一种用于真空镀膜装置的样品台制造方法及图纸

本申请涉及一种用于真空镀膜装置的样品台，包括支撑板、安装板、升降机构、挡板机构、样品放置盒、膜厚检测仪、导柱、壳体、旋转机构、电极机构、连接管道，其特征是支撑板上固定有导柱、升降机构，导柱上滑动套装安装板，安装板上固定挡板机构、壳体、膜厚检测仪，升降机构与安装板配合并驱动安装板沿导柱上下升降调整相对高度；膜厚检测仪的探头与固定在样品放置盒下的被加工产品相对高度不变；连接管道转动安装在安装板上并与样品放置盒连接，电极机构的阳极设置在壳体上，电极机构阴极设置在被加工产品上，壳体上安装有旋转机构，旋转机构用来驱动连接管道转动并带动样品放置盒转动。本申请结构简洁，使用方便，功能多，效果好。

A sample table for vacuum coating device

The application involves a sample table for a vacuum coating device, including a supporting plate, an installation plate, a lifting mechanism, a baffle mechanism, a sample placement box, a film thickness detector, a guide column, a shell, a rotating mechanism, an electrode mechanism, and a connecting pipe. The feature is a sliding suit on the supporting plate, a guide column, a lifting mechanism, and a sliding suit on the guide column. Mounting plate, fixed baffle mechanism, shell and film thickness tester on the installation board, the lifting mechanism and the mounting plate are combined with the mounting plate to adjust the relative height along the guide column, and the probe of the film thickness detector is relative to the processed product fixed under the sample placing box, and the connecting pipe is rotated and installed on the mounting plate. The anode of the electrode mechanism is set on the shell. The cathode of the electrode mechanism is set on the processed product. The rotating mechanism is installed on the shell. The rotating mechanism is used to drive the connecting pipe to rotate and drive the sample placement box to rotate. The application is simple, easy to use, functional and effective.

