精细掩模板及其制备方法技术

本公开涉及一种精细掩模板及其制备方法，涉及显示技术领域。该精细掩模板包括母板和薄膜层，其中母板包括多个呈阵列排布的掩模单元，各掩模单元包括位于掩模单元中的第一开口区及第一开口区的边缘区域；薄膜层设于母板上，包括多个与掩模单元一一正对的蒸镀有效区且各蒸镀有效区均包括多个呈阵列排布的第二开口区。本精细掩模板一方面克服了常规的母板由于刻蚀精度的限制而无法提高分辨率的问题，提高了分辨率；再一方面，薄膜层与母板的开口可以采用更多样的形状及加工精度，扩大了掩模板的应用范围；另一方面薄膜层与母板可以以多样的形式进行加工及组装，制作简单，降低了成本。

Fine mask and its preparation method

The disclosure relates to a fine mask and a preparation method thereof, and relates to the display technology field. The fine mask includes a motherboard and a film layer, wherein the motherboard includes a plurality of mask units arranged in array, each mask unit including the first opening area in the mask unit and the edge area of the first opening area, and the film layer is placed on the motherboard, including a plurality of steam plating effective regions that are directly on the mask unit, and each is steamed. The effective areas include multiple second opening regions arranged in array. On the one hand, this fine mask overcomes the problem that the conventional motherboard can not improve the resolution because of the limitation of the etching precision, and improves the resolution. On the other hand, the opening of the film layer and the motherboard can adopt more shapes and machining precision, enlarges the application model of the mask; on the other hand, the film layer and the motherboard can be used. It can be processed and assembled in a variety of forms, making the production simple and reducing the cost.

【技术实现步骤摘要】
精细掩模板及其制备方法
本公开涉及显示
，尤其涉及一种精细掩模板及其制备方法。
技术介绍
随着光学技术和半导体技术的发展，OLED(OrganicLightEmittingDisplay，有机发光二极管显示器)以其独有的优势如响应速度快、全固化、自发光等备受市场的关注。OLED显示器的应用也非常多元化、柔性、透明及微显示等等都有OLED的身影。目前，OLED全彩化有两种方式，一是直接利用精细金属掩膜(FMM，FineMetalMask)分别蒸镀RBG像素，另外是利用白光OLED加彩色滤光片(CF，ColorFilter)的方式。其中采用FMM的方式蒸镀RGB像素，优点是无需CF，避免了亮度的损失，同时单独的RBG有较高的发光效率，因此能够获得较高的色域和较高的显示亮度；但缺点是FMM的精度有限，现有技术FMM最高能够做到400PPI(Pixelsperinch，每英寸像素)的产品，无法再提升PPI。而白光OLED加CF的方式，由于没有FMM的限制，可以持续的提升PPI，但是由于CF的存在，降低了透过率，使得OLED的亮度和色域都有所损失。目前，对高PPI应用的需求越来越广泛，而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制作OLED显示基板的精细掩模板，其特征在于，包括：母板，所述母板包括多个呈阵列排布的掩模单元，所述掩模单元包括位于掩模单元中的第一开口区及所述第一开口区的边缘区域；薄膜层，设于所述母板上，所述薄膜层包括多个与所述掩模单元一一正对的蒸镀有效区，各蒸镀有效区均包括多个呈阵列排布的第二开口区。

【技术特征摘要】
1.一种用于制作OLED显示基板的精细掩模板，其特征在于，包括：母板，所述母板包括多个呈阵列排布的掩模单元，所述掩模单元包括位于掩模单元中的第一开口区及所述第一开口区的边缘区域；薄膜层，设于所述母板上，所述薄膜层包括多个与所述掩模单元一一正对的蒸镀有效区，各蒸镀有效区均包括多个呈阵列排布的第二开口区。2.根据权利要求1所述的精细掩膜板，其特征在于，所述蒸镀有效区的第二开口区的特征尺寸与所述薄膜层的厚度相等。3.根据权利要求1所述的精细掩膜板，其特征在于，所述母板的材质包括因瓦合金。4.根据权利要求3所述的精细掩膜板，其特征在于，所述无机材料包括氮化硅、氧化硅以及氧化铝中的一种或多种。5.一种用于制作OLED显示基板的精细掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：提供一母板，在所述母板上形成多个呈阵列排布的第一开口区，并以所述第一开口区及所述第一开口区的边缘区域构成掩模单元；在所述母板上形成薄膜层，在所述薄膜层上形成多个与所述母板的所述掩模单元一一正对的蒸镀有效区；在各所述蒸镀有效区均形成多个呈阵列排布的第二开口区。6.根据权利要求5所述的精细掩膜板的制备方法，其特征在于，所述在所述母板上形成多个呈阵列排布的第一开口区包括：对所述母板进行第一次刻蚀后形成多个呈阵列排布的半刻蚀区域和环绕所述半刻...

【专利技术属性】
技术研发人员：王灿，陈小川，玄明花，张粲，岳晗，杨明，肖丽，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11