一种真空吸附结构制造技术

技术编号:18596992 阅读:16 留言:0更新日期:2018-08-04 20:39
本发明专利技术实施例提供一种真空吸附结构,涉及吸盘技术领域,能够解决现有技术中真空吸附结构的吸附可靠性较差的问题。所述真空吸附结构包括:吸盘,吸盘的底部设置有第一环形凸起和位于第一环形凸起外围的第二环形凸起,第一环形凸起的底部和第二环形凸起的底部位于同一平面;吸盘上设置有第一真空孔和第二真空孔,第一真空孔位于第一环形凸起内侧,第二真空孔位于第一环形凸起与第二环形凸起之间;固定单元,用于固定吸盘;固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔,真空气流可通过通孔到达第一真空孔和第二真空孔处。本发明专利技术用于真空吸附。

A vacuum adsorption structure

The invention provides a vacuum adsorption structure, which involves the technical field of sucker, and can solve the problem that the adsorption reliability of the vacuum adsorption structure in the existing technology is poor. The vacuum adsorption structure includes a suction disc, the bottom of the suction disc is provided with a first ring bulge and a second ring convex at the periphery of the first ring, the bottom of the first ring and the bottom of the second ring bulge are located on the same plane; the suction disc is provided with a first vacuum hole and a second vacuum hole, and the first vacuum hole is located in the first vacuum. The second vacuum hole is located between the first ring and the second ring bulge; the fixed unit is used to fix the suction cup; the fixed unit is provided with a hole through which the vacuum air passes through, and the vacuum air flow can reach the first vacuum hole and the second vacuum hole through the through hole. The invention is used for vacuum adsorption.

