【技术实现步骤摘要】
一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层、端子以及电子接口
本技术涉及精密加工
,尤其涉及一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层、端子以及电子接口。
技术介绍
智能手机的不断发展,其普及率非常高;智能手机在使用过程中,耗电量大,需要经常的充电,尤其是使用了较长时间后,手机需要有一天冲好几次,因此其充电接口的插拔率非常高,所以手机的充电接口要求较高;而目前很多手机的充电接口在使用一段时间后,端子易出现磨损,常常导致电接触较差,需要多次调整插接角度或位置,其次端子暴露在空气中,容易被氧化和腐蚀。
技术实现思路
本技术的目的在于针对现有技术的不足,提供一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层,该电镀镀层可以提高端子表面的硬度,提高耐插拔性能和耐腐蚀性。一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层,其包括:镍合金层,电镀于端子基底表面,提高端子抗腐蚀抗氧化性;至少一层中间结合层,电镀于镍合金层表面,用于降低相邻两层的内应力;铑层,电镀于中间结合层表面,用于提高端子表面的硬度,铑层包括纯铑金属层或铑合金层。进一步地,镍合金层包括镍钨层或镍磷层。进一步地,铑合金层包括铑钌层。进一步地,所述中间结合层包括金层或钯层。优选地,耐插拔电镀镀层包括两层中间结合层,分别为金层和钯层,金层电镀于钯层外或钯层电镀于金层外;其中,金层包括纯金金属层或金合金层;钯层包括纯钯金属层或钯合金层。进一步地,耐插拔电镀镀层包括两层中间结合层,两层中间结合层之间设有中间镍合金层。进一步地,所述镍合金层的厚度为0.5~5微米。优选地,中间镍合金层的厚度为0.5~5微米,优选地,镍合金层和中间镍合金层的厚度之和为:3~5微米。进一步地,中 ...
【技术保护点】
1.一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层,其特征在于:其包括:镍合金层,电镀于端子基底表面,提高端子抗腐蚀抗氧化性;至少一层中间结合层,电镀于镍合金层表面,用于降低相邻两层的内应力;铑层,电镀于中间结合层表面,用于提高端子表面的硬度,铑层包括纯铑金属层或铑合金层。
【技术特征摘要】
1.一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层,其特征在于:其包括:镍合金层,电镀于端子基底表面,提高端子抗腐蚀抗氧化性;至少一层中间结合层,电镀于镍合金层表面,用于降低相邻两层的内应力;铑层,电镀于中间结合层表面,用于提高端子表面的硬度,铑层包括纯铑金属层或铑合金层。2.根据权利要求1所述的一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层,其特征在于:镍合金层包括镍钨层或镍磷层。3.根据权利要求1所述的一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层,其特征在于:铑合金层包括铑钌层;所述中间结合层包括金层或钯层。4.根据权利要求1或2或3所述的一种镍合金基底的耐插拔电镀镀层,其特征在于:耐插拔电镀镀层包括两层中间结合层,分别为金层和钯层,金层电镀于钯层外或钯层电镀于金层外;其中,金层包括纯金金属层或金合金层;钯层包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴仁杰,
申请(专利权)人:东莞普瑞得五金塑胶制品有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。