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空镀膜装置的样品台
本申请涉及一种用于真空镀膜装置的样品台，主要适用于真空镀膜系统中被镀膜样品的夹持并实现旋转、加热、冷却、测膜厚等功能。
技术介绍
现有技术的缺陷是无法实现直接式水冷，也无法实现薄膜膜厚探头和样品同步升降功能，其中的样品盒不能根据需要进行角度的调整，加热水冷功能不能简洁方便地做在一套系统里。
技术实现思路
本申请解决的技术问题是克服现有技术中存在的上述不足，而提供一种结构简洁，使用方便，功能多，效果好的用于真空镀膜装置的样品台。本申请解决上述技术问题所采用的技术方案是：用于真空镀膜装置的样品台，包括支撑板、安装板、升降机构、样品放置盒、膜厚检测仪、导柱、壳体、旋转机构、电极机构、连接管道，其特征是支撑板上固定有导柱、升降机构，导柱上滑动套装安装板，安装板上固定、壳体、膜厚检测仪，升降机构与安装板配合并驱动安装板沿导柱上下升降调整相对高度；膜厚检测仪的探头与固定在样品放置盒下的被加工产品相对高度不变；连接管道转动安装在安装板上并与样品放置盒连接，电极机构的阳极设置在壳体上，电极机构阴极设置在磁控溅射环靶上，壳体上安装有旋转机构，旋转机构用来驱动连接管道转动并带动样品放置盒转动，使得基片镀膜更均匀。本申请还设置有挡板机构，挡板机构用来驱动挡板挡住或者不挡住真空镀膜物。本申请所述连接管道通过二组以上绝缘轴承转动安装在真空镀膜装置的样品台上。本申请所述连接管道为双套管，双套管通过水冷接口分别与进水管、排水管连通，进水通过双套管内、外通道中的一个与样品放置盒换热后再经过双套管内、外通道中的另一个流出水冷接口，样品放置盒底面紧贴被加工产品，导热效果好。本申请还设置有样品盒固定机构，样品盒固定机构包括样品盒固定件、上固定板、下固定板、固定螺母、小波纹管，样品盒固定件安装在连接管道下部，样品盒固定件两侧对称配置两块上固定板，两块上固定板分别与两块对称配置的下固定板通过固定螺母连接，下固定板与样品放置盒连接，上固定板、下固定板之间套装小波纹管，连接管道底部高于固定螺母。本申请上固定板或下固定板设置有角度刻度盘，下固定板或上固定板顶部中心设置指针，通过指针来指示下固定板相对于上固定板转动的角度，使得样品放置盒及其底面基片可以精确选择沿固定螺母轴向的朝向角度，提高镀膜效果。本申请加热模式的连接管道中设置有悬空（即不与连接管道连接，不转动）的导线，导线一端与样品放置盒中间悬空（不转动）的加热盘连接，导线另一端与电源连接。本申请与现有技术相比，具有以下优点和效果：结构简洁，使用方便，功能多，效果好。附图说明图1是本申请实施例水冷特例的结构示意图。图2是图1的A-A剖视示意图。图3是本申请实施例电加热特例的结构示意图。图4是图3的B-B剖视示意图。图5是本申请实施例的立体示意图。具体实施方式下面结合附图并通过实施例对本申请作进一步的详细说明，以下实施例是对本申请的解释而本申请并不局限于以下实施例。参见图1～图5，本实施例真空镀膜装置样品台具有两种特例，其中一种特例适用于对基片进行水冷的情形，另一种特例适用于对基片进行电加热的情形，两种特例的基本结构相同，区别在于上部法兰机构5，前一种为带进出口的水冷接口51，另一种为电加热接口52或者没有，以及后者需要加热盘16及其连接线（导线），连接管道15也可以不同。本实施例基本结构设置有支撑板1、安装板2、升降机构3、挡板机构4、法兰机构5、样品放置盒7、膜厚检测仪8、导柱9、壳体10、旋转机构11、电极机构12、主波纹管13、连接管道15，支撑板1上固定有导柱9、升降机构3，导柱9上滑动套装安装板2，安装板2上固定挡板机构4，升降机构3与安装板2配合并驱动安装板2沿导柱9上下升降调整相对高度；支撑板1、安装板2之间设置主波纹管13，支撑板1、安装板2之间相对高度（距离）调节范围为120毫米；膜厚检测仪8设置在安装板2上，膜厚检测仪8的探头81安装在连接管道15下部并跟随安装板2上下移动，保持与固定在样品放置盒7下的被加工产品14（基片，通常是硅片）相对高度不变，从而通过石英晶振频率检测方法来测量被加工产品14上镀膜的厚度，壳体10固定在安装板2上，连接管道15上部可以穿过壳体10与法兰机构5配合连接，连接管道15下部穿过安装板2、支撑板1与样品放置盒7连接，连接管道15转动安装在本实施例上，电极机构12的阳极211设置在壳体10上，电极机构12阴极设置在磁控溅射环靶（图上未示出，不属于本实施例）上，电极机构12电压通常在-100～-220伏之间，壳体10上安装有旋转机构11，旋转机构11控制连接管道15转动并带动样品放置盒7转动。本申请所述连接管道15通过二组以上（本实施例为三组）绝缘轴承153转动安装在本实施例上，其水冷形式为双套管，双套管外通道（即两个管子之间的通道）151用来进冷水（也可以用来出水），双套管内通道（即两个管子中的内管通道）152用来排放经过样品放置盒7水冷后的出水（也可以用来进水），凉水从水冷接口51的进水口经过双套管内、外通道中的一个进入样品放置盒7里，再经过双套管内、外通道中的另一个流出水冷接口51的出水口。本申请水冷形式的样品放置盒7直接用来盛水（现有技术里面再放水盒或水袋，水不是直接与样品放置盒7接触，导热困难），样品放置盒7底面紧贴基片，导热效果好。本申请还设置有样品盒固定机构6，样品盒固定机构6包括样品盒固定件61、上固定板62、下固定板63、固定螺母64、小波纹管65，样品盒固定件61安装在连接管道15下部，样品盒固定件61与两块对称配置（相对于连接管道15中心线，下同）的上固定板62连接，两块上固定板62分别与两块对称配置的下固定板63通过固定螺母64铰接，下固定板63与样品放置盒7连接，上固定板62、下固定板63之间套装小波纹管65，用来密封，连接管道15底部高于固定螺母64。操作者可以通过手动方式将固定螺母64拧松，绕固定螺母64将下固定板63转动恰当的角度（本实施例可以向两侧各转动22.5度，总共45度，转动角度大小可以通过在上固定板62或下固定板63设置角度刻度盘来读取，例如在上固定板62设置角度刻度盘，下固定板63顶部中心设置指针，通过指针来指示转动角度）再固定上固定板62、下固定板63，使得样品放置盒7及其底面基片可以选择朝向，提高镀膜效果。本申请所述挡板机构4用来驱动挡板41挡住或者不挡住真空镀膜物。本申请通过转动连接管道15、（样品盒固定机构6）、样品放置盒7，实现本实施例在旋转过程中的直接水冷效果，大幅提高水冷效率。本实施例加热模式的连接管道15可简化为普通的单管，通过导线（加热棒）连接样品放置盒7中间的加热盘（丝）16，通过电加热的方式对样品放置盒7加热，从而对固定在样品放置盒7下面（非紧贴）基片加热。本申请将膜厚仪探头81整合在连接管道15下部上，实现膜厚仪探头81和基片位置相对固定，从而测膜厚更加准确。水冷模式可以将样品放置盒7摆转一个角度，适用面广，镀膜效果好。本申请加热模式和水冷模式可以简单切换，提高了整体设备的通用性。凡是本申请技术特征和技术方案的简单变形或者组合，应认为落入本申请的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于真空镀膜装置的样品台，包括支撑板、安装板、升降机构、挡板机构、样品放置盒、膜厚检测仪、导柱、壳体、旋转机构、电极机构、连接管道，其特征是：所述支撑板上固定有导柱、升降机构，导柱上滑动套装安装板，安装板上固定挡板机构、壳体、膜厚检测仪，升降机构与安装板配合并驱动安装板沿导柱上下升降；膜厚检测仪的探头与固定在样品放置盒下的被加工产品相对高度不变；连接管道转动安装在安装板上并与样品放置盒连接，电极机构的阳极设置在壳体上，电极机构阴极设置在磁控溅射环靶上，壳体上安装有旋转机构，旋转机构用来驱动连接管道转动。

