发射光谱分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种即使是不熟练者也能以适当次数执行校正用标准试样的测定的发射光谱分析装置。在发射光谱分析装置中设置：计算部，其针对每个检测器，计算标准试样的多次测定中的测定值的偏差；判定部，其当对全部检测器而言所述偏差为容许值以内的情况下，判定为不需要进行标准试样的追加测定，当对某一个检测器而言所述偏差超过容许值的情况下，判定为需要进行标准试样的追加测定；通知部，其将判定部的判定结果通知给操作者；以及计算/判定控制部，其以在以规定次数进行了标准试样的测定的时刻进行所述偏差的计算及判定，在判定为需要进行追加测定的情况下，其后每进行1次追加测定就进行所述偏差的计算及判定的方式，控制计算部和判定部。

Emission spectrum analyzer

The present invention provides an emission spectrum analyzer capable of performing the determination of a standard sample for calibration with an appropriate number of times even for an unskilled person. In the emission spectroscopic analysis device, the calculation unit calculates the deviation of the measured value in the multiple measurements of the standard sample for each detector, and the determination unit determines that no additional determination of the standard sample is necessary when the deviation is within the allowable value for all the detectors, and when a certain test is carried out. In the case of the deviation exceeding the allowable value, it is determined that additional determination of the standard sample is necessary; the notification unit notifies the operator of the determination result of the determination unit; and the calculation/determination control unit, which calculates and determines the deviation at the time when the determination of the standard sample is carried out at a specified number of times. When it is determined that additional measurement is necessary, the calculation and determination methods of the deviation are carried out every time the additional measurement is carried out, and the calculation and determination departments are controlled.

