一种阵列基板、显示面板和显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括柔性基板，以及形成在柔性基板同一侧的多个器件区和多个非器件区，器件区和非器件区间隔设置；器件区包括形成在柔性基板一侧的至少一个无机膜层，且至少一个位于器件区的无机膜层在延伸至所述非器件区后断开。本实用新型专利技术提高了阵列基板的抗弯折强度。

Array substrate, display panel and display device

The embodiment of the utility model provides an array substrate, comprising a flexible substrate, a plurality of device regions and a plurality of non-device regions formed on the same side of the flexible substrate, a device region and a non-device interval separation setting; the device region comprises at least one inorganic film layer formed on one side of the flexible substrate, and at least one of the device regions. The inorganic film is disconnected after extending to the non device area. The utility model improves the bending strength of the array substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、显示面板和显示装置
本技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板、显示面板和显示装置。
技术介绍
柔性显示面板是基于柔软的材料制成，可变型、可弯曲的显示面板。由于其具有可弯曲、宽视角、便于携带等特点，柔性显示面板具有广阔的应用前景。柔性显示面板中，其阵列基板通常采用柔性材料聚酰亚胺(PI)作为柔性衬底，并且在柔性衬底上形成堆叠设置的有机膜层和无机膜层，其中的无机膜层主要包括各种绝缘层，例如缓冲层、栅绝缘层、层间钝化层等，这些无机膜层通常包括SiOx膜、SiNx膜等。但是，无机膜层的抗弯折强度差，当柔性陈列基板弯折后，堆叠设置的无机膜容易发生断裂，导致沉积在无机膜层上的金属膜层断裂，从而造成阵列基板的电性能发生漂移，甚至导致器件功能失效。
技术实现思路
本技术实施例提供了一种阵列基板、显示面板和显示装置，以提高阵列基板的抗弯折强度。第一方面，本技术实施例提供了一种阵列基板，包括柔性基板，以及形成在所述柔性基板同一侧的多个器件区和多个非器件区，所述器件区和所述非器件区间隔设置；所述器件区包括形成在柔性基板一侧的至少一个无机膜层，且至少一个位于所述器件区的无机膜层在延伸至所述非器件区后断开。可选的，所述非器件区的柔性基板上形成有有机填充结构，以填充所述无机膜层在延伸至所述非器件区后形成的断开区域。可选的，若同一所述器件区包括多个堆叠设置的所述无机膜层时，沿远离所述柔性基板的方向，所述多个堆叠设置的无机膜逐层递减。可选的，位于所述器件区的所有无机膜层在延伸至所述非器件区后断开。可选的，所述无机膜层的材料为SiOx、SiNx、Al2O3、SiC、B4C、BN和Si3N4中的至少一种。可选的，所述器件区包括至少一层金属层，所述无机膜层位于所述金属层与所述柔性基板之间，或者所述无机膜层位于相邻的两个所述金属层之间，或者所述无机膜层位于所述金属层远离所述柔性基板的一侧。可选的，所述无机膜层包括缓冲层、沟道层、栅绝缘层、层间绝缘层和钝化层中的至少一层。可选的，所述器件区包括薄膜晶体管、寄存电容、扫描线和数据线中的至少一种。可选的，所述无机膜层的厚度为可选的，所述阵列基板为有机发光二极管阵列基板或液晶显示阵列基板。第二方面，本技术实施例提供了一种显示面板，包括上述任意实施例提供的阵列基板。第三方面，本技术实施例提供了一种显示装置，包括上述实施例提供的显示面板。本技术实施例提供了一种阵列基板，通过设置在柔性基板同一侧形成多个器件区和多个非器件区，器件区和非器件区间隔设置；设置器件区包括形成在柔性基板一侧的至少一个无机膜层，且至少一个位于器件区的无机膜层在延伸至非器件区后断开，实现相同弯折半径下，减小无机膜层受到的应力，解决了柔性陈列基板弯折后，无机膜容易发生断裂，导致沉积在无机膜层上的金属膜层断裂，造成阵列基板的电性能发生漂移，甚至器件功能失效的问题，达到了提高阵列基板的抗弯折强度的效果。附图说明图1为传统的阵列基板的结构示意图；图2为本技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；图3为本技术实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；图4为本技术实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；图5为本技术实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；图6为本技术实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；图7为本技术实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；图8为本技术实施例提供的一种阵列基板的俯视图；图9为本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；图10为本技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。