安装有限位柱(3)，且限位柱(3)的下端固定安装有配合轮(7)，所述限位柱(3)的上方一体成型有限位块(14)，且密封盖(1)上开设有与限位块(4)匹配的配合孔(2)，所述配合轮(7)的外侧啮合安装有与底座(8)同心的齿圈(6)，且密封盖(1)的下方设置有置物架(4)，所述底座(8)的下方固定安装有支撑板(9)，且支撑板(9)上安装有用于驱动齿圈(6)的驱动电机(12)，所述底座(1)的上方设置有含浸槽(13)，且底座(8)上设置有连通外部真空泵和含浸槽(13)的换气装置(13)，所述底座(8)上固定安装有连通含浸槽(13)的换液管道(10)，且换液管道(10)的末端连接外部含浸液供应泵。

【技术特征摘要】
1.一种含浸机构，包括底座(8)，其特征在于：所述底座(8)的上端一体成型有密封板(4)，且底座(8)上安装由与密封板(4)匹配固定的密封盖(1)，所述密封板(4)上等距滑动安装有限位柱(3)，且限位柱(3)的下端固定安装有配合轮(7)，所述限位柱(3)的上方一体成型有限位块(14)，且密封盖(1)上开设有与限位块(4)匹配的配合孔(2)，所述配合轮(7)的外侧啮合安装有与底座(8)同心的齿圈(6)，且密封盖(1)的下方设置有置物架(4)，所述底座(8)的下方固定安装有支撑板(9)，且支撑板(9)上安装有用于驱动齿圈(6)的驱动电机(12)，所述底座(1)的上方设...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴跃文，
申请(专利权)人：吴跃文，
类型：发明
国别省市：河南,41