【技术实现步骤摘要】
发射光谱分析装置
本专利技术涉及一种使试样激励发光而对该发射光进行光谱测定的发射光谱分析装置。
技术介绍
在发射光谱分析装置中，一般来说，通过电弧放电、火花放电等对金属或者非金属的固体试样提供能量，从而使该试样进行蒸发气化以及激励发光，将该发射光导入到分光器，取出具有各元素所特有的波长的谱线并进行检测(例如，参照专利文献1)。特别是，作为激励源而使用火花放电的发射光谱分析装置能够进行精度高的分析，所以，在例如钢铁材料、非铁金属材料等的生产工厂中，为了进行所生产的金属体中的组成分析而广泛利用。这样的发射光谱分析装置中的分光器如专利文献1等所公开的那样，为了得到多个元素各自所特有的波长的谱线，具有用于使来自试样的光进行波长色散的衍射光栅、配置于各波长的谱线所到达的位置的狭缝以及检测通过了各狭缝的光的多个光检测器(通常是光电倍增管)。另外，近年来，还广泛使用具备多个具有大量受光元件的线性CCD传感器等多通道型光检测器的方式的分光器，来代替上述那样的狭缝以及光检测器。在具备这样的方式的分光器的发射光谱分析装置中，通过上述多通道型光检测器一并检测利用所述衍射光栅而进行了波长色散的光中的规定的波长范围的光。在这样的发射光谱分析装置中，为了确保测定的准确度，通常，在测定时进行使用标准试样的校正作业。在校正作业中，首先，使包含规定浓度的目标元素的标准试样激励发光，调查此时的由光检测器测定的受光强度的测定值以多大程度从基准值偏移，导出用于修正该偏移的校正信息(例如，校正系数等)。此外，作为所述基准值，例如使用在将该发射光谱分析装置交给用户的阶段设定的初始值等。上述校正信息针对设为检测对象的每个元素(或者谱线)而求出，并存储到存储器等存储装置中。然后，其后在测定包含未知浓度的目标元素的目标试样时，从所述存储装置读出与该目标元素(或者谱线)相关的校正信息，使用该校正信息来修正通过测定所述目标试样而得到的信号强度的测定值。另外，在上述的由多通道型光检测器实施谱线的检测的方式的发射光谱分析装置中，根据分析环境条件(典型地说，室温)的不同，构成分光器的各结构要素间的距离会变化，与此相伴地，光检测器的受光面上的各谱线的入射位置会发生变动。即，在多通道型光检测器的受光面上排列的各受光元件与由该受光元件检测的光的波长的对应关系会发生偏移。因此，在这样的方式的发射光谱分析装置中，除了上述检测器灵敏度的校正之外，还实施各受光元件的检测波长的校正(下面称为波长校正)。具体来说，首先，测定包含目标元素的标准试样，根据由多通道型光检测器中包括的各受光元件接收到的光的强度，确定该检测器的受光面上的目标元素的谱线的入射位置。这样的入射位置的确定例如针对入射到受光面上的尽可能远离的位置的2根谱线(波长已知)而进行，根据各谱线的波长以及其入射位置，确定入射到受光面上的各位置(即，各受光元件)的光的波长。关于设置于分光器的多个多通道型检测器分别求出这样的受光元件与入射光的波长的对应关系的信息，并作为波长校正信息存储到存储器等存储装置中，用于以后的测定。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001-83096号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题在上述发射光谱分析装置中，在一次校正作业中重复执行标准试样的测定，在操作者判断测定值稳定的时刻下，结束标准试样的测定，计算校正系数等校正信息。此时，当在测定值充分稳定之前结束标准试样的测定的情况下，就会得不到适当的校正信息。另一方面，在按多到不必要的次数进行标准试样的测定的情况下，校正作业所需的时间上的以及经济上的负担会增大。特别是，在通过放电而激励固体试样的固体发射光谱分析装置中，由于在测定时用氩气对放电室内进行吹扫，所以如果进行多次测定，则会大量消耗昂贵的氩气。然而，上述基于操作者的判断的测定结束时刻的决定的基准是含糊的，所以，只要不是熟练的操作者，就难以以适当的次数进行标准试样的测定。本专利技术是鉴于上述情形而完成的，其目的在于，提供一种即使是不熟练者也能够以适当的次数进行用于校正的标准试样的测定的发射光谱分析装置。解决技术问题的技术手段为了解决上述技术问题而完成的本专利技术涉及一种发射光谱分析装置，其对试样提供能量而使该试样激励发光，由多个检测器检测使该发射光进行波长色散而得到的多根谱线，上述发射光谱分析装置的特征在于，具有：a)计算单元，其计算各个所述多个检测器的、对于标准试样进行多次测定中的测定值的偏差；b)判定单元，当对所述多个检测器的全部而言所述偏差在预定的容许值以内的情况下，所述判定单元判定为不需要进行所述标准试样的追加测定，当对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差超过所述容许值的情况下，所述判定单元判定为需要进行所述标准试样的追加测定；c)通知单元，其将所述判定单元的判定结果通知给操作者；以及d)控制单元，其以下述方式控制所述计算单元以及所述判定单元：在以预定的次数进行了所述标准试样的测定的时刻，进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定，在通过该判定单元判定为需要进行追加测定的情况下，其后，每进行1次追加测定就进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定。在这里，在所述计算单元中，作为所述偏差，例如能够计算标准差、方差或者变异系数等，但不限定于这些。根据由上述结构构成的发射光谱分析装置，在校正作业中，在以预定的次数(例如，3次)执行了标准试样的测定的时刻，通过所述计算单元计算测定值的偏差。然后，通过所述判定单元判定该偏差是否在容许值以内，基于其结果，通过所述判定单元判定是否需要进行追加测定。在这里，在关于全部的检测器判断为测定值的偏差充分小而不需要进行追加测定(即，关于全部的检测器，满足测定结束条件)的情况下，通过所述通知单元将该意思通知给操作者。另一方面，在关于至少一个检测器判断为测定值的偏差大而需要进行追加测定的情况下，也通过所述通知单元将该意思通知给操作者，所以，操作者能够使发射光谱分析装置执行标准试样的追加测定。其后，每进行1次标准试样的测定(追加测定)，就执行由计算单元实施的偏差的计算以及由判定单元实施的判定，并将该判定结果通知给操作者。由此，操作者能够在测定值稳定了的时刻立即结束校正作业。其结果，能够防止在测定值稳定之前结束标准试样的测定，或者在测定值稳定之后仍重复进行标准试样的测定。其中，在所述计算单元中，如果基于从开始标准试样的测定起直至当前为止得到的全部的测定值来计算偏差，则有时直至该偏差处于所述容许值以内为止需要较长时间。因此，优选为，所述本专利技术中的计算单元基于多次测定所述标准试样而得到的测定值中的预定的个数的测定值来计算所述偏差，其中，以使所述偏差的值最小的方式选择该预定的个数的测定值。参照图7以及图8，详细说明这样的偏差的计算以及基于该计算结果的、是否需要进行追加测定的判定。此外，在这里，关于所述控制单元的“预定的次数”是“3次”，关于所述计算单元的“预定的个数”是“3个”。图7以及图8示意性地示出校正作业开始之后的某根谱线的强度的时间变化，图中的黑圆表示进行测定的时刻以及此时的对应于所述谱线的检测器的受光强度。进一步地，图中的白箭头表示在以使偏差的值最小的方式选出所述预定的个数(在这里是3个)的测定值的情况下该3个测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种发射光谱分析装置，其对试样提供能量而使该试样激励发光，由多个检测器检测使该发射光进行波长色散而得到的多根谱线，所述发射光谱分析装置的特征在于，具有：a)计算单元，其计算各个所述多个检测器的、对于标准试样进行多次测定中的测定值的偏差；b)判定单元，当对所述多个检测器的全部而言所述偏差在预定的容许值以内的情况下，所述判定单元判定为不需要进行所述标准试样的追加测定，当对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差超过所述容许值的情况下，所述判定单元判定为需要进行所述标准试样的追加测定；c)通知单元，其将所述判定单元的判定结果通知给操作者；以及d)控制单元，其以下述方式控制所述计算单元以及所述判定单元：在以预定的次数进行了所述标准试样的测定的时刻，进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定，在通过该判定单元判定为需要进行追加测定的情况下，其后，每进行1次追加测定就进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定。

【技术特征摘要】
2017.02.23 JP 2017-0322091.一种发射光谱分析装置，其对试样提供能量而使该试样激励发光，由多个检测器检测使该发射光进行波长色散而得到的多根谱线，所述发射光谱分析装置的特征在于，具有：a)计算单元，其计算各个所述多个检测器的、对于标准试样进行多次测定中的测定值的偏差；b)判定单元，当对所述多个检测器的全部而言所述偏差在预定的容许值以内的情况下，所述判定单元判定为不需要进行所述标准试样的追加测定，当对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差超过所述容许值的情况下，所述判定单元判定为需要进行所述标准试样的追加测定；c)通知单元，其将所述判定单元的判定结果通知给操作者；以及d)控制单元，其以下述方式控制所述计算单元以及所述判定单元：在以预定的次数进行了所述标准试样的测定的时刻，进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定，在通过该判定单元判定为需要进行追加测定的情况下，其后，每进行1次追加测定就进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定。2.根据权利要求1所述的发射光谱分析装置，其特征在于，除所述通知单元之外具有追加测定执行单元，或者代替所述通知单元而具有追加测定执行单元，所述追加测定执行单元在通过所述判定单元判定为需要进行标准试样的追加测定的情况下执行所述标准试样的追加测定。3.根据权利要求1或者2所述的发射光谱分析装置，其特征在于，所述计算单元基于多次测定所述标...

【专利技术属性】
技术研发人员：贝发达也，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP