一种真空规管保护装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种真空规管保护装置，包括：腔室；第一连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；以及第二连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；其中，所述第一连接管道和所述第二连接管道以非相对方式设置于所述腔室中。本实用新型专利技术真空规管保护装置采用两根单独的连接管道，通过腔室密闭相互连接。可以避免真空腔室与真空规管之间的直接可视化通路，对迁移粒子可以起到过滤的作用，避免迁移粒子沉积在规管的内部，可以最大程度的保护规管，提高规管的测量准确性和使用的持久性。

【技术实现步骤摘要】
一种真空规管保护装置
本技术涉及真空设备领域，特别地涉及一种真空规管保护装置。
技术介绍
在真空镀膜系统中，用于测量真空系统内部气体压强的真空规管一般直接连接在真空腔室上。而部分镀膜的粒子有着很强的迁移特性，在目标位置沉积镀膜的同时，还会随意的迁移至真空腔室的各个部分，当然也包括真空规管的内部，当迁移粒子沉积在真空规管的相关功能部件上时，会造成真空规管的灵敏度下降、测试结果失真等问题，严重的还会损坏真空规管。传统情况下，一般都是真空规管的制造商在真空规管与真空腔室的连接部分增加带孔的金属薄板，虽然可以起到一定的保护作用，但是迁移粒子还是与真空规管直接连通，薄板的过滤所用有限，不能从根本上解决问题。
技术实现思路
针对现有技术中存在的技术问题，本技术提出了一种真空规管保护装置，包括：腔室；第一连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；以及第二连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；其中，所述第一连接管道和所述第二连接管道以非相对方式设置于所述腔室中。如上所述的真空规管保护装置，所述腔室内部经过增加所述腔室内部的表面积的处理。如上所述的真空规管保护装置，所述腔室进一步包括：侧壁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空规管保护装置，其特征在于，包括：腔室；第一连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；以及第二连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；其中，所述第一连接管道和所述第二连接管道以非相对方式设置于所述腔室中。

【技术特征摘要】
1.一种真空规管保护装置，其特征在于，包括：腔室；第一连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；以及第二连接管道，其一端与所述腔室耦接并伸入到所述腔室中；其中，所述第一连接管道和所述第二连接管道以非相对方式设置于所述腔室中。2.根据权利要求1所述的真空规管保护装置，其特征在于，所述腔室内部经过增加所述腔室内部的表面积的处理。3.根据权利要求1所述的真空规管保护装置，其特征在于，所述腔室进一步包括：侧壁，其定义了所述保护装置的空间；上底面；以及下底面；其中所述第一连接管道和所述第二连接管道伸入通过所述上底面和/下底面伸入所述腔室中。4.根据权利要求3所述的真空规管保护装置，其特征在于，所述第一连接管道和/或所述第二连接管道伸入到所述腔室中的长度大于所述腔室侧壁高度的1/2、3/4或者4/5。5.根据权利要求1所述的真空规管保护装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王正安，
申请(专利权)人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11