【技术实现步骤摘要】
一种真空吸附结构
本专利技术涉及吸盘
,尤其涉及一种真空吸附结构。
技术介绍
真空吸盘采用了真空原理,即用真空负压来“吸附”工件以达到夹持工件的目的。当吸盘内部的空气压力低于吸盘外部的大气压力时,工件在外部压力的作用下就会被吸起。吸盘内部的真空度越高,吸盘与工件之间贴的越紧。常见的普通型真空吸盘主要有以下三种:扁平吸盘、短波纹管型吸盘和长波纹管型吸盘。目前用于表面光滑物品(如玻璃基板)的搬送主要使用上述三种普通型的吸盘。然而上述吸盘底部均采用边裙式的结构设计,该结构在使用过程中容易翘曲变形而发生破损,一旦吸盘发生破损,真空状态会很难建立,很大程度上会导致吸附物掉落,进而对吸附物造成永久性的损伤,因而现有技术中的真空吸盘的吸附可靠性较差。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种真空吸附结构,能够解决现有技术中真空吸附结构的吸附可靠性较差的问题。为达到上述目的,本专利技术的实施例采用如下技术方案:本专利技术实施例提供一种真空吸附结构,包括:吸盘,所述吸盘的底部设置有第一环形凸起和位于所述第一环形凸起外围的第二环形凸起,所述第一环形凸起的底部和所述第二环形凸起的底部位于同一平面;所述吸盘上设置有第一真空孔和第二真空孔,所述第一真空孔位于所述第一环形凸起内侧,所述第二真空孔位于所述第一环形凸起与所述第二环形凸起之间;固定单元,用于固定所述吸盘;所述固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔,所述真空气流可通过所述通孔到达所述第一真空孔和所述第二真空孔处。可选的,所述固定单元包括连接盘、缓冲子单元和固定盘;所述固定盘用于固定所述吸盘;所述通孔位于所述固定盘上;所述连接盘用于固定所述缓冲子单元;所述缓冲子单元包括柱状外壳、缓冲杆和弹性件;所述柱状外壳的顶端与所述连接盘的底部连接,所述柱状外壳的底端一周具有朝向所述柱状外壳的中心轴弯折的支撑部;所述缓冲杆的一端设置有调节球,所述调节球位于所述柱状外壳的内部,所述支撑部的内径小于所述调节球的直径,且大于所述缓冲杆的直径,所述调节球可在所述柱状外壳内转动,所述缓冲杆的另一端与所述固定盘连接;所述弹性件位于所述柱状外壳内,其一端与所述调节球抵接,另一端与所述柱状外壳的顶部或所述连接盘的底部抵接。可选的,所述固定盘侧壁上设置有围绕其一周的环形凹槽,所述吸盘的外侧壁上设置有第三环形凸起,所述第三环形凸起与所述环形凹槽配合卡接,以使所述固定盘与所述吸盘固定。可选的,所述固定盘的底部中心具有圆形凹陷区,所述圆形凹陷区内设置有至少一个支撑块;所述支撑块用于支撑所述第一环形凸起的内侧壁;所述通孔位于所述圆形凹陷区的中心处。可选的,包括多个所述支撑块,多个所述支撑块围成圆环状,相邻两个所述支撑块之间具有间隙。可选的,所述第一环形凸起和所述第二环形凸起均为圆环形结构,且所述第一环形凸起和所述第二环形凸起的圆心重合。可选的,所述第一环形凸起与所述第二环形凸起的底部均为平面。可选的,所述吸盘的材料为橡胶。可选的,包括多个所述第二真空孔,多个所述第二真空孔均匀分布在所述第一环形凸起与所述第二环形凸起之间。可选的,每个所述第二真空孔的直径是所述第一真空孔的直径的1/4。本专利技术实施例提供的真空吸附结构,包括:吸盘,吸盘的底部设置有第一环形凸起和位于第一环形凸起外围的第二环形凸起,第一环形凸起的底部和第二环形凸起的底部位于同一平面;吸盘上设置有第一真空孔和第二真空孔,第一真空孔位于第一环形凸起内侧,第二真空孔位于第一环形凸起与第二环形凸起之间;固定单元,用于固定吸盘;固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔,真空气流可通过通孔到达第一真空孔和第二真空孔处。相较于现有技术,本专利技术实施例提供的真空吸附结构通过在吸盘的底部设置第一环形凸起和包围第一环形凸起的第二环形凸起,并且在第一环形凸起内侧设置第一真空孔,在第一环形凸起与第二环形凸起之间设置第二真空孔,利用第一真空孔为第一环形凸起围成区域提供真空,利用第二真空孔为第一环形凸起与第二环形凸起之间区域提供真空,从而形成一个双层吸附结构,这样即使第一环形凸起和第二环形凸起中的一个发生翘曲变形或破损等情况时,另一个依然可以维持真空状态,保证对吸附物的正常吸附,从而提高真空吸附结构的吸附可靠性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的真空吸附结构的结构示意图;图2为本专利技术实施例提供的柱状外壳的结构示意图;图3为本专利技术实施例提供的缓冲杆和调节球的结构示意图;图4为本专利技术实施例提供的缓冲子单元的结构示意图一;图5为本专利技术实施例提供的缓冲子单元的结构示意图二;图6为本专利技术实施例提供的连接盘的结构示意图一;图7为本专利技术实施例提供的连接盘的结构示意图二;图8为本专利技术实施例提供的固定盘的结构示意图一;图9为本专利技术实施例提供的固定盘的结构示意图二;图10为本专利技术实施例提供的固定盘的结构示意图三;图11为本专利技术实施例提供的固定盘的结构示意图四;图12为本专利技术实施例提供的吸盘的结构示意图一;图13为本专利技术实施例提供的吸盘的结构示意图二;图14为本专利技术实施例提供的吸盘的结构示意图三;图15为本专利技术实施例提供的吸盘的结构示意图四;图16为本专利技术实施例提供的真空吸附结构的立体结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种真空吸附结构,如图1至图16所示,包括:吸盘11,吸盘11的底部设置有第一环形凸起111和位于第一环形凸起111外围的第二环形凸起112,第一环形凸起111的底部和第二环形凸起112的底部位于同一平面;吸盘11上设置有第一真空孔113和第二真空孔114,第一真空孔113位于第一环形凸起111内侧,第二真空孔114位于第一环形凸起111与第二环形凸起112之间;固定单元,用于固定吸盘11;固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔141,真空气流可通过通孔141到达第一真空孔113和第二真空孔114处。本专利技术实施例对于第一真空孔113和第二真空孔114的具体设置数量、设置尺寸等不做限定,本领域技术人员可以根据实际情况进行设定。在实际应用中,一般设置一个较大尺寸的第一真空孔113即可满足第一环形凸起111内侧的真空;一般可以设置多个较小尺寸、且均匀分布的第二真空孔114,来实现第一环形凸起111与第二环形凸起112之间区域的真空状态,较佳的,第二真空孔114可以设置四个,每个第二真空孔114的直径是第一真空孔113的直径的1/4。参考图1和图16所示,第一环形凸起111以及其内侧的第一真空孔113负责主真空状态,第二环形凸起112以及其内侧的第二真空孔114负责辅助真空状态。当第二环形凸起112发生破损时,不会对第一环形凸起111内的主真空状态造成太大的影响,此时第一环形凸起111以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸附结构,其特征在于,包括:吸盘,所述吸盘的底部设置有第一环形凸起和位于所述第一环形凸起外围的第二环形凸起,所述第一环形凸起的底部和所述第二环形凸起的底部位于同一平面;所述吸盘上设置有第一真空孔和第二真空孔,所述第一真空孔位于所述第一环形凸起内侧,所述第二真空孔位于所述第一环形凸起与所述第二环形凸起之间;固定单元,用于固定所述吸盘;所述固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔,所述真空气流可通过所述通孔到达所述第一真空孔和所述第二真空孔处。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附结构,其特征在于,包括:吸盘,所述吸盘的底部设置有第一环形凸起和位于所述第一环形凸起外围的第二环形凸起,所述第一环形凸起的底部和所述第二环形凸起的底部位于同一平面;所述吸盘上设置有第一真空孔和第二真空孔,所述第一真空孔位于所述第一环形凸起内侧,所述第二真空孔位于所述第一环形凸起与所述第二环形凸起之间;固定单元,用于固定所述吸盘;所述固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔,所述真空气流可通过所述通孔到达所述第一真空孔和所述第二真空孔处。2.根据权利要求1所述的真空吸附结构,其特征在于,所述固定单元包括连接盘、缓冲子单元和固定盘;所述固定盘用于固定所述吸盘;所述通孔位于所述固定盘上;所述连接盘用于固定所述缓冲子单元;所述缓冲子单元包括柱状外壳、缓冲杆和弹性件;所述柱状外壳的顶端与所述连接盘的底部连接,所述柱状外壳的底端一周具有朝向所述柱状外壳的中心轴弯折的支撑部;所述缓冲杆的一端设置有调节球,所述调节球位于所述柱状外壳的内部,所述支撑部的内径小于所述调节球的直径,且大于所述缓冲杆的直径,所述调节球可在所述柱状外壳内转动,所述缓冲杆的另一端与所述固定盘连接;所述弹性件位于所述柱状外壳内,其一端与所述调节球抵接,另一端与所述柱状外壳的顶部或所述连接盘的底部抵接。3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:卫春生马亚光王洋何文兵王培军
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司合肥京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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