衬底处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术包含：限定内部空间的套管组合件，在所述内部空间中处理衬底且堆叠及组装各自具有喷射部分及排气口的多个堆叠主体；衬底固持器，其用于以多级方式将多个衬底支撑在所述内部空间中；供应管线，其连接到所述多个堆叠主体中的任一个的所述喷射部分以便供应处理气体；以及排气管线，其连接到所述多个排气口的任一个以便排放所述处理气体。本发明专利技术诱导所述处理气体的层流并可均一地供应所述处理气体到所述衬底的上表面。

Substrate processing device

The invention comprises a casing assembly that defines an internal space, processes a substrate in the internal space and stacked and assembles a plurality of stacking bodies each with a jet portion and an exhaust port; a substrate holder is used to support a plurality of substrates in the internal space in a multilevel manner; supply lines are connected to the plurality. The ejection portion of any of the main body of the stack is used to supply the processing gas; and the exhaust pipeline is connected to any of the plurality of exhaust ports in order to discharge the treated gas. The invention induces laminar flow of the treated gas and can evenly supply the treated gas to the upper surface of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底处理装置
本公开涉及一种衬底处理装置，且更确切到说，涉及一种具有简单结构并诱导处理气体的层流以均一地供应处理气体到衬底的顶表面的衬底处理装置。
技术介绍
一般来说，衬底处理装置被分类为能够对一个衬底执行衬底处理过程的单晶片型衬底处理装置和能够同时对多个衬底执行衬底处理过程的分批型衬底处理装置。此类单晶片型衬底处理装置具有简单结构，并具有低生产率。因此，能够大规模生产衬底的分批型衬底处理装置被广泛地使用。分批型衬底处理装置包含：处理腔室，其中容纳并处理以多级方式水平层压的衬底；处理气体供应喷嘴，其用于将处理气体供应到处理腔室中；以及排气管线，处理腔室中的气体通过其排出。如下执行使用分批型衬底处理装置的衬底处理过程。首先，将多个衬底载入到处理腔室中。接着，当处理腔室内的气体通过排气管线排出时，通过处理气体供应喷嘴将处理器气体供应到处理腔室中。当在衬底之间穿过时，通过排气孔将从处理气体供应喷嘴注入的处理气体引入到排气管线中，以在衬底的每一个上形成薄膜。此处，为了在衬底的顶表面上形成具有均一厚度的薄膜，重要的是分割其中处理每个基板以诱导处理气体的层流的空间。然而，在根据相关技术的衬底处理装置的情况下，可能难以分割其中处理衬底的空间，且因此不能有效地诱导处理气体的层流。因此，均一量的处理气体不能供应到衬底的顶表面而降低薄膜的质量。另外，由于处理气体中的供应到衬底的圆周和底表面的处理气体的量较大，所以供应到衬底的顶表面以实际参与衬底处理过程的处理气体的量可较小。因此，处理气体可能被浪费并且衬底处理过程的效率可能降低。(现有技术文献)韩国专利注册号101463592
技术实现思路
技术问题本专利技术还提供一种能够诱导处理气体的层流的衬底处理装置。本专利技术还提供一种具有简单结构的衬底处理装置。本专利技术还提供一种能够改进衬底处理过程的效率的衬底处理装置。技术解决方案根据示范性实施例，衬底处理装置包含：具有内部空间的套管组合件，在所述内部空间中通过层压多个层压板来处理及组装衬底，所述层压板中的每一个包含注入部分及排气孔；衬底固持器，其配置成以多极方式将所述多个衬底支撑在所述内部空间中；供应管线，其连接到所述多个层压板的一个注入部分以供应处理气体；以及排气管线，其连接到多个排气孔中的一个以排出所述处理气体。所述层压板中的每一个可以包含：具有表面积的板；中空部分，其提供于所述板的中心部分中以使得所述衬底固持器可移动；以及突起部分，其中每一个在所述板的圆周上从第一表面及第二表面中的至少一个表面突出，所述第一表面及所述第二表面面向彼此。所述气体供应单元可以设置在所述板的一侧上，且所述突起部分可包含：一对第一突起构件，其在横越用以将处理气体流从所述板的一侧注入到另一侧的处理气体的注入方向的方向上在所述板的两侧上彼此间隔开；以及一对第二突起构件，其连接到所述第一突起构件并在所述处理气体的注入方向上彼此间隔开。所述注入部分可包含具有向其中供应处理气体的扩散空间的主体，且所述处理气体可从所述主体的面向排气孔的一侧注入。所述主体可分离地插入到所述突起部分中并安放在所述板中。所述主体的至少一部分可打开，且所述注入部分可进一步包括设置在所述主体上以调整处理气体的流动的引导构件。所述引导构件可以多个提供以便在横越处理气体的注入方向的方向上彼此间隔开。供应孔可限定在所述板及所述主体中的每一个中，且所述多个板的所述供应孔与所述主体的所述供应孔对齐以提供所述处理气体移动经过的路径。