一种耐 UV 消影膜涂层材料制造技术

技术编号:18455426 阅读:92 留言:0更新日期:2018-07-18 11:28
本发明专利技术涉及光学领域,公开了一种耐 UV 消影膜涂层材料,包括:多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂5‑20份、纳米氧化锆5‑15份、纳米氧化硅1‑15份、硅酸盐溶液5‑15份、丙烯酰吗啉2‑7份、流平剂 0.2‑2.0份、光引发剂1‑3份、有机溶剂23‑80.8份。通过添加纳米氧化硅减少纳米氧化锆的使用量,由于二者的内在晶体结构不同、外在颗粒结构也不相同,在混合的时候可以相互填充之间的缝隙,使颗粒之间的缝隙有更好的致密度,从而解决了氧化锆的磨碎程度较难,纳米级氧化锆的成本较高,单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化硅和硅酸盐的折射率与基层的折射率相近,进一步减少影像影响、提高视觉效果。

【技术实现步骤摘要】
一种耐UV消影膜涂层材料
本专利技术涉及光学领域,具体涉及一种耐UV消影膜涂层材料。
技术介绍
消影膜是电容ITO导电膜的重要基础材料,电容ITO膜在后期制程中一般会做图案,因ITO线(ITO折射率=1.8)与蚀刻后无ITO区(普通HC折射率=1.5)存在较大折射率差异,造成图案可视性,即所谓的色差,会大大影响TP使用过程视觉效果。为此,必须进行消影处理,通常有两种方法进行消影:——干法:即在PET基材上溅镀多层不同折射率的金属氧化物,通过控制各层折射率和涂层厚度达到减低色差,达到消影目的。——湿法:即在PET基材上预先涂布一层高折射率涂层(通常具备硬化层功能),进而提高蚀刻区涂层折射率接近ITO线折射率,该涂层一般称为IM(消影膜)涂层。上述消影膜涂层的涂层材料目前一般是UV固化树脂+改性分散的纳米氧化锆,由于在ITO膜后期使用过程中常常要进行UV固化处理,这种材料形成的消影膜涂层在经多次UV照射后,因涂层材料和PET基材收缩率不一致,前者收缩率大于后者,故会造成涂层脱落问题,严重影响导电膜的使用。在申请号为201510884859.8的专利中公开了一种消影膜涂层材料,由于氧化锆的硬度较大,氧化锆的磨碎程度较难,纳米级氧化锆的成本较高,单一材料之间的致密度较低。因此,需对现有技术加以改进。
技术实现思路
本专利技术提供了一种耐UV消影膜涂层材料,用以解决现有技术中氧化锆的磨碎程度较难,纳米级氧化锆的成本较高,单一材料之间的致密度较低的问题。为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:一种耐UV消影膜涂层材料,该涂层材料包括按质量份计的下述组分:多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂5-20份、纳米氧化锆5-15份、纳米氧化硅1-15份、硅酸盐溶液5-15份、丙烯酰吗啉2-7份、流平剂0.2-2.0份、光引发剂1-3份、有机溶剂23-80.8份。相对于现有技术而言,通过添加纳米氧化硅减少纳米氧化锆的使用量,同时由于纳米氧化硅和纳米氧化锆的内在晶体结构不同,两者的外在颗粒结构也不相同,从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙,使颗粒之间的缝隙有更好的致密度,从而解决了氧化锆的磨碎程度较难,纳米级氧化锆的成本较高,单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化硅和硅酸盐的折射率与基层的折射率相近,进一步减少影像影响、提高视觉效果。进一步地,所述组分的质量份数进一步如下:多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂10-15份、纳米氧化锆10-15份、纳米氧化硅5-10份、硅酸盐溶液5-15份、丙烯酰吗啉2-5份、流平剂0.2-1.0份、光引发剂1-2份、有机溶剂47-66.8份。进一步地,所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为2-6,分子量1000-20000。进一步地,所述光引发剂选自光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂TPO和光引发剂651之一。进一步地,所述有机溶剂选自酮类溶剂、脂类溶剂、醇类溶剂或醚类溶剂,或者是酮类溶剂、脂类溶剂、醇类溶剂和醚类溶剂中两种以上的混合物。进一步地,所述酮类溶剂是指丁酮、丙酮、2-戊酮、异佛尔酮和甲基异丁基酮中的一种或两种以上的混合物,所述脂类溶剂是指乙酸乙酯和乙酸丁酯中的一种或两种以上的混合物,所述醇类溶剂是指乙醇和异丙醇中的一种或两种以上的混合物;所述醚类溶剂是指丙二醇单甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或两种以上的混合物。进一步地,所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂选自:脂肪族聚氨酯三甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯四甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯五甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯六甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基五丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基六丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基四丙烯酸树脂中的一种。