在柔性显示面板中，阵列基板在外力作用下可进行弯折，弯折半径越小，弯折产生的应力越大，当应力超过阵列基板中膜层材料的弹性极限后将会产生裂纹，甚至发生断裂。根据力学原理，弯折形成的应力与弯折长度有关，相同的弯折半径下，弯折长度越小，弯折产生的应力越小。例如，图1为传统的阵列基板的结构示意图，柔性衬底100一侧包括无机膜层101，当阵列基板进行弯折时，无机膜层101的弯折长度为柔性衬底的长度L，当阵列基板的弯折半径减小到R时，无机膜层101达到弹性极限，若继续减小弯折半径，无机膜层101将会产生裂纹，若阵列基板的弯折半径过小，无机膜层101将会断裂。需要说明的是，本技术实施例提供的所有阵列基板的尺寸均相同，即阵列基板的长度均为L，通过比较无机膜层达到弹性极限的弯折半径，可以反应阵列基板的抗弯折强度，无机膜层达到弹性极限的弯折半径越小，阵列基板的抗弯折强度越强。图2为本技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图，参见图2，该阵列基板包括：柔性基板110，以及形成在柔性基板110同一侧的多个器件区120和多个非器件区130，器件区120和非器件区130间隔设置；器件区120包括形成在柔性基板110一侧的至少一个无机膜层140，且至少一个位于器件区120的无机膜层140在延伸至非器件区130后断开。其中，阵列基板的器件区120用于设置阵列基板上的功能器件，如薄膜晶体管(TFT)。在图2中，示例性地，阵列基板包括一个器件区120和两个非器件区130，器件区120包括形成在柔性基板110一侧的一个无机膜层140。这仅是本技术的一个具体示例，而非对本技术的限制。在本实施例中，阵列基板在外力作用下进行弯折，无机膜层140随阵列基板同时被弯折，阵列基板的弯折长度为L，由于器件区120的无机膜层140在延伸至非器件区130后断开，因此，无机膜层140的弯折长度L2＜L。若弯折长度为L的无机膜层达到弹性极限的弯折半径为R，则当该阵列基板的弯折半径达到R时，由于无机膜层140的弯折长度L2＜L，则无机膜层140受到的应力小于该无机膜层达到弹性极限所受的应力，因此，无机膜层140还可以继续减小弯折半径而不会出现裂纹，因此相比于在柔性基板一侧全部沉积无机膜层，本技术实施例提供的阵列基板的抗弯折性更强。本技术实施例提供的一种阵列基板，通过设置在柔性基板110同一侧形成多个器件区120和多个非器件区130，器件区120和非器件区间130隔设置；设置器件区120包括形成在柔性基板110一侧的至少一个无机膜层140，且至少一个位于器件区120的无机膜层140在延伸至非器件区130后断开，实现相同弯折半径下，减小无机膜层受到的应力，解决了柔性陈列基板弯折后，无机膜容易发生断裂，导致沉积在无机膜层上的金属膜层断裂，造成阵列基板的电性能发生漂移，甚至器件功能失效的问题，达到了提高阵列基板的抗弯折强度的效果。其中，柔性基板110的材料可选为柔性材料聚酰亚胺，无机膜层140的材料可选为SiOx、SiNx、Al2O3、SiC、B4C、BN和Si3N4中的至少一种。可选的，无机膜层140的厚度为若同一器件区120包括多个堆叠设置的所述无机膜层140时，可选的，位于所述器件区的部分无机膜层在延伸至所述非器件区后断开，如图3所示，图3为本技术实施例提供的另一种阵列基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括柔性基板，以及形成在所述柔性基板同一侧的多个器件区和多个非器件区，所述器件区和所述非器件区间隔设置；所述器件区包括形成在柔性基板一侧的至少一个无机膜层，且至少一个位于所述器件区的无机膜层在延伸至所述非器件区后断开。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括柔性基板，以及形成在所述柔性基板同一侧的多个器件区和多个非器件区，所述器件区和所述非器件区间隔设置；所述器件区包括形成在柔性基板一侧的至少一个无机膜层，且至少一个位于所述器件区的无机膜层在延伸至所述非器件区后断开。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非器件区的柔性基板上形成有有机填充结构，以填充所述无机膜层在延伸至所述非器件区后形成的断开区域。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，若同一所述器件区包括多个堆叠设置的所述无机膜层时，沿远离所述柔性基板的方向，所述多个堆叠设置的无机膜逐层递减。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，若同一所述器件区包括多个堆叠设置的所述无机膜层时，位于所述器件区的所有无机膜层在延伸至所述非器件区后断开。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述无机膜层的材料为SiOx、SiNx、Al2O3、SiC、B4C、B...

【专利技术属性】
技术研发人员：余睿敏，王忠春，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31