感光性组合物制造技术

本发明专利技术提供给予耐热性及耐溶剂性高的固化物的感光性组合物。一种感光性组合物，其含有潜在性添加剂(A)、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且双键当量为200～1000的聚合物(B)、丙烯酸单体(C)及光自由基聚合引发剂(D)。在上述感光性组合物中，潜在性添加剂(A)的含量优选为0.001～20质量％。本发明专利技术的感光性组合物可以通过照射活性能量射线而使其固化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性组合物
本专利技术涉及含有在常温下为非活性且通过加热至规定的温度而被活化从而表现出功能的潜在性添加剂、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且具有一定的双键当量的聚合物、丙烯酸单体及光自由基聚合引发剂的感光性组合物。进一步涉及使用了该组合物的能够通过能量射线而聚合的着色感光性组合物及使用了该着色感光性组合物的滤色器。
技术介绍
为了使树脂组合物的耐气候性或耐热性提高，已知有添加紫外线吸收剂或抗氧化剂而使其稳定化的方法(专利文献1)。此外，已知在感光性组合物中，通过将树脂的双键当量保持在一定范围内，从而描绘微细图案，或者提高固化物的对比度。然而，通过将树脂的双键当量保持在一定的范围内而使耐溶剂性提高是未知的(专利文献2～5)。由于酚系抗氧化剂具有捕获大大影响聚合物劣化的自由基的作用，所以若将抗氧化剂添加到聚合体系内，则一般作为所谓的阻聚剂起作用，产生固化阻碍的问题，因此，开发了潜在性添加剂(专利文献6)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2002-097224号公报专利文献2：日本特开2009-134078号公报专利文献3：日本特开2013-037272号公报专利文献4：美国专利申请公开第2015/254210号说明书专利文献5：日本专利第5460179号公报专利文献6：美国专利申请公开第2015/291772号说明书
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供含有在常温下为非活性且通过加热至规定的温度而被活化从而表现出功能的潜在性添加剂、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且具有一定的双键当量的聚合物、丙烯酸单体及光自由基聚合引发剂的感光性组合物。本专利技术人等反复深入研究，结果认识到：含有在常温下为非活性且通过加热至规定的温度而被活化从而表现出功能的潜在性添加剂、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且具有一定的双键当量的聚合物、丙烯酸单体及光自由基聚合引发剂的感光性组合物的固化物的耐热性及耐溶剂性高，适于液晶显示面板等图像显示装置用滤色器，从而完成了本专利技术。本专利技术是基于上述见解而进行的，提供一种感光性组合物，其含有在常温下为非活性且通过加热至规定的温度而被活化从而表现出功能的潜在性添加剂(A)(以下，也称为潜在性添加剂(A))、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且双键当量为200～1000的聚合物(B)(以下，也称为聚合物(B))、丙烯酸单体(C)及光自由基聚合引发剂(D)。具体实施方式以下，基于优选的实施方式对本专利技术进行详细说明。本专利技术的感光性组合物含有潜在性添加剂(A)、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且双键当量为200～1000的聚合物(B)、丙烯酸单体(C)及光自由基聚合引发剂(D)。以下，对各成分依次进行说明。<潜在性添加剂(A)>本专利技术的感光性组合物中使用的潜在性添加剂(A)是在常温或者预烘焙工序中为非活性，通过在100～250℃下加热、或者在酸/碱催化剂存在下在80～200℃下加热而保护基脱离从而成为活性的添加剂。潜在性添加剂(A)为活性是指与自由基具有反应性，为非活性是指与自由基不反应或反应性极低。在本专利技术的感光性组合物中，关于潜在性添加剂(A)，具有下述通式(I)所表示的骨架的物质由于合成容易且耐热性高，所以优选。