游星轮组件及其抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种游星轮组件及其抛光装置，涉及半导体技术领域，为解决现有抛光工艺过程中，待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光，使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被破坏的问题而设计。涉及一种游星轮组件，包括：游星轮，游星轮具有开孔，游星轮的内圆周面设有传动结构，传动结构与待抛光件的外圆周面相接触，且用于保护待抛光件的外圆周面。还涉及一种抛光装置，包括：上述的游星轮组件。该游星轮组件及其抛光装置能够保护待抛光件的外圆周面不被游星轮的内圆周面挤压，使得待抛光件的原貌或者待抛光件的外圆周面形貌不被破坏。

Star gear assembly and polishing device

The utility model provides a cruise wheel assembly and a polishing device thereof, which relates to the semiconductor technical field. The utility model solves the problem that the outer surface of the workpiece to be processed is also polished under the extrusion of the polishing fluid and the inner wall of the cruise wheel in the existing polishing process, thus causing the original appearance of the polished workpiece or the outer surface morphology of the polished workpiece to be destroyed. Plan. The utility model relates to a planetary wheel assembly, which comprises a planetary wheel, a planetary wheel with a hole, a driving structure arranged on the inner circumference of the planetary wheel, a driving structure which contacts the outer circumference of the polished part and is used for protecting the outer circumference of the polished part. The utility model also relates to a polishing device, which comprises the above star wheel assembly. The cruise wheel assembly and its polishing device can protect the outer circumference of the polished part from being extruded by the inner circumference of the cruise wheel, so that the original appearance of the polished part or the outer circumference appearance of the polished part can not be damaged.

