一种耐 UV 消影膜涂层材料制造技术

本发明专利技术涉及光学领域，公开了一种耐UV消影膜涂层材料，该涂层材料包括按质量份计的下述组分：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂5‑20份、纳米氧化锆10‑20份、纳米氧化铪1‑15份、丙烯酰吗啉2‑7份、流平剂0.2‑2.0份、光引发剂1‑3份、有机溶剂 33‑80.8份。本发明专利技术通过添加纳米氧化铪减少纳米氧化锆的使用量，同时由于纳米氧化铪和纳米氧化锆的内在晶体结构不同，两者的外在颗粒结构也不相同，从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙，使颗粒之间的缝隙有更好的致密度，从而解决了氧化锆的磨碎程度较难，纳米级氧化锆的成本较高，单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化铪有更好的光透性，进一步提高了透光率。

【技术实现步骤摘要】
一种耐UV消影膜涂层材料
本专利技术涉及光学领域，具体涉及一种耐UV消影膜涂层材料。
技术介绍
消影膜是电容ITO导电膜的重要基础材料，电容ITO膜在后期制程中一般会做图案，因ITO线(ITO折射率＝1.8)与蚀刻后无ITO区(普通HC折射率＝1.5)存在较大折射率差异，造成图案可视性，即所谓的色差，会大大影响TP使用过程视觉效果。为此，必须进行消影处理，通常有两种方法进行消影：——干法：即在PET基材上溅镀多层不同折射率的金属氧化物，通过控制各层折射率和涂层厚度达到减低色差，达到消影目的。——湿法：即在PET基材上预先涂布一层高折射率涂层(通常具备硬化层功能)，进而提高蚀刻区涂层折射率接近ITO线折射率，该涂层一般称为IM(消影膜)涂层。上述消影膜涂层的涂层材料目前一般是UV固化树脂+改性分散的纳米氧化锆，由于在ITO膜后期使用过程中常常要进行UV固化处理，这种材料形成的消影膜涂层在经多次UV照射后，因涂层材料和PET基材收缩率不一致，前者收缩率大于后者，故会造成涂层脱落问题，严重影响导电膜的使用。在申请号为201510884859.8的专利中公开了一种消影膜涂层材料，由于氧化锆的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于，该涂层材料包括按质量份计的下述组分：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂5‑20 份、纳米氧化锆 10‑20份、纳米氧化铪1‑15份、丙烯酰吗啉2‑7 份、流平剂0.2‑2.0份、光引发剂1‑3份、有机溶剂33‑80.8份。

【技术特征摘要】
1.一种耐UV消影膜涂层材料，其特征在于，该涂层材料包括按质量份计的下述组分：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂5-20份、纳米氧化锆10-20份、纳米氧化铪1-15份、丙烯酰吗啉2-7份、流平剂0.2-2.0份、光引发剂1-3份、有机溶剂33-80.8份。2.根据权利要求1所述的一种耐UV消影膜涂层材料，其特征在于：所述组分的质量份数进一步如下：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂10-15份、纳米氧化锆10-20份、纳米氧化铪2-6份、丙烯酰吗啉2-5份、流平剂0.2-1.0份、光引发剂1-2份、有机溶剂51-74.8份。3.根据权利要求1所述的一种耐UV消影膜涂层材料，其特征在于：所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为2-6，分子量1000-20000。4.根据权利要求1所述的一种耐UV消影膜涂层材料，其特征在于：所述光引发剂选自光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂TPO和光引发剂651之一。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：任国伟，
申请(专利权)人：江苏日久光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32