所述主体可与所述突起部分集成，且所述注入部分可进一步包含在所述主体的一侧中限定的主要注入孔及在所述主体的一侧中限定并与所述注入孔间隔开的辅助注入孔。分割在其中处理所述衬底中的每一个的处理空间的多个隔板可提供在所述衬底固持器中，且所述注入部分可在所述隔板之间注入所述处理气体。有利效应根据示范性实施例，可层压多个层压板以形成处理气体在一个方向上所流动经过的路径。因此，其中分散处理气体的空间可减小以便集中地将处理气体供应到衬底。因此，供应到衬底以实际参与衬底处理过程的处理气体的量可增加以减少处理气体的浪费并改进衬底处理过程的效率。并且，用于注入处理气体的注入部分及处理气体经由其排出的排气孔可提供于套管组合件的层压板中，且因此可以不提供单独的注入喷嘴和排气管。因此，设备的结构可简化以便容易实现维护和修理。并且，可诱导供应到衬底的处理气体的层流。因此，处理气体可平行于衬底的顶表面供应，并因此可均一地供应到衬底的整个顶表面。因此，具有均一厚度的薄膜可形成于衬底的顶表面上来改进薄膜的质量。附图说明图1是说明根据示范性实施例的衬底处理装置的结构的视图。图2是根据示范性实施例的套管组合件的透视图。图3是根据示范性实施例的层压板的透视图。图4是根据示范性实施例的注入部分的视图。图5是根据另一示范性实施例的注入部分的视图。图6是说明根据示范性实施例的套管组合件内的处理气体流动的视图。图7是根据另一示范性实施例的套管组合件的透视图。具体实施方式在下文中，将参考附图详细地描述实施例。然而，本专利技术可以不同的形式来体现，且不应解释为限于本文所陈述的实施例。确切地说，提供这些实施例是为了使得本专利技术将是透彻并且完整的，并且这些实施例将向所属领域的技术人员完整地传达本专利技术的范围。在附图中，出于说明清楚起见而夸大了层和区域的尺寸。相似参考标号通篇是指相似元件。图1是说明根据示范性实施例的衬底处理装置的结构的视图，图2是根据示范性实施例的套管组合件的透视图，图3是根据示范性实施例的层压板的透视图，图4是根据示范性实施例的注入部分的视图，图5是根据另一示范性实施例的注入部分的视图，图6是说明根据示范性实施例的套管组合件内的处理气体流动的视图，且图7是根据另一示范性实施例的套管组合件的透视图。参考图1及图3，根据示范性实施例的衬底处理装置(1000)包含具有内部空间的套管组合件(100)，在所述内部空间中通过层压多个层压板(110)来处理及组装衬底(S)，所述层压板(110)中的每一个具备注入部分(114)及排气孔(115)；衬底固持器(71)，其以多极方式将所述多个衬底(S)支撑在套管组合件(100)的内部空间中；供应单元(40)，其连接到所述多个层压板(110)的一个注入部分(114)以供应处理气体；以及排气管线(50)，其连接到多个排气孔(115)中的一个以排出所述处理气体。并且，衬底处理装置(1000)可进一步包含腔室单元(30)、外部套管(20)、具备衬底固持器(71)的支撑单元(70)、驱动单元(80)以及加热单元(60)。腔室单元(30)可具有矩形方块或圆柱形形状。腔室单元(30)可包含上部腔室(31)及下部腔室(32)。上部腔室(31)的下部及下部腔室(32)的上部彼此连接。与用于传递衬底(S)的传递腔室(200)连通的入口提供于下部腔室(32)的侧表面中。因此，衬底(S)可通过入口从传递腔室(200)载入到下部腔室(32)。流入孔(220)限定于传递腔室(200)的一侧中以对应于下部腔室(32)的入口。闸门阀(230)设置于流入孔(220)与入口之间。因此，传递腔室(200)的内部空间及下部腔室(32)的内部空间可由闸门阀(230)隔离。并且，流入孔(220)及入口通过闸门阀(230)打开及关本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理装置，包括：具有内部空间的套管组合件，在所述内部空间中通过层压多个层压板来处理及组装多个衬底，所述多个层压板中的每一个包括注入部分及排气孔；衬底固持器，其配置成以多极方式将所述多个衬底支撑在所述内部空间中；供应管线，其连接到所述多个层压板的一个注入部分以供应处理气体；以及排气管线，其连接到多个排气孔中的一个以排出所述处理气体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.27 KR 10-2015-01495731.一种衬底处理装置，包括：具有内部空间的套管组合件，在所述内部空间中通过层压多个层压板来处理及组装多个衬底，所述多个层压板中的每一个包括注入部分及排气孔；衬底固持器，其配置成以多极方式将所述多个衬底支撑在所述内部空间中；供应管线，其连接到所述多个层压板的一个注入部分以供应处理气体；以及排气管线，其连接到多个排气孔中的一个以排出所述处理气体。2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述多个层压板中的每一个包括：具有表面积的板；中空部分，其提供于所述板的中心部分中以使得所述衬底固持器能够移动；以及多个突起部分，其中每一个在所述板的圆周上从第一表面及第二表面中的至少一个表面突出，所述第一表面及所述第二表面面向彼此。3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中所述气体供应单元设置在所述板的一侧上，及所述突起部分包括：一对第一突起构件，其在横越用以将所述处理气体流从所述板的一侧注入到另一侧的所述处理气体的注入方向的方向上在所述板的两侧上彼此间隔开；以及一对第二突起构件，其连接到所述第一突起构件及在所述处理气体的所述注入方向上彼此间隔开。4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳次英，诸成泰，崔圭鎭，金濬，郑奉周，朴庆锡，金龙基，金哉佑，
申请(专利权)人：株式会社EUGENE科技，
类型：发明
国别省市：韩国,KR