【技术实现步骤摘要】
游星轮组件及其抛光装置
本技术涉及半导体
，尤其是涉及一种游星轮组件及其抛光装置。
技术介绍
化学机械抛光(CMP)技术是半导体材料表面加工的关键技术之一，在大尺寸裸晶圆和硅件表面抛光工艺中得到广泛应用。化学机械抛光的过程，主要是通过抛光垫、抛光液和所选的化学试剂的作用从晶片或者硅件表面去除材料的过程。对于双抛机来讲，要想同时加工半导体晶圆和硅件的两面就要用游星轮将待加工部件固定在抛光机的上下盘面之间，上下盘面都贴有抛光布，抛光液在上面抛光盘面上流下来，两个盘面对晶片施加压力将晶片固定在盘面中间，游星轮则会旋转带动晶片在盘面间转动，同时两个大盘同向或者反向旋转，进而达到抛光的目的。但是在双抛机抛光过程中，待加工件的外表面因为要在游星轮里面旋转，随着抛光液顺着加工件的表面流下来，待加工件的外表面也在抛光液和游星轮内壁的挤压下被抛光，这对于需要保持抛光件原貌或者尽量不要影响该抛光件外表面形貌的要求来说是极为不利的。
技术实现思路
本技术的第一目的在于提供一种抛光组件，以解决现有技术中存在的在现有抛光工艺过程中，待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光，使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被破坏的技术问题。本技术提供的游星轮组件，包括：游星轮，所述游星轮具有开孔，所述游星轮的内圆周面设有传动结构，所述传动结构与待抛光件的外圆周面相接触，且用于保护待抛光件的外圆周面。进一步地，所述传动结构包括设置在所述游星轮的内圆周面的多个凸起，各所述凸起沿所述游星轮的径向向内设置。进一步地，所述传动结构包括设置在所述游星轮的内圆周面的中间圆环，所述中间圆环的外圆周面与所述游星轮的内圆周面相接触。进一步地，所述中间圆环的内圆周面上设有多个凸起，各所述凸起沿所述中间圆环的径向向内设置。进一步地，所述凸起设在所述游星轮上，所述凸起和所述游星轮的材质相同，两者一体成型。或者是，所述凸起和所述游星轮的材质不同，所述凸起和所述游星轮采用可拆卸式固定连接。所述凸起设在所述中间圆环上，所述凸起和所述中间圆环的材质相同，两者一体成型。或者是，所述凸起和所述中间圆环的材质不同，所述凸起和所述中间圆环采用可拆卸式固定连接。进一步地，沿待抛光件的轴线方向，各所述凸起的厚度不大于所述游星轮的厚度。进一步地，沿待抛光件的轴线方向，所述凸起由上至下依次设置有多组，其中每一组中包括多个所述凸起。进一步地，所述凸起的横截面形状采用圆形、半圆形、三角形、方形中的任一种。进一步地，所述凸起采用滚轮的结构形式，所述滚轮的轴线方向与待抛光件的轴线相平行，所述滚轮枢接在所述游星轮的内圆周面上。本技术提供的游星轮组件的有益效果：在该游星轮组件中，游星轮的内圆周面增设了传动结构，由于该传动结构对待抛光件的外圆周面起到一定的保护作用，因此抛光件的外圆周面会不受或者少受到抛光的影响，与现有技术相比，该传动结构的外周面与游星轮的内圆周面相接触，传动结构的内周面与待抛光件的外圆周面相接触，避免了待抛光件的外圆周面直接与游星轮的内圆周面相接触，因而，该游星轮组件能够保护待抛光件的外圆周面不被游星轮的内圆周面(内壁)挤压，使得待抛光件的原貌或者待抛光件的外圆周面形貌不被破坏。本技术的第二目的在于提供一种抛光装置，以解决现有技术中存在的在现有抛光工艺过程中，待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光，使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被破坏的技术问题。本技术提供的抛光装置，包括：上述的游星轮组件。本技术提供的抛光装置的有益效果：在该抛光装置中设置上述的游星轮组件，其中，该游星轮组件的具体结构、连接关系以及有益效果等已在上述文字中进行了详细说明，在此不再赘述。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为本实施例提供的游星轮组件的一种结构与抛光件在使用时的连接结构示意图；图2为本实施例提供的游星轮组件的另一结构与抛光件在使用时的连接结构示意图；图3为本实施例提供的游星轮组件的又一结构与抛光件在使用时的连接结构示意图；图4为图1的横向剖视图；图5为图4的另一结构示意图。图标：100-游星轮；200-抛光件；300-凸起；400-中间圆环。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的机构或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。实施例如图1至图5所示，本实施例提供了一种游星轮组件，包括：游星轮100，游星轮100具有开孔，游星轮100的内圆周面设有传动结构，传动结构与待抛光件200的外圆周面相接触，且传动结构用于保护待抛光件200的外圆周面。需要说明的是：1、上述提到“开孔”为圆孔。2、上述提到“用于保护待抛光件200的外圆周面”是指，通过上述的传动结构对抛光件200的外圆周面(抛光件200的外圆周面为不进行抛光的面)起到保护的作用，使得抛光件200的外圆周面不被抛光或减少抛光。在该游星轮组件中，游星轮100的内圆周面增设了传动结构，由于该传动结构对待抛光件200的外圆周面起到一定的保护作用，因此抛光件200的外圆周面会不受或者少受到抛光的影响，与现有技术相比，该传动结构的外周面与游星轮100的内圆周面相接触，传动结构的内周面与待抛光件200的外圆周面相接触，避免了待抛光件200的外圆周面直接与游星轮100的内圆周面相接触，因而，该游星轮组件能够保护待抛光件200的外圆周面不被游星轮100的内圆周面(内壁)挤压，使得待抛光件200的原貌或者待抛光件200的外圆周面形貌不被破坏。在一些实施例中，传动结构的具体形式可以有多种，不限于为以下几种。如图1所示，传动结构包括设置在游星轮100的内圆周面的多个凸起300，各凸起300沿游星轮100的径向向内设置。在该种结构形式中，上述提到的“传动结构与待抛光件200的外圆周面相接触”，是指，多个凸起300远离游星轮100的最外端面与待抛光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种游星轮组件，其特征在于，包括：游星轮(100)，所述游星轮(100)具有开孔，所述游星轮(100)的内圆周面设有传动结构，所述传动结构与待抛光件(200)的外圆周面相接触，且所述传动结构用于保护待抛光件(200)的外圆周面。

【技术特征摘要】
1.一种游星轮组件，其特征在于，包括：游星轮(100)，所述游星轮(100)具有开孔，所述游星轮(100)的内圆周面设有传动结构，所述传动结构与待抛光件(200)的外圆周面相接触，且所述传动结构用于保护待抛光件(200)的外圆周面。2.根据权利要求1所述的游星轮组件，其特征在于，所述传动结构包括设置在所述游星轮(100)的内圆周面的多个凸起(300)，各所述凸起(300)沿所述游星轮(100)的径向向内设置。3.根据权利要求1所述的游星轮组件，其特征在于，所述传动结构包括设置在所述游星轮(100)的内圆周面的中间圆环(400)，所述中间圆环(400)的外圆周面与所述游星轮(100)的内圆周面相接触。4.根据权利要求3所述的游星轮组件，其特征在于，所述中间圆环(400)的内圆周面上设有多个凸起(300)，各所述凸起(300)沿所述中间圆环(400)的径向向内设置。5.根据权利要求4所述的游星轮组件，其特征在于，所述凸起(300)设在所述游星轮(100)上，所述凸起(300)和所述游星轮(100)的材质相同，两者一体成型；或者是，所述凸起(300)和所述游星轮(100)的材质不同，所述凸起(300...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯光建，夏秋良，
申请(专利权)人：苏州新美光纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32