进一步地,所述硅酸盐溶液为硅酸钠、硅酸钾饱和溶液中的一种。本专利技术由于使用以上技术方案,使其具有的有益效果是:通过添加纳米氧化硅减少纳米氧化锆的使用量,同时由于纳米氧化硅和纳米氧化锆的内在晶体结构不同,两者的外在颗粒结构也不相同,从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙,使颗粒之间的缝隙有更好的致密度,从而解决了氧化锆的磨碎程度较难,纳米级氧化锆的成本较高,单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化硅和硅酸盐的折射率与基层的折射率相近,进一步减少影像影响、提高视觉效果。通过进一步选择多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂及有机溶剂,进一步降低生产成本,提高涂层材料的效果,保持了原有的很高的耐UV特性,能够有力的保持涂层的消影效能,也即提高了ITO导电膜品质。具体实施方式为了使专利技术实现的技术手段、创造特征、达成目的和功效易于明白了解,进一步阐述本专利技术。下面结合实施例对本案提供的耐UV消影膜涂层材料进行具体说明如下:下面的表格为本专利技术例举的四种实施例组分的质量份统计:按照各实施例的配方要求进行配液,分散混合好,通过微凹版涂布方式,在东丽UH33基材(PET)的高折射率底涂面涂布干厚1.5μm的涂层,经热风干燥、500mj/cm2UV固化后成消影膜。对该消影膜进行透光率、雾度、反射率和耐UV附着力测试,测试结果见下表:测试项目实施例一实施例二实施例三实施例四透光率92.3%91.7%92.0%91.9%雾度0.490.460.560.53反射率6.04%6.23%6.47%6.37%通过添加纳米氧化硅减少纳米氧化锆的使用量,同时由于纳米氧化硅和纳米氧化锆的内在晶体结构不同,两者的外在颗粒结构也不相同,从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙,使颗粒之间的缝隙有更好的致密度,从而解决了氧化锆的磨碎程度较难,纳米级氧化锆的成本较高,单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化硅和硅酸盐的折射率与基层的折射率相近,进一步减少影像影响、提高视觉效果。通过进一步选择多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂及有机溶剂,进一步降低生产成本,提高涂层材料的效果,保持了原有的很高的耐UV特性,能够有力的保持涂层的消影效能,也即提高了ITO导电膜品质。以上对专利技术的具体实施例进行了描述。需要理解的是,专利技术并不局限于上述特定实施方式,其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施;本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改做出若干简单推演、变形或替换,这并不影响专利技术的实质内容。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1. 一种耐 UV 消影膜涂层材料,其特征在于,该涂层材料包括按质量份计的下述组分:多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂5‑20份、纳米氧化锆 5‑15 份、纳米氧化硅1‑15份、硅酸盐溶液5‑15份、丙烯酰吗啉2‑7份、流平剂 0.2‑2.0份、光引发剂1‑3份、有机溶剂23‑80.8份。

【技术特征摘要】
1.一种耐UV消影膜涂层材料,其特征在于,该涂层材料包括按质量份计的下述组分:多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂5-20份、纳米氧化锆5-15份、纳米氧化硅1-15份、硅酸盐溶液5-15份、丙烯酰吗啉2-7份、流平剂0.2-2.0份、光引发剂1-3份、有机溶剂23-80.8份。2.根据权利要求1所述的一种耐UV消影膜涂层材料,其特征在于,所述组分的质量份数进一步如下:多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂10-15份、纳米氧化锆10-15份、纳米氧化硅5-10份、硅酸盐溶液5-15份、丙烯酰吗啉2-5份、流平剂0.2-1.0份、光引发剂1-2份、有机溶剂47-66.8份。3.根据权利要求1所述的一种耐UV消影膜涂层材料,其特征在于:所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为2-6,分子量1000-20000。4.根据权利要求1所述的一种耐UV消影膜涂层材料,其特征在于:所述光引发剂选自光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂TPO和光引发剂651之一。5.根据权利要求1所述的一种耐UV消影膜涂层材料...

【专利技术属性】
技术研发人员:任国伟
申请(专利权)人:江苏日久光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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