【技术特征摘要】
1.一种用于真空镀膜装置的样品台，包括支撑板、安装板、升降机构、挡板机构、样品放置盒、膜厚检测仪、导柱、壳体、旋转机构、电极机构、连接管道，其特征是：所述支撑板上固定有导柱、升降机构，导柱上滑动套装安装板，安装板上固定挡板机构、壳体、膜厚检测仪，升降机构与安装板配合并驱动安装板沿导柱上下升降；膜厚检测仪的探头与固定在样品放置盒下的被加工产品相对高度不变；连接管道转动安装在安装板上并与样品放置盒连接，电极机构的阳极设置在壳体上，电极机构阴极设置在磁控溅射环靶上，壳体上安装有旋转机构，旋转机构用来驱动连接管道转动。2.根据权利要求1所述用于真空镀膜装置的样品台，其特征是：所述连接管道为双套管，双套管通过水冷接口分别与进水管、排水管连通，进水通过双套管内、外通道中的一个与样品放置盒换热后再经过双套管内、外通道中的另一个流出水冷接口，样品放置盒底面紧贴被加工产品。3.根据权利要求1或2所述用于真空镀膜装置的样品台，其特征是：还设置有样品盒固定机构，样品盒固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：金炯，杨林，姜琼，
申请(专利权)人：杭州赛威斯真空技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33