[化学式1](式中，环A1表示五元环或六元环的烃环或杂环或者稠环，R61分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、有时还具有取代基的碳原子数为1～40的烷基、有时还具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、有时还具有取代基的碳原子数为7～20的芳基烷基或有时还具有取代基的碳原子数为2～20的含杂环基团，R62分别独立地表示碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为2～20的链烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或三烷基甲硅烷基，R61及R62所表示的烷基或芳基烷基中的亚甲基有时被将选自碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-NR’-、-S-S-或-SO2-中的基团在氧原子不相邻的条件下组合而得到的基团取代，R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基，多个R61彼此有时还键合而形成苯环或萘环，d表示0～4的整数，k表示1～5的整数，但d与k的合计比环A1可取的取代基的数量少，*意味着以*部分与邻接的基团键合。)具有上述通式(I)所表示的骨架的物质中，下述通式(I-A)所表示的物质由于耐热性特别高，所以优选。[化学式2](式中，环A1、R61、R62、d及k与上述通式(I)相同，m表示1～10的整数，X1表示m价的有机基团。)在本说明书中，所谓碳原子数为2～20的含杂环基团是指含有至少一个杂环、且基团整体的碳原子数为2～20的基团。同样地，后述的所谓碳原子数为2～10的含杂环基团是指含有至少一个杂环、且基团整体的碳原子数为2～10的基团。此外，后述的所谓碳原子数为2～35的含杂环基团是指含有至少一个杂环、且基团整体的碳原子数为2～35的基团。在这些含有杂环的基团中的该杂环具有取代基的情况下，基团整体的碳原子数有时超过各个基团的上限值。在含有杂环的基团中的该杂环具有取代基的情况下，作为该取代基，可列举出例如作为有时取代后述的X1所表示的基团的取代基而例示的基团。作为上述通式(I)中的A1所表示的五元环的烃环，可列举出环戊二烯等，作为五元环的杂环，可列举出呋喃、噻吩、吡咯、吡咯烷、吡唑烷、吡唑、咪唑、咪唑烷、噁唑、异噁唑、异噁唑烷、噻唑、异噻唑、异噻唑烷等，作为六元环的烃环，可列举出苯等，作为六元环的杂环，可列举出哌啶、哌嗪、吗啉、硫代吗啉、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、三嗪等，这些环有时与其他环缩合或者被取代，作为稠环，可列举出例如喹啉、异喹啉、吲哚、久洛尼定、苯并噁唑、苯并三唑、甘菊环、萘、蒽、芴、苝、芘等。作为上述通式(I)中的R61所表示的卤素原子，可列举出氟、氯、溴、碘(另外，在以下的说明书中的记载中，卤素原子全部与上述同样)。作为上述通式(I)中的R61所表示的碳原子数为1～40的烷基，可列举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、环戊基、己基、2-己基、3-己基、环己基、4-甲基环己基、庚基、2-庚基、3-庚基、异庚基、叔庚基、1-辛基、异辛基、叔辛基、金刚烷基等，作为将上述通式(I)中的R61所表示的碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团取代的取代基，可列举出乙烯基、烯丙基、丙烯酸基、甲基丙烯酸基等烯键式不饱和基团；氟、氯、溴、碘等卤素原子；乙酰基、2-氯乙酰基、丙酰基、辛酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯基羰基(苯甲酰基)、邻苯二甲酰基、4-三氟甲基苯甲酰基、新戊酰基、水杨酰基、草酰基、硬脂酰基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基、氨基甲酰基等酰基；乙酰氧基、苯甲酰氧基等酰氧基；氨基、乙基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、丁基氨基、环戊基氨基、2-乙基己基氨基、十二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光性组合物，其含有潜在性添加剂(A)、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且双键当量为200～1000的聚合物(B)、丙烯酸单体(C)及光自由基聚合引发剂(D)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.29 JP 2016-0666341.一种感光性组合物，其含有潜在性添加剂(A)、一分子内具有烯键式不饱和键及亲水性基团且双键当量为...

【专利技术属性】
技术研发人员：金原有希子，川原友泰，松井依纯，冈田光裕，佐藤直美，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：发明
国别省市：日本,JP